「PICOSECOND」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Preferably, the pulse width of the ultrashort pulse laser is 200 femtosecond to 3 picosecond.例文帳に追加

好ましくは、超短パルスレーザーのパルス幅は、２００フェムト秒〜３ピコ秒である。 - 特許庁

In these measurements, a picosecond thermoreflectance method is used.例文帳に追加

これらの測定に際しては、図１に示すようなピコ秒サーモリフレクタンス法を用いる。 - 特許庁

HIGH ENERGY OPTICAL FIBER AMPLIFIER FOR PICOSECOND-NANOSECOND PULSES FOR ADVANCED MATERIAL PROCESSING APPLICATIONS例文帳に追加

先進材料処理応用のためのピコ秒−ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器 - 特許庁

It is preferable that the ultra-short pulse lasers are picosecond- to femtosecond-pulse lasers.例文帳に追加

好ましくは、超短パルスレーザー光をピコ秒からフェムト秒のパルスレーザー光とすること。 - 特許庁

To provide an ultrashort pulse light generating device which can stably generate a monochromatic picosecond laser beam.例文帳に追加

単色のピコ秒レーザーを安定に発生させることができる超短パルス光発生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method, a system, and an apparatus for operating a picosecond imaging circuit analysis (PICA)/high-current source system.例文帳に追加

ピコ秒イメージ化回路解析（ＰＩＣＡ）／高電流源システムを動作させる方法、システムおよび装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a highly accurate current measuring means for measuring a current waveform with time accuracy of picosecond and current accuracy of microampere.例文帳に追加

ピコ秒台の時間精度とマイクロアンペア台の電流精度とで電流波形を計測する、高精度の電流計測手段を提供する。 - 特許庁

The state change of the thin film, for example, the progress of crystallization and the transition of the growth of a crystalline particle is acquired at a picosecond unit.例文帳に追加

これに基づいて、薄膜の状態変化、例えば結晶化の進行や、結晶粒の成長の変遷を、ピコ秒単位に知ることができる。 - 特許庁

To provide a timing signal generating circuit having high accuracy and a high resolution and, in particular, a high resolution of picosecond or subpicosecond or above.例文帳に追加

高精度及び高分解能であり、特にピコ秒又はサブピコ秒以上の高分解能を有するタイミング信号発生回路を提供する。 - 特許庁

This invention is used for processing the material by using the laser pulse having the wide spectrum band width, particularly, a femtosecond pulse and a picosecond pulse.例文帳に追加

本発明は、広スペクトル帯域幅、特にフェムト秒パルスおよびピコ秒パルスを有するレーザ・パルスによって材料を加工するために用いられる。 - 特許庁

To provide an impulse generator having a time resolution of a ps(picosecond)-order, and generating an impulse of a voltage which can drive a switch.例文帳に追加

ｐｓ（ピコ秒）オーダーの時間分解能を有し、かつスイッチ駆動が可能な電圧のインパルスを生成するインパルス生成装置を提供する。 - 特許庁

Scanning of picosecond laser is performed, by moving a stage on which the crystal substrate 101 is placed (fixed) within a plane of the stage, for example.例文帳に追加

このピコ秒レーザの走査は、例えば、水晶基板１０１が載置（固定）されるステージを、このステージの平面内で移動させることで行えばよい。 - 特許庁

To provide a configuration capable of frequency-converting a pulse laser beam in which the pulse width per pulse is in a range not more than a picosecond, while suppressing noise light.例文帳に追加

１パルス当たりのパルス幅がピコ秒以下のオーダの幅であるパルスレーザ光を、ノイズ光を抑えつつ周波数変換しうる構成を提供する。 - 特許庁

The picosecond imaging circuit analysis (PICA)/high current source system includes a step for applying a pulse from a high current pulse source to a device under test (DUT).例文帳に追加

ピコ秒イメージ化回路解析（ＰＩＣＡ）／高電流源システムは、高電流パルス源から被試験デバイス（ＤＵＴ）にパルスを加えるステップを含む。 - 特許庁

After forming an injection hole 2 by the nanosecond laser beam, the picosecond laser beam is applied to the inner circumferential wall of the injection hole 2 to perform finishing work.例文帳に追加

