「Plasm」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

a fixed and unchangeable part of the germ plasm-Ashley Montagu 例文帳に追加

生殖細胞のアッシュリー・モンタギューの固定されて不変の部分 - 日本語WordNet

theory that inherited characteristics are transmitted by germ plasm 例文帳に追加

遺伝で受け継がれる属性は、生殖質によって伝達されるという理論 - 日本語WordNet

a germ plasm that can transduce the parents' form and nature to their descendants 例文帳に追加

遺伝質という,親の形質を子に伝える細胞内の形成物質 - EDR日英対訳辞書

PLASMA GENERATOR, METHOD FOR GENERATING PLASM AND PLASMA TREATMENT APPARATUS例文帳に追加

プラズマ発生装置、プラズマ発生方法及びプラズマ処理装置 - 特許庁

METHOD FOR PROCESSING GRAY LEVELS IN PLASM DISPLAY PANEL AND APPARATUS例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの階調処理方法および装置 - 特許庁

PLASM DISPLAY DEVICE AND DRIVING METHOD FOR PLASMA DISPLAY PANEL例文帳に追加

プラズマディスプレイ装置およびプラズマディスプレイパネルの駆動方法 - 特許庁

The film may be formed after the plastic container is subjected to the plasm process using the nitrogen gas.例文帳に追加

プラスチック容器に窒素ガスによるプラズマ処理を施してから、成膜を行なっても良い。 - 特許庁

PLASM DISPLAY PANEL FILTER AND PLASMA DISPLAY APPARATUS HAVING THE SAME例文帳に追加

プラズマディスプレイパネル用フィルタ及びそれを備えたプラズマディスプレイ装置 - 特許庁

IN SITU DEPOSITION AND INTEGRATION OF SILICON NITRIDE IN HIGH DENSITY PLASM REACTOR例文帳に追加

高密度プラズマリアクタにおける窒化ケイ素のインサイチュ（ｉｎｓｉｔｕ）堆積及び集積化 - 特許庁

To provide a plasma cleaner making an object to be cleaned using plasm to clothing, tableware, etc.例文帳に追加

プラズマを用いた洗浄の対象を衣類や食器等としたプラズマ洗浄装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma discharge device capable of maintaining a stable plasm state by lowering a voltage per a distance between discharging electrodes in a solution plasm discharge.例文帳に追加

ソリューションプラズマ放電において放電電極間の距離あたりの電圧を低く抑え、安定したプラズマ状態を維持することができるプラズマ放電装置を提供する。 - 特許庁

The wide-area normal pressure plasm jet apparatus includes a transfer mechanism, a plasma housing and two plasma generating units.例文帳に追加

伝達メカニズム、プラズマハウジングと２台のプラズマ発生装置を含む広域常圧プラズマジェット装置。 - 特許庁

To reduce particles generated during plasm ignition and extinction in a plasma-separation-type plasma processing device.例文帳に追加

プラズマ分離型のプラズマ処理装置において、プラズマ点火時、消火時に発生するパーティクルを低減する。 - 特許庁

To provide an apparatus and method for driving a plasm display panel in which dithering noise can be minimized.例文帳に追加

ディザリングノイズを最小化することができるようなプラズマディスプレイパネルの駆動装置及び駆動方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasm display provided with a new sustaining electrode drive circuit which uses low breakdown strength transistor.例文帳に追加

耐圧の低いトランジスタを用いた、新規な維持電極駆動回路を備えたプラズマディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁

To realize high definition display without disorder by surely generating discharge required for addressing by a driving method of an AC type plasm display panel.例文帳に追加

ＡＣ型ＰＤＰの駆動方法で、アドレッシングに必要な放電を確実に生じさせて乱れのない高品位の表示を実現する。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING OPTICAL FILTER FOR DISPLAY, OPTICAL FILTER FOR DISPLAY AND DISPLAY AND PLASM DISPLAY PANEL PROVIDED WITH THE SAME例文帳に追加

ディスプレイ用光学フィルタの製造方法、ディスプレイ用光学フィルタ、これを備えたディスプレイ及びプラズマディスプレイパネル - 特許庁

The fluorescence F discharged from the plasm P formed upon the reception of the pulse laser beam L by the sample 12 is detected to perform the elementary analysis of the sample 12 from the detected fluorescence F.例文帳に追加

