Patternを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 50000件
METHOD FOR FORMING PATTERN ON DISPLAY PANEL AND APPARATUS THEREFOR例文帳に追加
ディスプレイパネルのパターン形成方法及び形成装置 - 特許庁
To provide a pattern drawing device and a pattern drawing method capable of drawing a pattern in an appropriate position in each region even when a reference pattern is individually formed in a plurality of regions on a substrate surface.例文帳に追加
基板表面の複数の領域に個別に基準パターンが形成されている場合であっても、各領域内の適正位置にパターンを描画することができるパターン描画装置およびパターン描画方法を提供する。 - 特許庁
Four patterns of concentrated blow pattern, one side deflection blow pattern, scattering pattern, and other side deflection blow pattern, are obtained by rotating three wind direction adjusting louvers A to C with an angular pitch of each 45°.例文帳に追加
3つの風向調整ルーバA〜Cを45°づつの角度ピッチで回転させることにより、集中送風パターン、一方側偏向送風パターン、拡散パターン、他方側偏向送風パターンの4つのパターンが得られる。 - 特許庁
A device for evaluating a pattern form comprises a design data storage section 1, an evaluation region production section 2, a pattern image acquisition section 3, a pattern contour detection section 4, a data synthesis section 5, and a pattern form measurement section 6.例文帳に追加
パターン形状評価装置は、設計データ記憶部1と、評価領域生成部2と、パターン画像取得部3と、パターン輪郭検出部4と、データ合成部5と、パターン形状計測部6とを備えている。 - 特許庁
When a temporarily discriminated standard voice pattern is an important standard voice pattern and distance L1 is a first threshold value Vth 1 or less, the DSP 19 decide upon that the important standard voice pattern is a voice pattern of an operator.例文帳に追加
DSP19は、仮判定した標準音声パターンが重要標準音声パターンの場合、距離L1が第1閾値Vth1以下ならば、重要標準音声パターンは操縦者の音声パターンと確定する。 - 特許庁
INK-JET PRINTING APPARATUS AND METHOD FOR FORMING MASK PATTERN例文帳に追加
インクジェット印刷装置およびマスクパターン作成方法 - 特許庁
THRESHOLD ARRANGEMENT CORRECTING METHOD AND DOT PATTERN DATA STRUCTURE例文帳に追加
閾値配列修正方法、およびドットパターンデータ構造 - 特許庁
POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
A regulation pattern storage section 13 stores a tilt angle regulation pattern attached with a line substantially in the center, a vertical angle regulation pattern attached with lines to the right and left, a horizontal angle regulation pattern attached with lines above and below.例文帳に追加
調整パターン記憶部13は、ほぼ中央にラインが付されたチルト角度調整パターンと、左右にラインが付された垂直角度調整パターンと、上下にラインが付された水平角度調整パターンと、を記憶する。 - 特許庁
After that, head offset is measured by the measurement pattern.例文帳に追加
その後、計測パターンによりヘッドオフセットを計測する。 - 特許庁
PHOTORESIST PATTERN FORMING METHOD AND PHOTORESIST LAMINATE例文帳に追加
ホトレジストパターンの形成方法およびホトレジスト積層体 - 特許庁
METHOD FOR PERFORMING PATTERN DECOMPOSITION FOR FULL CHIP DESIGN例文帳に追加
フルチップ設計のパターン分解を行うための方法 - 特許庁
A plurality of variable display regions K1-K3 are formed in a display region H of a special pattern display device 12 to variably display (moving display) a left pattern (L), a center pattern (C), and a right pattern (R) of special patterns.例文帳に追加
特別図柄表示装置12の表示領域H内に複数の可変表示領域K1〜K3を形成し、特図の左図柄(L)、中図柄(C)、右図柄(R)を可変表示(変動表示)可能にする。 - 特許庁
A line pattern image LP1" and a line pattern image LP3' are formed while intersecting each other on a wafer by double exposure, and a line pattern image LP2" and a line pattern image LP4' are formed while intersecting each other.例文帳に追加
二重露光により、ウエハ上に、ラインパターンの像LP1”とラインパターンの像とLP3’が交差した状態で形成するとともに、ラインパターンの像LP2”とラインパターンの像LP4’とが交差した状態で形成される。 - 特許庁
To reduce the amount of test pattern information.例文帳に追加
試験パターン情報のデータ量の削減を図ること。 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PRODUCTION OF RELIEF PATTERN例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びレリーフパターンの製造法 - 特許庁
Though the identification pattern '1' and the decoration pattern 'anglerfish' are combined when variation display is started, it is changed to the combination of the identification pattern '1' and a decoration pattern 'automobile' when defining and displaying is performed.例文帳に追加
変動表示を開始したときは、識別図柄「1」および装飾図柄「提灯アンコウ」が組合せられていたが、確定表示したときには、識別図柄「1」および装飾図柄「自動車」の組合せに変化している。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND POSITIVE RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、ポジ型レジストパターン形成方法 - 特許庁
FINE PATTERN CORRECTING DEVICE AND COATING STYLUS FOR CORRECTION例文帳に追加
微細パターン修正装置および修正用塗布針 - 特許庁
To provide a resist pattern improving material, a formation method of a resist pattern and a manufacturing method of a semiconductor device which can improve an LWR (line width roughness) of a resist pattern without more than necessary fluctuations in a resist pattern size.例文帳に追加
レジストパターンサイズを必要以上に変動させることなく、レジストパターンのLWRを改善できるレジストパターン改善化材料、レジストパターンの形成方法、及び半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁
To improve pattern inspection accuracy for an inspection sample.例文帳に追加
