「Ra a」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

The proton conductive film has a surface roughness Ra of 0.5 mμ to 2 mμ.例文帳に追加

本発明のプロトン伝導性膜は、表面粗度Ｒａが０．０５μｍ〜２μｍであるプロトン伝導性膜となる。 - 特許庁

Surface roughness RA after surface roughening is uniform and within a range of 1.0-1.5 μm, and all regions are roughened.例文帳に追加

粗面化後の表面粗さＲ_Aは均一であり、全領域を覆いそして１.０〜１.５μｍの範囲内にある。 - 特許庁

As a result, the actual steering angle RA can be prevented from becoming greater than the target lower limit value TA2-x.例文帳に追加

その結果、実操向角ＲＡが目標下限値ＴＡ２−ｘよりも大きくなるのを防止できる。 - 特許庁

An annunciator 10 measures a sound pressure level of background noise in rooms RA and RB by microphones 20A and 20B.例文帳に追加

報知装置１０は、マイクロホン２０Ａ，２０Ｂにより部屋ＲＡ，ＲＢにおける暗騒音の音圧レベルを求める。 - 特許庁

Then the cut-off circuit 100 outputs a level between levels produced by the 1st and 2nd resistors Ra, Rb.例文帳に追加

そして、切り取り回路１００は、第１および第２抵抗器Ｒａ，Ｒｂの間の電位を出力する。 - 特許庁

A surface roughness is set 0.3-2.0 μm in terms of Ra, so as to hold the toner of required amount.例文帳に追加

表面粗さはＲａで０．３〜２．０μｍに設定し、必要量のトナーを表面に保持できるようにする。 - 特許庁

Also, surface roughness of a sliding part of the rider ring 10 is set to Rmax 20 μm or less, or Ra 2 μm or less.例文帳に追加

また、ライダリング１０の摺動部の面粗さをＲmax２０μｍ以下またはＲａ２μｍ以下に設定する。 - 特許庁

A third element Ra is coupled to a fifth element Cb to form a first coupled body, and a sixth element Rb is coupled to a ninth element Sc to form a second coupled body.例文帳に追加

第３要素Ｒａと第５要素Ｃｂを連結して第１連結体とし、第６要素Ｒｂと第９要素Ｓｃを連結して第２連結体とする。 - 特許庁

To provide a tunnel type magnetic detection element which can have a large rate of a change of a resistance value (ΔR/R) while reducing RA (R: element resistance, A: element area) to a small value.例文帳に追加

特に、ＲＡを小さく抑えつつ、抵抗変化率（ΔＲ／Ｒ）を大きくすることが可能なトンネル型磁気検出素子を提供することを目的としている。 - 特許庁

A first connecting body is formed by connecting a third element Ra and a fifth element Cb, and a second connecting body is formed by connecting a sixth element Rb and a ninth element Sc.例文帳に追加

第３要素Ｒａと第５要素Ｃｂを連結して第１連結体とし、第６要素Ｒｂと第９要素Ｓｃを連結して第２連結体とする。 - 特許庁

In this case, even in the case of V(Ra)≠0, vibration is not generated at a position having a state of sin(nθ)=0, relative to displacement in the Tangential direction.例文帳に追加

このとき、Ｖ（Ｒａ）≠０であっても、Ｔａｎｇｅｎｔｉａｌ方向の変位は、ｓｉｎ（ｎθ）＝０となる位置においては振動が生じない。 - 特許庁

To provide a tunnel junction type magnetoresistive effect element with little degradation of an MR ratio in a region where area resistance RA is ≤1.0 Ωμm^2.例文帳に追加

面積抵抗ＲＡが１．０Ωμｍ^2以下の領域で、ＭＲ比の劣化の少ないトンネル型磁気抵抗効果素子を得る。 - 特許庁

A lock-on switch provided in an operation part is pushed when a portion such as the lesion part comes within the assigned area frame Ra.例文帳に追加

この指定領域枠Ｒａ内に病変部などの部位が入ったときに、操作部に設けられたロックオンスイッチを押圧する。 - 特許庁

When the plurality of antennas are simultaneously selected, a load current Ir is limited by a resistance value Ra of the first resistor.例文帳に追加