ナノ秒レーザ光によって噴射孔２を形成した後、該噴射孔２の内周壁に対してピコ秒レーザを照射し、仕上げ加工を施す。 - 特許庁

In the picosecond laser, pulse width is 10^-10-10^-15 sec, wavelength is 266-1,064 nm, and pulse energy is 1-300 μJ.例文帳に追加

ピコ秒レーザは、パルス幅が１０^−１０〜１０^−１５秒の範囲であり、波長が２６６ｎｍ〜１０６４ｎｍであり、パルスエネルギーが１μＪ〜３００μＪである。 - 特許庁

The beam emitted from a titanium/sapphire laser 1 which generates picosecond pulsed light is split into a heating beam H and a temperature measuring beam P by means of a beam splitter 2.例文帳に追加

ピコ秒のパルス光を発生するチタン／サファイヤ・レーザー１から発せられるビームは、ビームスプリツタ２で加熱ビームＨと測温ビームＰに分割される。 - 特許庁

To precisely control the position of the condensation spot of pulse laser beams in optical machining, optical recording, or the like in an optical machining technique, an optical recording technique, or the like using each kind of pulse laser, such as an ultra-short pulse laser including a femtosecond laser, and a short pulse laser, such as a picosecond laser and a sub-picosecond laser, for a light source.例文帳に追加

フェムト秒レーザーなどの超短パルスレーザーや、ピコ秒レーザーやサブピコ秒レーザーなどの短パルスレーザーなどのような各種のパルスレーザーを光源に用いた光加工技術や光記録技術などにおいて、光加工や光記録などを行う際におけるパルスレーザー光の集光スポットの位置制御を高精度で行う。 - 特許庁

The three-layer substance is arranged on a transparent substrate 4, and the rear surface of the thin film 3 is heated by picosecond light pulses 4 from the lower part in the Figure.例文帳に追加

この３層物質を透明基板４上に配置し、図中下方から透明基板４を通してピコ秒光パルスにより第２金属薄膜３の下面を加熱する。 - 特許庁

A laser beam (picosecond laser) whose pulse width and pulse interval are set to be 15 pico (10^-12) second and whose pulse-like wavelength is 1,064 nm is irradiated at a working speed of 0.5 mm/second.例文帳に追加

ここで、パルス幅およびパルス間隔を１５ピコ（１０^-12）秒としたパルス状の波長１０６４ｎｍのレーザビーム（ピコ秒レーザ）を加工速度０．５ｍｍ／秒で照射する。 - 特許庁

An etching residue produced on a crystal piece formed in a crystal wafer by an etching technique, in particular, wet etching is removed by picosecond laser being a pulse laser.例文帳に追加

エッチング技術により、特にウェットエッチングによって水晶ウェハに形成される水晶片に生じたエッチング残りをパルスレーザであるピコ秒レーザによって除去する。 - 特許庁

The implementation of optimized seed sources in conjunction with amplifier chains comprising at least one nonlinear fiber amplifier allows for the generation of near bandwidth-limited high-energy picosecond pulses.例文帳に追加

少なくとも一つの非線形ファイバ増幅器を含む増幅器チェーンと共に最適化されたシード光源を実施することは、バンド幅制限近い高エネルギピコ秒パルスの発生を可能にする。 - 特許庁

To provide a compact short pulse electron beam generating device capable of generating a short pulse, in particular a pulse electron beam in a time period of sub picosecond, and a small-sized pulse electron spectroscopic analyzing device.例文帳に追加

主として、非常にコンパクトで、短パルス、特に、サブピコ秒の時間幅のパルス電子ビームを生成する短パルス電子ビーム発生装置と、小型パルス電子分光分析装置を提供する。 - 特許庁

The irradiated light pulses are converted into heat within one picosecond in the thin film 3, and they are diffused in an interface/the thin film 1/an interface so as to reach the thin film 2.例文帳に追加

照射された光パルスは第２金属薄膜層において１ピコ秒以内に熱に変換され、界面／非金属薄膜層／界面を拡散して反対側の第１金属薄膜２に達する。 - 特許庁

Phosphors, containing absorption of a single photon in short-wavelength band, are excited by strongly-imaged pulse on the sub-picosecond time scale from laser beam of relatively longer wavelength band.例文帳に追加

