「Ra a」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

Wherein, the Ra and the Sm are a mathematical average roughness Ra (μm) and an average interval Sm (mm) between the projection and the recession, regulated in JIS B0601, respectively.例文帳に追加

但し、RaおよびSmはそれぞれJISB0601に定める算術平均粗さ Ra(μm)および凹凸の平均間隔Sm(mm)である。 - 特許庁

The copper alloy foil has a thickness t of ≤20 μm and satisfies Ra/t≤0.009 (wherein Ra represents an arithmetic average roughness), and I/I_0 of a (200) face after heat treatment at 300°C for 30 min is ≥65.例文帳に追加

厚みtが20μm以下、Ra/t≦0.009（但し、Raは算術平均粗さ）であり、300℃×30分の熱処理後の(200)面のＩ／Ｉ_０が65以上である。 - 特許庁

A base 1 is arranged in the vicinity of railway rails Ra, Ra' and Rb.例文帳に追加

鉄道レールＲａ，Ｒａ´，Ｒｂの近傍に基台１を設置する。 - 特許庁

A relation between a diameter Ra of the hole, a length L of the notch and an outermost diameter Rb (Ra<Rb) of a washer to be used together with a head of the screw or the screw is Ra+L>Rb.例文帳に追加

また、穴の径Ｒａ、切り欠きの長さＬ、および、ねじの頭またはねじとともに用いる座金の最外径Ｒｂ（Ｒａ＜Ｒｂ）の関係がRa+L>Rbである。 - 特許庁

Around the circular portion 46a, a ring portion 46b processed in surface roughness of 0.4 μm (Ra), a ring portion 46c processed in surface roughness of 0.2 μm (Ra) and a ring portion 46d processed in surface roughness of 0.4 μm (Ra) are formed in order.例文帳に追加

円形部分４６aの周りには、順に、面粗度０．４μm（Ra）に加工されたリング状部分４６ｂ、面粗度０．２μm（Ra）に加工されたリング状部分４６ｃ、面粗度０．４μm（Ra）に加工されたリング状部分４６ｄが形成されている。 - 特許庁

In this way, the hot rolled stainless steel strip having a surface roughness Ra of 1.0 to 2.0 μm and a PPI of 180 to 300 is obtained.例文帳に追加

これにより、表面粗さRaが1.0〜2.0μm、PPIが180〜300のステンレス熱延鋼帯を得る。 - 特許庁

(A): Surface roughness (Ra) is 0.5 μm or less.例文帳に追加

（Ａ）表面粗さ（Ｒａ）が０．５μｍ以下。 - 特許庁

Moreover, an arithmetical mean roughness Ra(i) of a film surface to that Ra(f) of a film substrate surface satisfies Ra(i)-Ra(f)≤2nm.例文帳に追加

また、膜面の算術平均粗さＲａ（ｉ）が、フィルム基板表面の算術平均粗さＲａ（ｆ）に対し、Ｒａ（ｉ）−Ｒａ（ｆ）≦２ｎｍであることを特徴とする。 - 特許庁

Ashura was said to be a good deity, because originally 'asu' meant 'life' and 'ra' meant 'give' in Sanskrit. 例文帳に追加

本来サンスクリットで「asu」が「命」、「ra」が「与える」という意味で善神だったとされる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

For the surface roughness Ra of the rear surface, a ratio (Rz/Ra) of Rz (ten-point average roughness) to Ra lies, preferably, in a range of 1 to 40.例文帳に追加

裏面の表面粗さにおいて、Ｒｚ（十点平均粗さ）とＲａとの比（Ｒｚ／Ｒａ）が１以上４０以下であるとよい。 - 特許庁

A circular portion 46a in the center of a chucking surface 46 is processed in surface roughness of 0.2 μm (Ra).例文帳に追加

吸着面４６の中央の円形部分４６aは面粗度０．２μm（Ra）に加工されている。 - 特許庁

To clarify the onset/development mechanism of rheumatic arthritis (RA) to provide a new means for treatment or drug discovery for RA by examining the effect of PADI 4 to activities of antithrombin 3.例文帳に追加

アンチトロンビン３活性に対するPADI4の効果を調べることにより、RAの発症・進展機構を解明し、RAの治療や創薬のための新たな手段を提供すること。 - 特許庁

To provide a new means of clarification, diagnosis, and medical treatment to the onset of RA, by specifying the self-antigen of the anti-citrullinized peptide antibody, related to the development and progress of the RA.例文帳に追加

RAの発症と進展に関わる抗シトルリン化ペプチド抗体の自己抗原を特定し、RAの病態解明と診断、治療のための新たな手段を提供すること。 - 特許庁

A Sm/Ra value of the outer peripheral surface of a roll is regulated within range of 0.03-0.12 (mm/μm) and the Sm value is regulated within range of 0.1-0.6 mm.例文帳に追加