試料12がパルスレーザ光Ｌを受けて生成するプラズマＰから放出される蛍光Ｆを検出し、検出した蛍光Ｆから試料12の元素分析をする。 - 特許庁

A method for operating the upstream plasma boundary layer shielding system includes a step of forming plasm covering the film cooling opening along the outer high temperature surface of the wall and extending in the downstream direction.例文帳に追加

上流プラズマ境界層遮蔽システムを作動させる方法は、壁の外側高温表面に沿ってフィルム冷却開口を覆って下流方向に延びるプラズマを形成する段階を含む。 - 特許庁

A method for operating the downstream plasma boundary layer shielding system includes a step of forming plasm covering the film cooling opening along the outer high temperature surface of the wall and extending in the downstream direction.例文帳に追加

下流プラズマ境界層遮蔽システムを作動させる方法は、壁の外側高温表面に沿ってフィルム冷却開口を覆って下流方向に延びるプラズマを形成する段階を含む。 - 特許庁

Even if platinum is exposed to plasma due to the over-etching and it reacts with radicals and ions in the plasm to produce by-products, a impurities which deteriorates the characteristics of a device will not be released from quartz because of such by-product.例文帳に追加

オーバーエッチングにより白金がプラズマに曝され、プラズマ中のラジカルやイオンと反応して副成物を生成しても、その副成物によって石英から、デバイスの特性を劣化させる不純物が放出されることはない。 - 特許庁

To provide a microwave plasma treating apparatus that efficiently forms an ECR magnetic field and generates high-density and uniform plasm.例文帳に追加

効率よくＥＣＲ磁場を形成することができると共に、高密度で均一なプラズマを生成することができるマイクロ波プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasm welding method for a golf club head which can achieve a production process of fully automated welding and furthermore, achieves a higher efficiency of the production process and a higher quality of the welding.例文帳に追加

全自動化の熔接の製造工程を実現し、さらに製造工程の効率と熔接の品質を高めることができるゴルフクラブヘッドのプラズマ熔接の方法を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that it is liable to cause an abnormal discharge since a magnet assembly is continuously moved during film deposition to swing plasm in front of a target in the conventional magnetron sputtering system.例文帳に追加

従来のマグネトロンスパッタリング装置では、成膜する間、磁石組立体を連続して移動させていたので、ターゲット前方のプラズマが揺らぎ、異常放電が発生し易くなる。 - 特許庁

To provide a plasm display panel along with its manufacturing method in which the thickness of a phosphor layer formed on the side surface of a discharge cell is arbitrarily adjusted.例文帳に追加

放電セルの側面に形成する蛍光体層の層厚を任意に調節できるプラズマディスプレイパネルの製造方法及びこの製造方法により製造されたプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

The plasm generating source and the high-frequency power applying electrode are provided so as to vertically (in a width direction) extend in the direction of movement of the work, and thus, uniform treatment can be applied to the direction of movement of the work.例文帳に追加

ワークの移動方向に垂直（幅方向）に延出するようにプラズマ発生源及び高周波電力印加電極を設けたことによって、ワークの移動方向に対して均一な処理を行うことができる。 - 特許庁

To provide a plasm treating apparatus that achieves large-area, uniform plasma enabling high-speed film formation having a small amount of defect while feeding a large amount of material gas and can perform more satisfactory plasma treatment.例文帳に追加

プラズマ処理装置において、大量の材料ガスを供給しながら、欠陥の少ない高速成膜を可能とする大面積均一プラズマを実現し、より良好なプラズマ処理が可能なプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method and circuit for driving a plasma display panel for realizing video stably by reducing flicker and a pseudo contour generated on the screen of a plasm display panel.例文帳に追加

プラズマディスプレイパネルの画面に発生するフリッカー及び疑似輪郭を低減させて安定的なプラズマディスプレイパネルの駆動方法並びに駆動回路を提供する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for plasma treatment in which a temperature change of a dielectric window can be controlled and a substantial power which can be utilized for plasm treatment is large and a high frequency noise is hard to occur.例文帳に追加

誘電体窓の温度変化を抑制でき、プラズマ化に利用できる実質的な電力が大きく、高周波ノイズが発生しにくいプラズマ処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁

Then, the inorganic layers 14r, 14g are removed by making a fluorine plasm treatment of the substrate 10 where the barrier rib layer 13 and the inorganic layers 14r, 14g, and the regions 13r, 13g, 13b are made water-repellent.例文帳に追加

次に、隔壁層１３および無機層１４ｒ，１４ｇが形成された基板１０に対してフッ素プラズマ処理を施すことにより無機層１４ｒ，１４ｇを除去するとともに、各領域１３ｒ，１３ｇ，１３ｂを撥水化する。 - 特許庁

The formation method of an insulating film has: a process for forming a fluorocarbon film on a substrate; and a process for bringing the surface into contact with the plasm of mixed gas made of water and inert gas, such as He, Ne, Ar, and Xe.例文帳に追加

基板上にフルオロカーボン膜を形成する工程、ならびに、その表面と、水およびＨｅ、Ｎｅ、ＡｒまたはＸｅなどの不活性ガスからなる混合ガスのプラズマとを接触させる工程を有する絶縁膜の形成方法。 - 特許庁

In addition, when the controller 13 judges that the concentration of the thrombocyte amounts to 700,000/μL, acceleration of a plasm feeding is finished, and it is shifted to blood feeding pump control at a regular speed by keeping the plasma feeding speed at the finishing.例文帳に追加

さらに、制御装置１３により血小板濃度が７０万／μＬに達した判断された時点で、血漿供給速度の加速を終了し、終了時の血漿供給速度維持による定速による送血ポンプ制御に移行する。 - 特許庁

Energy is given to gas introduced into the processing chamber 1 by a first gas introduction system 2 by a plasma forming means 3 to form plasm P_1, and a substrate 9 retained by a substrate holder 4 is treated.例文帳に追加

処理チャンバー１内に第一のガス導入系２により導入されたガスにプラズマ形成手段３がエネルギーを与えてプラズマＰ_１を形成し、基板ホルダー４に保持された基板９が処理される。 - 特許庁

This plasm display panel includes a first substrate, a second substrate disposed with a prescribed interval kept from the first substrate to form a vacuum container, and a barrier 18 disposed between the first substrate and the second substrate to partition a discharge space 17.例文帳に追加

第１基板と、この第１基板と所定の間隔をおいて配置されて真空容器を形成する第２基板と、前記第１基板と第２基板の間に配置されて放電空間１７を区画する隔壁１８とを含むプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁

The surface-treated organic-coated steel sheet is produced through (1) a step of preparing an organic-coated steel sheet, (2) a step of producing plasm steam under an atmosphere having ≥2.0 g/m^3 steam concentration and atmospheric pressure and (3) a step of bringing the plasma steam into contact with the surface of the organic-coated steel sheet.例文帳に追加

（１）有機被覆鋼板を準備する工程、（２）水蒸気濃度が２.０ｇ／ｍ^３以上であって大気圧にある雰囲気において、プラズマ水蒸気を発生させる工程、および（３）プラズマ水蒸気を有機被覆鋼板の表面に接触させる工程を経て、表面処理された有機被覆鋼板を製造する。 - 特許庁

During the plasm process, carbon atoms C and/or nitrogen atom N collides with a plurality of exposed surfaces of the nano-sized features 12, and infiltrates from the exposed surfaces to react with the silicon Si, thereby forming the hardened shell 20 made of the silicon carbide, the silicon nitride, or charring silicon nitride.例文帳に追加

プラズマ処理中は炭素原子Ｃ及び／又は窒素原子Ｎが極小形状部12の複数の露出面に衝突してそれらが露出面から浸透し、シリコン（Ｓｉ）と反応して炭化ケイ素、窒化ケイ素または炭化窒化ケイ素からなる硬化外殻20が形成される。 - 特許庁

An X-ray generator which generates plasma and takes out X-rays radiated from the plasm has a means for generating the plasma and a plurality of reflected optical systems guiding the X-rays through different optical paths.例文帳に追加

プラズマを生成し、当該プラズマから放射されるＸ線を取り出すＸ線発生装置であって、前記プラズマを生成する手段と、前記Ｘ線を異なる光路で導光する複数の反射光学系とを有することを特徴とするＸ線発生装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inductively coupled plasma processing apparatus capable of symmetrically and uniformly generating a plasm density distribution throughout the center part and an outer periphery by forming openings for entering a processing gas at the center part of the lower part in a reaction chamber and a side surface thereof and by providing fan-shaped antennas below the reaction chamber.例文帳に追加