複数のアンテナが同時に選択された場合、負荷電流Ｉｒは、第１抵抗の抵抗値Ｒａによって制限される。 - 特許庁

A fine and beautiful matted surface with a surface roughness Ra of 0.9-1.1 erasing die marks of the aluminum extruded material can be obtained.例文帳に追加

アルミ押出材のダイスマークの消去と表面粗さをＲａ０．９〜１．１とする微細にして美麗なマット化表面を得られる。 - 特許庁

A database update section 103 uses router identification information or the like included in the received RA packet to update a database 102.例文帳に追加

データベース更新部１０３は、受信したＲＡパケットに含まれるルータ識別情報などを用いてデータベース１０２を更新する。 - 特許庁

The surface roughness on a peripheral direction of the internal diameter surface 11c of the shell type outer ring 11 is in a range of Ra 0.05 to 0.3 μm.例文帳に追加

シェル型の外輪１１の内径面１１ｃの周方向面粗度を、Ｒａ０．０５〜０．３μｍの数値範囲とする。 - 特許庁

To provide an ITO film having a surface roughness (Ra) of ≤1 nm without any new manufacturing step such as a polishing step.例文帳に追加

研磨のような新たな製造工程を経ること無く表面粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以下であるＩＴＯ膜を提供すること。 - 特許庁

Therefore, a transponder with the broad transponder coupling range Ra can be used for a system with the narrow stop position adequate range Re.例文帳に追加

これにより、トランスポンダ結合範囲Ｒａの広いトランスポンダを停止位置合格範囲Ｒｅの狭いシステムにも使用できる。 - 特許庁

The surface roughness of the large diameter side end face 4A of a tapered roller 4 is specified at a value satisfying both of the following conditional expressions: 0.04μm≤Ra(r)≤0.1μm例文帳に追加

円すいころ４の大径側端面４Ａの表面粗さを次の条件式（１）および（２）を共に満たす値に規定する。 - 特許庁

In the two-layer film produced by successively laminating (a) a first film, (b) a photosensitive resin layer (spacer resin layer), (c) a transparent resin layer (overcoat resin layer) and (d) a second film, the surface smoothness of (a) the first film and (d) the second film is ≤0.01 μm in terms of Ra.例文帳に追加

（ａ）第1のフィルム（ｂ）感光性樹脂層(以下、スペーサ樹脂層)（ｃ）透明樹脂層(以下、オーバーコート樹脂層)及び（ｄ）第2のフィルムの順に積層された2層フィルムにおいて、（ａ）第1のフィルムと（ｄ）第2のフィルムの表面平滑性がRaで0.01μm以下であることを特徴とする2層フィルム。 - 特許庁

A first circumferential portion 101 having a radius Ra and a second circumferential portion 102 having a radius Rb smaller than the radius Ra are formed on part of the outer peripheral face in a plan view, and a linear portion 103 is formed between the first circumferential portion 101 and the second circumferential portion 102.例文帳に追加

平面視において外周面の一部に、半径Ｒａの第１円周部１０１と、半径Ｒａよりも小さい半径Ｒｂの第２円周部１０２とを形成するとともに、第１円周部１０１と第２円周部１０２との間に直線部１０３を形成する。 - 特許庁

A first element Sa, a sixth element Rb, a third element Ra, three connection bodies Ra-Cc, and an eleventh element Cd are connected to a fourth element Sb, a seventh element Sc and a tenth element Sd, an eighth element Cc, an input shaft 2, and an output member 3, respectively.例文帳に追加

第１要素Ｓａと第４要素Ｓｂとが、第６要素Ｒｂと第７要素Ｓｃと第１０要素Ｓｄとが、第３要素Ｒａと第８要素Ｃｃとが、３連結体Ｒａ−Ｃｃと入力軸２とが、第１１要素Ｃｄと出力部材３とが夫々連結される。 - 特許庁

A diffusion resistance element RA having a positive temperature characteristic and a polysilicon resistance element RB having a negative temperature characteristic are lapped planely with a silicon oxide film 50 set between so that the diffusion resistance element RA is a lower side and the polysilicon resistance element RB is an upper side.例文帳に追加