短い波長領域における単一光子の吸収を有する蛍光体は、比較的長い波長領域のレーザ光による、強く結像されたサブピコ秒のパルスのビームにより励起させられる。 - 特許庁

When a change in the temperature on the surface of the thin film 2 is measured, the thermal diffusivity can be measured precisely by a picosecond thermoreflectance method.例文帳に追加

この第１金属薄膜表面の温度変化を測定することにより、既に本発明者等が特許出願等で提案しているピコ秒サーモリフレクタンス法によって正確に測定することができる。 - 特許庁

To provide an method and apparatus for generating an optical pulse of a picosecond order (high duty ratio) which exactly and stably operates in optional repetition frequency, has high OSNR, and is not restricted by an RF modulation frequency.例文帳に追加

任意の繰返し周波数において正確にかつ安定に動作し、なお高OSNRを有し、かつRF変調周波数に制限されないピコ秒級の（デューティ比が高い）光パルスの生成方法および装置を提供する。 - 特許庁

The semiconductor wafer 1 where many elements 2 are formed is suctionally held on an x-y table 4 and irradiated with very short pulse laser light 7 whose pulse width is ≤1 picosecond along scribe lines between the elements 2 and 2, thereby cutting the wafer.例文帳に追加

多数の素子２を形成した半導体ウェーハ１をｘ−ｙテーブル４に吸着保持して、前記各素子２，２間のスクライブラインに沿って、パルス幅が１ピコ秒以下の超短パルスレーザ７を照射して切断する。 - 特許庁

Metal vapor V produced by the application of the picosecond laser beam is force-fed inward of the fuel injection nozzle 1, and rapidly sucked and removed via the suction nozzle 94.例文帳に追加

ピコ秒レーザが照射されることに伴って発生した金属蒸気Ｖは、前記圧縮ガスによって燃料噴射ノズル１の内方に圧送されるとともに、前記吸引ノズル９４を介して速やかに吸引除去される。 - 特許庁

To enable it to realize per ps (picosecond) in time delay matching in combining frequencies when an optical signal is restored which is transmitted by a high bit rate of 40 Gb/s or more per second, and by which a DBPSK modulation or a DQPSK modulation is carried out.例文帳に追加

４０Ｇｂ／ｓ以上の高ビットレートで伝送されるＤＢＰＳＫ変調またはＤＱＰＳＫ変調された光信号を復調する際の合波における遅延時間整合をｐｓ単位で実現できるようにする。 - 特許庁

The laser irradiation part is composed of a picosecond pulsed laser and a femtosecond pulsed laser emitting ultrashort pulsed laser in visible to near-infrared areas, and the laser lights emitted therefrom are sent to the grip part through an irradiation light guide body 41 wrapped with a cable.例文帳に追加

レーザ照射部は、可視〜近赤外域の超短パルスレーザ光を出射するピコ秒パルスレーザやフェムト秒パルスレーザからなり、そこから出射されたレーザ光はケーブルに内包された照射用導光体４１を通って、把持部へ送られる。 - 特許庁

The inverse dispersion fiber 10 in accordance with the preferred embodiment has a chromatic dispersion of approximately -44 picosecond/(nanometer-kilometer) and a relatively large effective core area Aeff, that is, for example, greater than approximately 30.0μm^2 both at a wavelength of 1,550nm.例文帳に追加

好ましい実施形態による逆分散ファイバ１０は約−４４ピコ秒／（ナノメートル−キロメートル）の色分散、および相対的に大きな、すなわち、例えば約３０μｍ^２を超える実効面積Ａｅｆｆを、両方共に１５５０ｎｍの波長で有する。 - 特許庁

The quartz is cut by irradiating a cut area 2 of the quartz 1 with the ultrashort pulse laser having a pulse width of 1 picosecond to 100 nanosecond from a laser oscillator 11 and making a plurality of laser irradiation marks over the entire surface of the cut area.例文帳に追加