ロール外周面のSm/Ra の値を、0.03〜0.12(mm/μm)の範囲内に、且つSmを0.1 〜0.6mm の範囲内に規定する。 - 特許庁

The asperities has a surface roughness(Ra) meeting the relationship: 0.01μm<Ra<10μm.例文帳に追加

この微細な凹凸は、表面粗さ（Ｒａ）で表示すると、０．０１μｍ＜Ｒａ＜１０μｍである。 - 特許庁

of Japanese grammar, the conjugation of a verb, called an irregular conjugation, found in the 'ra' column 例文帳に追加

ラ行変格活用という,動詞の活用 - EDR日英対訳辞書

A smoothing processing is executed to a substrate after molding so as to turn the surface roughness Ra of the slope part of the substrate to be 2.0 nm or less.例文帳に追加

基板の斜面部の表面粗さRaが2.0nm以下になるように成型後基板に平滑化処理を施す。 - 特許庁

The equipment A transmits the number Ra to the equipment B.例文帳に追加

また、機器Ａは、乱数Ｒａを機器Ｂに送信する。 - 特許庁

Hong gyung nae named her hong ra on when she was a child.例文帳に追加

子供の頃 ホン・ギョンネが娘に付けた名前が ホン・ラオン - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書

A backplane apparatus for an electronic device enclosure includes a common bus comprising a plurality of signal lines, each signal line having a current limiting element RA.例文帳に追加

電子装置エンクロージャ用バックプレーン装置は、電流制限要素RAを有する複数の信号線からなる共通バスを含む。 - 特許庁

The information recording disk is composed of this glass and has a polished surface having 0.1-0.5 nm surface roughness Ra (JIS B0601).例文帳に追加

このガラスからなり、表面粗さRa(JIS B0601)が0.1-0.5nmの範囲である研磨面を有する情報記録ディスク。 - 特許庁

The surface roughness (arithmetic mean roughness Ra) of a substrate 1 is within the range of X μm≤Ra≤0.1 μm.例文帳に追加

基板１の表面粗さ（算術平均粗さＲａ）が、Ｘμｍ≦Ｒａ≦０．１μｍの範囲内である。 - 特許庁

In RA-AKE, limitations on RTT and TTL are removed to share a remote access ket between an RA-source and an RA-sink.例文帳に追加

ＲＡ−ＡＫＥではＲＴＴ並びにＴＴＬの制限を外し、ＲＡ−ＳｏｕｒｃｅとＲＡ−Ｓｉｎｋ間でリモート・アクセス用の鍵共有を実現する。 - 特許庁

The Co-Si based copper alloy sheet comprises, by mass, 0.5 to 3.0% Co and 0.1 to 1.0% Si, and the balance Cu with inevitable impurities, and satisfies ratio of (surface roughness Ra(RD) in a direction parallel to a rolling direction)/(surface roughness Ra(TD) in a direction orthogonal to a rolling direction)≤0.8.例文帳に追加

Co：0.5〜3.0質量％、Si：0.1〜1.0質量％を含有し残部がCu及び不可避不純物からなるCo-Si系銅合金板であって、(圧延平行方向の表面粗さRa(RD)/圧延直角方向の表面粗さRa(TD))≦0.8である。 - 特許庁

A bridge circuit 21 is constituted by using the pressure sensitive elements Ra, Rb, Rc, Rd.例文帳に追加

感圧素子Ｒａ，Ｒｂ，Ｒｃ，Ｒｄを用いてブリッジ回路２１を構成する。 - 特許庁

To obtain an MTJ device having a high TMR value and a low RA.例文帳に追加

ＴＭＲ値が高く、ＲＡが低いＭＴＪデバイスを得ること。 - 特許庁

A ratio T/Ra of the film thickness T of the conductive layer 4 to the surface roughness Ra of the substrate 2 is 0.07 to 4.0.例文帳に追加

導電層４の膜厚Ｔと基板２の表面粗さＲａとの比（Ｔ／Ｒａ）は０．０７〜４．０である。 - 特許庁

A connection surface to the grounding conductor (shield layer 13) in the grounding member 20 has surface roughness Ra not smaller than 0.09 μm.例文帳に追加

このアース部材20における接地用導体（シールド層13）との接続面はRaで0.09μm以上の面粗度を有する。 - 特許庁

The shearing stress is kept constant at any distance from the center axis to a maximum radius Ra or -Ra.例文帳に追加

中心軸から最大半径Ｒａ又は−Ｒａまでのどの距離でも、せん断応力は一定である。 - 特許庁

When a memory write instruction is issued in the process of memory copying, an address comparator 1221 compares the write address (RA) with the count values of the counters 1223 and 1224, and if the RA is larger than the count value of the counter 1223, simply permits the memory writing.例文帳に追加