正の温度特性を有する拡散抵抗素子部ＲＡと負の温度特性を有するポリシリコン抵抗素子部ＲＢとが、シリコン酸化膜５０を間において、拡散抵抗素子部ＲＡが下側、ポリシリコン抵抗素子部ＲＢが上側とされて平面的に重なって配置してある。 - 特許庁

A surface roughness Ra of the side in a shearing corner part of a trimmer blade of a side trimmer device for shearing the edge of of the steel plate is set equal to or less than 0.2 μm.例文帳に追加

鋼板のエッジ部分を剪断するサイドトリマー装置のトリマー刃の剪断用コーナ部における側面の表面粗さＲａを０．２μｍ以下とする。 - 特許庁

A source access node AN#1 converts a first address HoA of a destination mobile communication terminal MT#2 into a second address RA#1 of the destination mobile communication terminal MT#2.例文帳に追加

発信元アクセスノードＡＮ＃１が、宛先移動通信端末ＭＴ＃２の第１のアドレスＨｏＡを、宛先移動通信端末ＭＴ＃２の第２のアドレスＲＡ＃１に変換する。 - 特許庁

To provide a magnetoresistance effect-type element capable of having a high TMR ratio by a low area resistance (RA) and capable of performing the writing with a low current.例文帳に追加

低い面積抵抗（ＲＡ）で高いＴＭＲ比を有することができるとともに、低電流での情報の書き込みを行うことを可能にする。 - 特許庁

To provide a setting instrument for an acetabular cup which is capable of independently adjusting a radiographic inclination RI and a radiographic anteversion RA of the acetabular cup and directly acquiring the RI and RA during the operation.例文帳に追加

本発明は、臼蓋カップのレントゲン的外開角ＲＩ及びレントゲン的前開角ＲＡを単独で調節可能であり、また手術中にＲＩ及びＲＡが直接把握できる臼蓋カップ設置用器具を提供することを目的とする。 - 特許庁

The flat alumina particle and its manufacturing method are characterized by that a flat α-alumina crystal is a basic composition and an arithmetic average roughness of the surface roughness of a c surface that composes the crystal is Ra=1.0 nm-5.0×10^2 nm.例文帳に追加

本発明は、板状アルミナ粒子及びその製造方法に関するものであって、板状α−アルミナの結晶を基本構成とし、結晶を構成するｃ面の表面粗さが算術平均粗さ：Ra＝1.0nm〜5.0×10^2nmであることを特徴とする。 - 特許庁

The control unit 100 calculates a delay amount Dp for indicating it to an effector 12, according to Dp=kd×Dp0/Ra, using the specified reference delay amount Dp0, the numeric value Ra, and a predetermined coefficient kd.例文帳に追加

そして、制御部１００は、特定した基準ディレイ量Ｄｐ０、数値Ｒａ、および予め定められた係数ｋｄを用いてＤｐ＝ｋｄ×Ｄｐ０／Ｒａに従い、エフェクタ１２に対して指定するディレイ量Ｄｐを算出する。 - 特許庁

Further, when the switch MSW is off, switch circuits SWA, SWB connected in series with the resistors RA, RB are turned off to prevent useless current from flowing through terminals a, b at a low level via the resistors RA, RB.例文帳に追加

また、スイッチＭＳＷがオフしている時、抵抗ＲＡ、ＲＢと直列に接続されたスイッチ回路ＳＷＡ、ＳＷＢをオフし、抵抗ＲＡ、ＲＢを介してローレベルにある端子ａ、ｂへ無駄な電流が流れることを防止する。 - 特許庁

In the semiconductor-wafer supporting substrate made of sapphire, the average roughnesses (Ra) of center lines of the inner walls of a plurality of through holes formed in the surface of the substrate and the average roughness (Ra) of the center line of the outer peripheral side surface of the substrate are made not larger than 0.3 μm, to obtain a mirror finish.例文帳に追加

サファイア製の半導体ウェハ支持基板において、基板の面内に設けた複数の貫通穴の内壁および外周側面の中心線平均粗さ（Ｒａ）を０．３μｍ以下の鏡面仕上げとする。 - 特許庁