反応チャンバ内の下部中央部及び側面に処理ガスの流入口を形成し、反応チャンバ下部に扇形アンテナを具備することでプラズマ密度分布を中央部と外郭にかけて対称的でかつ均一に発生させることができる誘導結合型プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

This surface modifying method for an ITO thin film is a method, wherein an oxygen plasma is produced in a plasm-producing unit 80, an alternating-current voltage is applied between a substrate holder 31 and the unit 80 and ions, neutral molecules and neutral atoms, which are contained in a plasma, are radiated on the surface of an ITO thin film 13.例文帳に追加

本発明の表面改質方法は、プラズマ生成装置８０内で酸素プラズマを生成し、基板ホルダ３１とプラズマ生成装置３の間に交流電圧を印加し、プラズマ中に含まれるイオンや中性分子、中性原子をＩＴＯ薄膜１３表面に照射する。 - 特許庁

The plasm light emission detector 9 is moved, thus detecting in-plane distribution at each position of light emitted by the plasma in several seconds, and hence applying the detector 9 to etching in a plurality of steps and calculating the wafer in-plane uniformity of the etching speed.例文帳に追加

プラズマ発光検出部９を移動させることにより、プラズマ発光の各ポジションにおける面内分布を数秒で検出できるため、複数ステップあるエッチングで適用可能で、エッチング速度のウエハ面内均一性の算出が可能となる。 - 特許庁

The direction through which plasma from the ECR plasma source 102 flows is the normal direction of the substrate W, the angle between the normal of the surface in the target 105 and the direction through which the plasm from the ECR plasma source 102 flows is θ, and this is 60 to <90°.例文帳に追加

ＥＣＲプラズマ源１０２からのプラズマが流れる方向を基板Ｗの法線方向としており、ターゲット１０５の表面の法線と、ＥＣＲプラズマ源１０２からのプラズマが流れる方向とのなす角度がθであり、これが６０°以上９０°未満にされている。 - 特許庁

Conductive films 10, 13 are formed on a lower surface of the outer frame of the intermediate crystal plate, metal thin films 16, 18 are formed on an upper surface of the lower crystal substrate and airtightly joined together by diffused junction after being mutually sanctified and activated by plasm processing.例文帳に追加

中間水晶板の外枠下面には導電膜１０，１３が形成され、下側水晶基板の上面には金属薄膜１６，１８が形成され、互いにプラズマ処理により清浄化・活性化した後、拡散接合により気密に接合される。 - 特許庁

The plasm treatment device is provided with a plasma treatment chamber which conducts a plasma treatment on a pre-treated object, an antenna means for guiding micro waves into the plasma treatment chamber and a dielectric member arranged between the plasma treatment chamber and the antenna means.例文帳に追加

被処理体にプラズマ処理を行うためのプラズマ処理室と、該プラズマ処理室にマイクロ波を案内するためのアンテナ手段と、該プラズマ処理室と、アンテナ手段との間に配置された誘電体部材とを含むプラズマ処理装置。 - 特許庁

The mask plate for printing plasm display fluorescence material includes a filling pattern aperture 14 positioned by photosensitive emulsion 13 applied on the metal plate body 11 and solidified in a metal pattern aperture 12 formed in a metal plate body 11, and made not to be larger than the area of the aperture of the filling and housing groove portion 3.例文帳に追加

メタル板本体１１に開口形成したメタルパターン開口１２に、メタル板本体１１に塗布形成して凝固化した感光乳剤１３によってメタルパターン開口１２内に位置させて、前記充填収納溝部３の開口面積に比し大きくはなく開口形成した充填パターン開口１４を備えて成る。 - 特許庁

To provide a method for forming a gate of a semiconductor element capable of preventing degradation of an element characteristic and reliability caused by a plasm etching process; and a method for forming a gate of a semiconductor element capable of preventing a concentration phenomenon of an electric field in an upper corner part caused by a plasma etching process.例文帳に追加

プラズマのエッチング工程によって発生する素子特性および信頼性の劣化を防止することのできる半導体素子のゲート形成方法と、プラズマのエッチング工程によって発生する上部の隅部における電界の集中現象を防止することのできる半導体素子のゲート形成方法を提供すること。 - 特許庁