「Photoetching」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Further, the score line 4 of a face 3 is formed by a photoetching processing as well.例文帳に追加

さらにフェース３のスコアライン４もフォトエッチング処理により形成する。 - 特許庁

Furthermore, there is no need to provide another photoetching process for forming the fuse opening 148.例文帳に追加

さらに、ヒューズ開口部１４８形成のための別の写真蝕刻工程が必要ない。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a color filter display plate which does not require a photoetching process.例文帳に追加

写真エッチング工程を要しない色フィルター表示板の製造方法を提供する。 - 特許庁

Finally, a pattern 5 such as TFT, etc., is formed on the polysilicon thin film 2 by photoetching, etc.例文帳に追加

最後に、写真食刻法等によりポリシリコン薄膜２にＴＦＴ等のパターン５を形成する。 - 特許庁

To reduce the production cost by r educing the number of expensive photoetching processes at the time of manufacturing a solar battery.例文帳に追加

太陽電池を製造する時の高価な写真エッチング工程数を減らし，生産費用を低減する。 - 特許庁

PHOTORESIST DEVELOPER-SOLUBLE ORGANIC BOTTOM ANTIREFLECTIVE COMPOSITION AND PHOTOETCHING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

フォトレジスト用現像液に溶解される有機底部反射防止組成物及びそれを利用した写真エッチング方法 - 特許庁

PHOTOETCHING METHOD FOR THIN FILM AND PRODUCTION OF THIN FILM TRANSISTOR SUBSTRATE FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY EMPLOYING THE METHOD例文帳に追加

薄膜の写真エッチング方法及びこれを用いた液晶表示装置用薄膜トランジスタ基板の製造方法 - 特許庁

Thereby the photoetching steps are reduced and the manufacturing steps for a color filter substrate are simplified.例文帳に追加

このようにすると、写真エッチング工程を削減することができ、色フィルター基板の製造工程を単純化できる。 - 特許庁

When the viscosity of the organic protective film is high, the organic protective film is patterned by photoetching after the mold is removed.例文帳に追加

有機保護膜の粘度が高い場合はモールドを除去してから有機保護膜をフォトエッチングでパターニングする。 - 特許庁

A wiring pattern 8 to connect to electronic parts is fabricated by a photoetching method or the like on the protruding portion 12.例文帳に追加

電子部品との接続の役割を果たす配線パターン８を張り出し部１２にフォトエッチング法等により形成する。 - 特許庁

The process step of working the metallic layer and the conductive layer by the photoetching method is included and the insulating layer 2 is worked by the wet etching.例文帳に追加

金属層と導電性層をそれぞフォトエッチング法により加工する工程と、絶縁層をウェットエッチングにより加工する。 - 特許庁

Therefore, the deformation of a photoresist pattern by reflected light rays from the reflecting pattern can be minimized in a photoetching process.例文帳に追加

これにより、写真蝕刻工程時反射性パターンから反射された反射光によるフォトレジストパターンの変形が最小化される。 - 特許庁

To provide copper foil capable of photoetching high in an etching factor, to provide a production method therefor, to provide a copper foil pattern, and to provide a preserving method.例文帳に追加

エッチングファクターの高いフォトエッチングを可能とする銅箔及びその作製方法、エッチング方法、銅箔パターン、保存方法を提供すること。 - 特許庁

The copper foil patterns 7 are ones formed by a method wherein press holes for an IC 5 are processed in a polyimide base material 1 and thereafter, copper foils are laminated on the base material 1 and are subjected to photoetching processing.例文帳に追加

銅箔リ−ドパタ−ン７は、ポリイミドベ−ス材１にＩＣ用プレス穴２を加工した後、銅箔をラミネ−トし、フォトエッチング加工をしたものである。 - 特許庁

To provide a resin composition curable with active energy beams and having characteristics suitable for use as a liquid photoetching resist in a step for producing a printed wiring board.例文帳に追加

プリント配線板の製造工程で液状フォトエッチングレジストとして使用するのに好適な特性を具備する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a thin film transistor ("TFT") array panel provided with a structure capable of suppressing a leakage current occurring in back light without increasing the number of times of photoetching stages.例文帳に追加

フォトエッチング工程の回数を増加することなく、バックライト光に起因する漏洩電流を抑制できる構造を備えた、薄膜トランジスタ表示板を提供する。 - 特許庁

In the manufacture of such a semiconductor device, a window is formed in the column of the protective material by patterning the window with a photoetching method, using a mask material and removing the protective material by etching.例文帳に追加