パルス幅が１ピコ秒乃至１００ナノ秒の超短パルスレーザをレーザ発振器１１より石英１の切断面２に照射し、複数のレーザ照射痕を前記切断面の全面に亘って作ることにより石英を分断する。 - 特許庁

The aluminum nitride sintered compact is characterized in that, in defect analysis in positron annihilation method, the ratio of positrons annihilated within 180 ps (picosecond) in aluminum nitride crystals is ≥90%, and preferably has thermal conductivity of ≥200 W/mK.例文帳に追加

本発明に係る窒化アルミニウム焼結体は、陽電子消滅法における欠陥分析において、窒化アルミニウム結晶中で、180ps(ピコ秒)内に消滅する陽電子の割合が90%以上であることを特徴とし、好ましくは200W／ｍK以上の熱伝導率を有する。 - 特許庁

On the surface of the sealing metal (for example, molybdenum foil) 14 embedded in the sealing part 13 of the high-pressure discharge lamp, a laser beam with a pulse width of 2×10^-11 seconds to 1×10^-9 seconds emitted from a picosecond laser oscillator is irradiated to carry out surface treatment.例文帳に追加

高圧放電ランプの封止部１３に埋設された封止用金属（例えばモリブデン箔）１４の表面に、ピコ秒レーザー発振器から出射されるパルス幅が２×１０^-11 秒〜１×１０^-9秒のレーザー光を照射して表面加工を行う。 - 特許庁

Thus method comprises: a process in which a thin film coating layer 2 is formed on the base material 1 surface; and a process in which the thin film coating layer is irradiated with a femtosecond or picosecond laser pulse having the prescribed intensity and many minute projections are formed on the thin film coating surface in an irradiation region.例文帳に追加

本発明の薄膜表面微細突起形成方法は、基材１表面に薄膜コーティング層２を形成する工程と、前記薄膜コーティング層に向けて所定強度のフェムト秒ないしはピコ秒パルスレーザを照射し、当該照射領域内の薄膜コーティング表面に多数の微細突起を形成する工程とを有する。 - 特許庁

Laser light from a laser oscillator for continuously radiating optical pulses having the spatial and temporal large energy density at the pulse emitting time not more than 1 picosecond is radiated to a workpiece of a multilayer structure having the different wave length absorptance in a specified pattern and with specified energy density, and the workpiece is machined.例文帳に追加

１ピコ秒以下のパルス放射時間で空間的時間的なエネルギー密度の大きい光パルスを連続放射するレーザ発振器からのレーザ光を、前記レーザ光の波長吸収率が異なる多層構造の被加工物に、所定パターン、所定エネルギー密度にて照射し、前記被加工物を加工するように構成する。 - 特許庁

The conductive pattern manufacturing method irradiates a laser beam L of an ultrashort pulse whose width is less than 1 picosecond in a predetermined pattern to a light-permeable conductive layer a including an ultrafine inorganic conductive fiber provided in at least one side of an insulating base material 11 via condensing means 42.例文帳に追加

本発明の導電パターンの製造方法は、絶縁性基材１１の少なくとも一方の面に設けられた、極細の無機導電繊維を含む光線透過性導電層ａに、集光手段４２を介してパルス幅１ｐ秒未満の極短パルスのレーザ光Ｌを所定のパターンで照射する。 - 特許庁

The spatially distributed pulse train converting device 20 converts pulsed laser light of incident femtosecond laser pulses or picosecond laser pulses into spatially distributed pulse train laser light 3 composed of a plurality of spatially distributed pulse laser lights with time differences proportional to level difference intervals through reflection by the reflecting surfaces 22a, 22b across the boundary line 23.例文帳に追加

この空間分布パルス列変換装置２０により、入射するフェムト秒レーザーパルス又はピコ秒レーザーパルスのパルスレーザーを、境界線２３を跨ぐ反射面２２ａ，２２ｂでの反射により段差間隔に比例する時間差で空間的に分布した複数のパルスレーザー光からなる空間分布パルス列レーザー光３に変換する。 - 特許庁

A detection method of an undesired double or multiple pulse state in an ultrashort pulse laser system which is operated in a soliton regime and generates femtosecond or picosecond pulses, includes a laser medium for amplification which produces laser emission, a laser resonator having at least one resonator mirror, and a pump source.例文帳に追加