メモリコピーの工程中にメモリライトの命令が発行された場合には、アドレス比較器1221はそのライトアドレス(RA)とカウンタ1223,1224のカウント値とを比較し、RAが1223のカウント値より大きい場合には単にメモリライトを許可する。 - 特許庁

A reference pattern generation section 6 generates a plurality of reference patterns RA.例文帳に追加

リファレンスパターン発生部６は複数のリファレンスパターンＲＡを発生する。 - 特許庁

A difference between the distance RA and the distance SA, namely, a distance TA is determined.例文帳に追加

距離ＲＡと距離ＳＡとの差分、即ち距離ＴＡを求める。 - 特許庁

The radio terminal transmits the RA again after a predetermined period of time.例文帳に追加

無線端末は、所定時間後に、再度ＲＡを送信する。 - 特許庁

Power supply potential VDD is applied to one end of a resistor Ra and a constant current source 75a is connected to the other end of the resistor Ra.例文帳に追加

抵抗Ｒａの一端に電源電位ＶＤＤを与え、抵抗Ｒａの他端に定電流源７５ａを接続する。 - 特許庁

In the formula II, R11 and R12 are each a substituent; RA, RB and Y have the same meanings as those in the formula I; and X2 is a group bonding to C to which RA and RB bond through a heteroatom.例文帳に追加

式(II)中、R^11,R^12は置換基を;R^A,R^B,Yは式(I)と同義;X^2はヘテロ原子を介してR^AおよびR^Bが結合する炭素原子に結合する基を表す。 - 特許庁

In the insulating film 2, a surface roughness Ra and another surface roughness Rz satisfy the inequalities: Ra<0.20 μm and Rz<2.0 μm.例文帳に追加

絶縁膜２の表面粗さＲａおよびＲｚは、Ｒａ＜０．２０μｍおよびＲｚ＜２．０μｍの関係を満たす。 - 特許庁

Surface roughness Ra of at least a part coated by the resin composition of the material surface is 0.02≤Ra≤0.3.例文帳に追加

素材表面のうち、少なくとも樹脂組成物で被覆された部分の表面粗さＲａは、０．０２≦Ｒａ≦０．３とする。 - 特許庁

If the desired PER characteristics can be acquired, communication is performed in a transmission rate of PHY(k+1, RA[j, k+1])(steps 302-306).例文帳に追加

所望のＰＥＲ特性が得られる場合には、伝送レートをPHY（k+1,RA[j,k+1]）にして通信を行う（ステップ３０２〜３０６）。 - 特許庁

A surface roughness of a surface of a cell vessel 5 is set at Ra=5 μm by a sand blast treatment.例文帳に追加

電池容器５表面は、サンドブラスト処理により表面粗さＲａ＝５μｍとした。 - 特許庁

Therefore, a current Is flowing in the bit line 11b is Is=Vs(Rb-Ra)/(Ra×Rb). Where, a resistive value of the storage element Ia is assumed to Ra, a resistive value of the storage element Ib is assumed to be Rb.例文帳に追加

従って、ビット線１１ｂに流れる電流Ｉｓは、記憶素子１ａの抵抗値をＲａ、記憶素子１ｂの抵抗値をＲｂとすると、Ｉｓ＝Ｖｓ・（Ｒｂ−Ｒａ）／（Ｒａ・Ｒｂ）となる。 - 特許庁

In the formula III, R21 and R22 are each a substituent; and RA, RB, X1 and Y have the same meanings as those in the formula I.例文帳に追加

式(III)中、R^21,R^22は置換基を表し;R^A,R^Bは,X^1,Yは、式(I)と同義。 - 特許庁

In the formula IV, R31 and R32 are each a substituent; and RA, RB, X2 and Y have the same meanings as those in the formula II.例文帳に追加

式(IV)中、R^31,R^32は置換基を表し;R^A,R^B,X^2,Yは式(II)と同義。 - 特許庁

A reference pattern generating part 6a generates a plurality of reference patterns RA.例文帳に追加

リファレンスパターン発生部６ａは複数のリファレンスパターンＲＡを発生する。 - 特許庁

It is judged whether or not desired PER characteristics can be acquired when communication is continued by a transmission mode PHY(k, RA[j, k]) used last time, and if the desired PER characteristics cannot be acquired, communication is performed in a transmission rate of PHY(k-1, RA[j, k-1])(steps 300-303).例文帳に追加

前回用いられた伝送モードPHY（k,RA[j,k]）で通信を続けた場合に所望のＰＥＲ特性が得られるか否かを判断し、所望のＰＥＲ特性が得られない場合には、伝送レートをPHY（k-1,RA[j,k-1]）にして通信を行う（ステップ３００〜３０３）。 - 特許庁

The thermal molding die has a degree of surface roughness (Ra) of 0.10 μm or less.例文帳に追加

表面租度（Ｒａ）が０．１０μｍ以下である熱成形型。 - 特許庁