すなわち、保護材料の柱部分の窓をあける時に、マスク材料を用いて、窓を写真食刻法でパターニングし、保護材料をエッチング除去して行う。 - 特許庁

After a wiring pattern 1a is formed by photoetching the copper foil layer 1, solder ball pad sections 5 are formed on the wiring pattern and inner leads 14 are plated.例文帳に追加

そのテープ材料２０の銅箔層１をフォトエッチングして配線パターン１ａを形成し、その配線パターン上にハンダボールパット部５を形成し、インナーリード１４にめっきを施す。 - 特許庁

At first, an aluminum film with about 2.5 μm film thickness is formed on a glass substrate 7 with vapor deposition, sputtering or the like and subsequently is patterned with photoetching or the like to form anodes A and cathodes K.例文帳に追加

まずガラス基板７上に膜厚約２．５μｍのアルミニウム膜を蒸着やスパッタリングなどにより形成した後、フォトエッチング等でパターニングして陽極Ａ及び陰極Ｋを形成する。 - 特許庁

To provide a stainless steel sheet for photoetching-processing providing good flattening, little warping after etching and also, excellent stickness with photoresisting film and further, excellent spring-limited value.例文帳に追加

良好な平坦性と、エッチング後の少ない反りと、優れたフォトレジスト膜との密着性とを兼備し、さらに優れたばね限界値を備えるフォトエッチング加工用ステンレス鋼板を提供する。 - 特許庁

To provide a composition for peeling a photo-resist capable of reusing without the reduction of an essential peeling capability or a damage of a metallic pattern and capable of reducing an expense in a photoetching process.例文帳に追加

実質的な剥離性能の減少や金属パターンの損傷無しに再使用できて、写真エッチング工程の費用を減少させることができるフォトレジスト剥離組成物を提供する。 - 特許庁

An insulating resin layer 12 is formed of photosensitive resin or thermosetting resin on a metal board, and viaholes 13 are provided to the resin layer 12 by photoetching or laser processing.例文帳に追加

金属板上に感光性樹脂や熱硬化性樹脂により絶縁樹脂層１２を形成した後、この絶縁樹脂層１２にフォトエッチング又はレーザー加工によりビアホール１３を形成する。 - 特許庁

A spattering method can be used to form the conductive thin film, and in addition to using the metal mask to form an electrode shape, a photoetching method established in a semiconductor process can be used.例文帳に追加

導電性薄膜の形成にはスパッタ法を用いることも可能であり、電極形状形成にメタルマスクを用いる他に半導体プロセスで確立されている写真蝕刻法を用いることが可能である。 - 特許庁

To provide a structure and a manufacturing method in which a plurality of pieces are produced, at the same time, from a laminar crystalline substrate by photoetching technology, in order to reduce the dispersion in the characteristics of a tuning-fork type bending crystal oscillator piece.例文帳に追加

薄板水晶基板からフォトエッチング技術により複数個を同時に作成する音叉型屈曲水晶振動片の特性バラツキを低減するための構造及び製造方法の提供。 - 特許庁

The manufacturing method consists of a process where a metal layer 2 is processed by a photoetching method, a process where the wiring part 8 is formed on the insulation layer 5 by a semi-additive method and a process where the insulation layer 5 is processed by a plasma etching method.例文帳に追加

金属層２をフォトエッチング法により加工する工程と、絶縁層５上にセミアディティブ法により配線部８を形成する工程と、絶縁層５をプラズマエッチングにより加工する工程とからなる。 - 特許庁

A substrate having an external electrode and an internal electrode wiring is coated entirely with a photosensitive substance and then mounts an IC chip using a photoetching method before the photosensitive substance is formed in a region other than that being connected to wires.例文帳に追加

外部電極と内部電極配線を有する基板全体に感光性物質を塗布し、写真食刻法を用いてＩＣチップを搭載しワイヤを接続する領域以外の領域に感光性物質を形成する。 - 特許庁

The metallic sheet material 20 is joined to one surface of a supporting frame 12 in a manner so as to have tension, and thereafter a large number of minute through-holes are formed in prescribed patterns by photoetching in the metallic sheet material joined to the supporting frame.例文帳に追加

金属薄板材２０を支持フレーム１２の片面側に張りをもたせて接合した後、支持フレームに接合された金属薄板材に多数の微細透孔をフォトエッチングにより所定パターンで加工形成する。 - 特許庁