ソリトン状態で動作しフェムト秒又はピコ秒パルスを生成する超短パルスレーザーシステムにおける望ましくない二重又は多重パルス状態の検出方法は、レーザー発光の生成のための増幅用レーザー媒質と、少なくとも一つの共鳴器ミラーを有するレーザー共鳴器と、ポンプソースを備える。 - 特許庁

The optical head apparatus includes a laser driving circuit (9) supplying, to a laser element (20), a driving current regulated so that light output from the laser element includes continuous two or more peaks and each interval between two peaks is 200 ps (picosecond) or less, wherein the temperature of an information recording layer of an optical disk is increased in a short time to form a recording mark.例文帳に追加

この発明は、レーザ素子（２０）に、レーザ素子から出力される光が連続した２以上のピークを含み、そのピーク相互間の間隔が２００ｐｓ（ピコ秒）以下となるよう規定された駆動電流を供給するレーザ駆動回路（９）を含み、短期間で光ディスクの情報記録層の温度を昇温して記録マークを形成することを特徴とする。 - 特許庁

It is favorable that the laser beam becomes a pulse laser beam including a series of pulses, the wave length of the beam in the laser beam 14 can be selected from a range with several wave lengths when the specified operation to be executed and a doctor to participate require and also the respective pulses of the beam 14 are provided with a continuity time within the range of a picosecond or a femtosecond.例文帳に追加

レーザ光線は一連のパルスを含むパルスレーザ光線となることが好ましく、実施すべき特定の手術、および参加医師の希望により、レーザ光線１４の光の波長はいくつかの波長範囲から選択することができるとともに、光線１４の各パルスはピコ秒またはフェムト秒の範囲にある持続時間を有する。 - 特許庁

The surface exposed to the hole H1 of the n^+ embedded layer 6 of the insulating layer 4 is irradiated with picosecond to femtosecond pulse laser beam, whereby the insulating layer 4 is removed, and the surface 7 exposed to the hole H1 of the n^+ embedded layer 6 is also roughed by the pulse laser beam to form the irregular part 22 entirely over the surface 7.例文帳に追加

絶縁層４のｎ^＋型埋込み層６の孔Ｈ１に露出する面にピコ秒〜フェムト秒パルスレーザ光が照射されると、絶縁層４が除去されると共に、ｎ^＋型埋込み層６の孔Ｈ１に露出する面７がピコ秒〜フェムト秒パルスレーザ光に荒らされ、不規則な凹凸２２が面７の全面に形成される。 - 特許庁

From a structure formed of a micro-material or member in a micrometer order easy to be subjected to thermal-chemical influence together with the other material, for exposing the desired micro-material or member by mechanical machining, using an ultrashort pulse laser with an oscillation pulse width of ≤1 picosecond, first, machining is performed with power higher than an abrasion threshold value from the circumference of the object sealed into a solid material.例文帳に追加

熱的、化学的影響を受けやすいマイクロメートルオーダーの微小な物質又は、部材が他の物質と共に形成している構造物から、所望の微小な物質又は、部材を機械的な加工で露出させるために、発振パルス幅が１ピコ秒以下である超短パルスレーザーを用いて、第１に固体材料内部に封じ込められた目標物の周囲からアブレーションしきい値よりも高いパワーで加工する。 - 特許庁

A metal film 3 is formed on a base 1, a trench 5 is formed in the base 1 by irradiating a femtosecond laser beam 4 having a pulse width of less than 1 picosecond from above the metal film 3, the trench 5 is filled with the metal composing the metal film 3 while melting that metal, and then the metal is cooled and solidified thus obtaining a wiring conductor 2 buried in the base 1.例文帳に追加

基材１上に金属膜３を形成し、金属膜３の上方から、パルス幅が１ピコ秒未満のフェムト秒レーザー光４を照射することによって、基材１に溝５を形成するとともに、金属膜３を構成していた金属を溶融させながら、溶融した金属を溝５に充填し、次いで、金属を冷却・固化することによって、基材１に埋設された配線導体２を得る。 - 特許庁