被検査試料のパターン検査の精度を高めること。 - 特許庁
In the case that the variable display pattern is a normal/probability variable shared pattern, when a first display result notifying command is not received, the established performance pattern and established decorative pattern of the normal big winning combination are determined (step S541).例文帳に追加
可変表示パターンが通常・確変共用パターンである場合に、第1表示結果通知コマンドの受信がなければ、通常大当り組合せの確定演出図柄と確定飾り図柄を決定する(ステップS541)。 - 特許庁
PRODUCTION OF FRP MOLDED ARTICLE WITH DECORATIVE PATTERN例文帳に追加
装飾模様付きFRP成形品の製造方法 - 特許庁
To provide an image pattern analysis method which makes it possible to automatically determine a new image pattern which does not coincide with a pre-registered simplified pattern, create a new simplified pattern and monitor an accurate appearance frequency thereof.例文帳に追加
予め登録された簡素化パターンと一致しない新たな画像パターンを自動判別し、新簡素化パターンを生成してその正確な出現頻度を監視することを可能にする画像パターン解析方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of forming an irregular pattern for surely forming the desired irregular pattern even if a wide recessed area is included in the irregular pattern, and also to provide a manufacturing method of information storage medium using the same irregular pattern forming method.例文帳に追加
凹凸パターンに幅が広い凹部が含まれる場合であっても所望の凹凸パターンを確実に形成できる凹凸パターン形成方法及びこれを用いた情報記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁
The dummy pattern in the virtual region 2 is a square light shielding pattern with a 0.15 μm side length, while the dummy pattern in the virtual region 3 is a square light shielding pattern with a 0.2 μm side length.例文帳に追加
仮想領域2中のダミーパターンは、1辺の長さが0.15μmの正方形状の遮光パターンであり、仮想領域3中のダミーパターンは、1辺の長さが0.2μmの正方形状の遮光パターンである。 - 特許庁
INSPECTION METHOD AND APPARATUS FOR PATTERN DEFECTS例文帳に追加
パターン欠陥検査方法及びパターン欠陥検査装置 - 特許庁
Then, the pattern position is corrected by the portion of pattern displacement caused by the variation of the flatness from the time of measuring the pattern position to the posture in exposure to obtain the pattern position of the mask in the posture in exposure (step ST 5).例文帳に追加
そして、パターン位置の測定時から露光時の姿勢への平面度の変化に起因するパターン変位分だけパターン位置を補正して、露光時の姿勢におけるマスクのパターン位置を求める(ステップST5)。 - 特許庁
A plurality of patterns disposed inside an objective region are classified in accordance with their arrangement positions, a pattern adjacent to each side of each pattern is searched by using the classified pattern, and adjacent pattern information is obtained.例文帳に追加
対象領域内に配置された複数のパターンをそれらの配置位置によって分類し、分類されたパターンを用いて各パターンの各辺に隣接するパターンを探索して、隣接パターン情報を取得する。 - 特許庁
In the case that the special display pattern is selected by a pattern decision means 130, a display control means 160 continues the display of the pattern variation according to the special display pattern until receiving the end signal.例文帳に追加
表示制御手段160は、特殊表示パターンが図柄決定手段130により選択された場合、終了信号を受け取るまで特殊表示パターンにしたがって図柄変動の表示を継続させる。 - 特許庁
To provide a test pattern producing apparatus, a circuit design apparatus, a test pattern producing method, a circuit design method, a test pattern producing program, and a circuit design program, for reducing the processing time in test pattern production and the amount of memory used.例文帳に追加
テストパターン生成時の処理時間や使用メモリ量の削減を図るテストパターン生成装置、回路設計装置、テストパターン生成方法、回路設計方法、テストパターン生成プログラム、回路設計プログラムを提供する。 - 特許庁
To provide a method for forming a resist pattern, the method capable of responding to formation of various types of resist patterns and allowing formation of a resist pattern excellent in depth of focus, a pattern profile, resolution, CDU (critical dimension uniformity) and resistance to pattern collapse.例文帳に追加
種々のレジストパターンの形成に対応でき、焦点深度、パターン形状、解像性、CDU及びパターン倒れ耐性に優れるレジストパターンを形成できるレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁
A shield pattern 3 is formed between a bonding pattern 1 and a solid pattern 2, which are electrically connected to an IC chip, Thus, the quantity of Sn which is pushed outside the solid pattern 2 and reaches the bump is suppressed at the time of bonding.例文帳に追加
ICチップと電気接続するボンディングパターン1とベタパターン2の間にシールドパターン3を形成することにより、ボンディング時ベタパターン2外部に押し出されてバンプに到達するSnの量を抑制する。 - 特許庁
In the boundary between the convex pattern part and the concave pattern part, the phase of the exposure light is reversed by 180°, and the intensity of the exposure light can be reduced in a corner part which is the boundary between the convex pattern part and the concave pattern part.例文帳に追加
これにより、凸パターン部と凹パターン部の境界において、露光光は180°位相が反転し、凸パターン部と凹パターン部の境界であるコーナー部において露光光の強度を低下することが出来る。 - 特許庁
WIRING BOARD FOR MULTIPLE PATTERN AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
多数個取り配線基板およびその製造方法 - 特許庁
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