A vacuum film forming device forms a 1st conductive film on an insulating substrate 121 and this 1st conductive film is patterned as specified by, for example, a photoetching method to form a gate wire 103.例文帳に追加

真空成膜装置によって、絶縁性基板１２１上に第１導電膜を形成し、この第１導電膜をたとえばフォトエッチング法によって、所定パターンにパターン形成してゲート配線１０３を形成する。 - 特許庁

A transparent speaker is configured with a transparent piezoelectric diaphragm where a transparent piezoelectric material, and transparent electrode pattern are formed through vacuum vapor-deposition or photoetching and with a frame supporting the surrounding of the diaphragm.例文帳に追加

透明な圧電材料と透明な電極パターンが真空蒸着やフォトエッチングによって形成される透明圧電振動板と、この振動板の周辺を保持するフレームとによって透明スピーカを構成する。 - 特許庁

When the size-selective light etching method is applied to nanoparticles, pH on a size-selective photoetching reaction is controlled, so that the preparation of the monodispersed semiconductor nanoparticles having high reproducibility is made possible.例文帳に追加

ナノ粒子に対してサイズ選択光エッチング法を適用する際に、サイズ選択光エッチング反応時のｐＨを制御することにより、再現性の高い単分散半導体ナノ粒子の調製が可能となった。 - 特許庁

To provide a positive-type photoresist composition which is superior in acid resistance and adhesion to a substrate and capable of suppressing the side etching of a photoresist in the photoetching of various materials such as metal and metal oxide films.例文帳に追加

本発明は、耐酸性や基材との密着性に優れ、金属や金属酸化膜等の種々の素材のホトエッチング加工におけるホトレジストのサイドエッチ量を極力減らし得るポジ型ホトレジスト組成物を提供することを課題とする。 - 特許庁

To improve the production efficiency by reducing the number of manufacturing steps and applying non-contact exposure during photoetching, while preventing warping of a substrate, in a metal foil resistor with a metal foil being adhered to the substrate and is packaged airtight with an exterior package material.例文帳に追加

基板に金属箔を接着し外装材で気密封止した金属箔抵抗器において、製作工程を少なくして生産能率を向上させ、基板の反りの発生を防いでホトエッチングではノンコンタクト露光ができるようにする。 - 特許庁

Since the PSG film and the BSG film are higher in etching rate than the surface and the rear insulating films of the front and the rear surfaces, the films of PSG and BSG can be removed by only wet etching without using a further photoetching process, and contact holes for electrodes can be formed.例文帳に追加

ＰＳＧ，ＢＳＧ膜は，表面，裏面絶縁膜よりエッチング速度が速いので，更なる写真エッチング工程を用いずに，湿式エッチングのみで，ＰＳＧ，ＢＳＧ膜部を除去でき，電極用の接触孔を形成できる。 - 特許庁

To provide an etching method for electronic parts causing no deterioration in the quality of the product in such a manner that etching does not continuously progress by an etching solution adhered to the surface of a metallic sheet in photoetching executed by an etching solution of ferric chloride.例文帳に追加

塩化第二鉄のエッチング液で行うフォトエッチングにおいて、金属板の表面に付着したエッチング液によってエッチングが継続して進むことなく、製品の品位を低下させることのない電子部品のエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

To take improved measures against shortening of a die service life in precision press working caused by an uneven oxide film (BA film) present on the surface of a bright-annealed stainless steel sheet, and reduction in a yield caused by working defectives in photoetching work by an inexpensive technique.例文帳に追加

光輝焼鈍ステンレス鋼板の表面に存在する不均一な酸化皮膜（ＢＡ皮膜）に起因する精密プレス加工の金型寿命の低下、フォトエッチング加工の加工不良品による歩留り低下を安価な手法で改善する。 - 特許庁

To provide a substrate for a liquid crystal display device containing a light-shielding region or a light-shielding layer particularly suitable for preventing light leakage, without a black matrix formed by using a photoetching step, and a method of fabricating the same, in relation to the liquid crystal display device.例文帳に追加

本発明は、液晶表示装置に係り、特に、フォトエッチング工程によってブラックマトリックスなしで光漏れが防げる光遮断領域または光遮断層を含む液晶表示装置用基板及びその製造方法に関する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the etching components for working the metallic material, such as a ferrous metallic sheet by using a photoetching method, the alkaline photoresist composed of casein, ammonium dichromate and ammonia water is used as the photoresist to be used in the photoresist method.例文帳に追加

フォトエッチング法により鉄系の金属薄板など、金属材料を加工するエッチング部品の製造方法にて、フォトエッチング法にて用いるフォトレジストとして、カゼイン、重クロム酸アンモン、アンモニア水からなり、アルカリ性のフォトレジストを用いること。 - 特許庁

The method described above includes a process step of working the metallic layer 1 and the conductive layer 3 respectively by a photoetching method and a process step of working the insulating layer 2 by forming resist images in order to work the insulating layers and wet etching according to the resist images.例文帳に追加

金属層１と導電性層３をそれぞフォトエッチング法により加工する工程と、絶縁層２を加工するためのレジスト画像を形成し、当該レジスト画像に従ってウェットエッチングにより絶縁層２を加工する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In this manufacturing method, polyethylene telephthalate (PET) as heat-resistant insulator is heated and treated beforehand, at a temperature higher than the heating temperature which is applied in all processes, a copper foil is formed on the heat-resistant insulator and processed by a photoetching method, and fine wiring is formed.例文帳に追加

この製造方法によれば、耐熱性絶縁材としてポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）を全工程で加わる加熱温度よりも高い温度で予め加熱処理し、その上に銅箔を形成した後、銅箔をフォトエッチング法により加工して微細配線を形成する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing electronic components, which does not cause discoloration due to foreign materials on the surface of a metal sheet, after peeling a resist film, in the method for manufacturing the electronic components by etching the metal sheet, with a photoetching method using the resist film as a mask.例文帳に追加

金属薄板をレジスト膜をマスクとして用いてフォトエッチング法によりエッチングして電子部品を製造する方法において、レジスト膜を剥離した後に、金属薄板表面に異物等による変色が生じない電子部品の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The filter for the air conditioner has a filter for collecting dust in a room and a resin frame supporting/fixing the filter and uses the filter with meshes formed by photoetching a stainless steel plate as the dust collecting filter.例文帳に追加

上記課題を解決するために、本発明に係る空気調和機用フィルタは、室内空気の塵埃を捕集するフィルタとフィルタを支持固定する樹脂枠とを備え、室内空気の塵埃を捕集するフィルタとしてステンレス板材にフォトエッチング加工を施してメッシュを形成したフィルタを用いる。 - 特許庁

Two substrates 11, 12 are disposed in such a way that the support 31, 32 faces thereof opposite to the metallic layer faces thereof confront each other, the tops of the metallic layers 21, 22 of the two substrates are coated with at least a liquid photoresist to form photoresist layers 41, 42 and photoetching is carried out.例文帳に追加

二つの基材１１、１２の金属層面とは逆の面である支持材３１、３２面同士を合わせた状態で、二つの基材の金属層２１、２２上に、少なくとも液状フォトレジストを塗布してフォトレジスト層４１、４２を形成し、フォトエッチング加工を行うこと。 - 特許庁

The manufacturing method includes a stage of photoetching of a conductor by using an etching solution composition containing phosphoric acid of 65 to 75 wt.%, nitric acid of 0.5 to 15 wt.%, acetic acid of 2 to 15 wt.%, a potassium compound of 0.1 to 8.0 wt.% and water in the residual quantity.例文帳に追加

導電体を６５乃至７５重量％のリン酸、０．５乃至１５重量％の硝酸、２乃至１５重量％の酢酸、０．１乃至８．０重量％のカリウム化合物及び残量の水を含むエッチング液組成物を利用して写真エッチングする段階を含む。 - 特許庁

A large number of chips are mounted in a substrate and after the internal electrode wiring of the substrate is connected to the electrodes of the IC chip through wires, the substrate is coated entirely with a photosensitive substance and the IC chip is surrounded by the frame of a photosensitive substance using photoetching before being bonded with a lid.例文帳に追加

基板内に多数のチップを搭載し、基板の内部電極配線とＩＣチップの電極とをワイヤで接続した後に、感光性物質を基板全体に塗布し、写真食刻法を用いてＩＣチップのまわりを感光性物質の枠で囲み板状のふたを接着する。 - 特許庁

To provide an electron emitting source composition for a field emission display device in which exposure performance and development performance of photoetching at the time of manufacture and emission current property after the manufacture are improved, and degradation of vacuum and reduction of current density by the passage of time are alleviated.例文帳に追加

製造時における写真食刻の露光性，現像性及び製造後における放出電流特性が向上し，経時劣化による真空度低下及び電流密度減少を軽減した電界放出表示装置用電子放出源組成物を提供する。 - 特許庁