A height sensor (for example, a non-contact triangle measuring type sensor) 27 is provided in a nozzle for applying paste between the ribs Ra of the substrate K.例文帳に追加

かかる基板ＫのリブＲａ間にペーストを塗布するノズルには、高さセンサ（例えば、非接触三角測式センサ）２７が設けられている。 - 特許庁

Varying sizes of the surface roughness Ra in a range of 10 μm×10 μm of the a-Si photoreceptor are formed alternately in the direction of the generatrix.例文帳に追加

a-Ｓi感光体の10μｍ×10μｍの範囲における表面粗さＲaの大小を、母線方向に交互に形成したことを特徴とする。 - 特許庁

A roller 2 of the roll is held freely rotatably to a holder 4 in the arrow guiding Ra direction or Rb direction by a rotating shaft 3.例文帳に追加

成型ロ−ル１のロ−ラ−２は、ホルダ−４に回転軸３により矢視Ｒａ方向または矢視Ｒｂ方向に回転自在に保持される。 - 特許庁

The magnets 7 face both side faces of a coil 9 fixed to a coil fixing member 8, respectively, and generate a thrust force Ra by the Lorentz force.例文帳に追加

各磁石７は、コイル固定部材８に固定されたコイル９の両側面に対向し、ローレンツ力によって推進力Ｒａを発生する。 - 特許庁

As ei was replaced by a decoration of swallow-tailed ra, a kanzashi (ornamental hairpin) was inserted into the bottom of koji so that it went through a topknot to fix it. 例文帳に追加

纓は羅を燕尾の形に垂らす飾り物に代わっていたため、簪というピンを巾子の根元から差し込んで髻を貫いて固定した。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A photostimulable phosphor layer 12 is formed on a surface of a base 11 having the relationship of Ra>WCA of the surface roughness Ra (cutoff value 0.08 mm) and the surface waviness WCA (high-pass cutoff value 0.08 mm), by a vapor phase accumulation method.例文帳に追加

表面粗さＲａ（カットオフ値０．０８ｍｍ）と表面うねりＷ__ＣＡ（高域カットオフ値０．０８ｍｍ、低域カットオフ値８ｍｍ）との関係が、Ｒａ＞Ｗ_ＣＡである基板１１の表面に、輝尽性蛍光体層１２を気相堆積法により形成する。 - 特許庁

This ceramic-coated needle for controlling the gene is obtained by coating a site in contact with the cellular nucleus in at least a biological tissue in outer and inner surfaces of a needle made of a metal with an insulating ceramic film having ≥10^5 Ω×m resistivity ρ and ≤1.5 μm surface roughness expressed in terms of arithmetic average roughness Ra.例文帳に追加

金属製針の外表面および内表面のうち、少なくとも生体組織中の細胞核に接触する部位に、抵抗率ρが10^5 Ω・m 以上で、かつ表面粗さが算術平均粗さRaで 1.5μm 以下の絶縁性のセラミック被膜を被覆する。 - 特許庁

Cell selection circuits 2, 3 are operative to select from the memory cell array MA a memory cell MC whose data is to be read, and to select from the reference cell array RA a reference cell RA at a position corresponding to a position of the memory cell MC selected in the memory cell array MA.例文帳に追加

セル選択回路２，３は、メモリセルアレイＭＡの中からデータを読み出すメモリセルＭＣを選択すると共に参照セルアレイＲＡの中からメモリセルアレイＭＡにおける選択されたメモリセルＭＣの位置に対応する位置の参照セルＲＡを選択する。 - 特許庁

Further, the high pressure water is sprayed to impart a surface roughness of 1.8 to 3.5 μm by a center line average roughness Ra, and after that, the skinpass rolling is performed by using work rolls having a surface roughness of 0.3 to 6.0 μm by a center line average roughness Ra.例文帳に追加

また前記で高圧水を吹き付けて、めっき鋼板表面に中心線平均粗さＲａで１．８〜３．５μｍの表面粗さを付与し、しかる後に表面粗さが中心線平均粗さＲａで０．３〜６．０μｍのワークロールを用いて調質圧延する。 - 特許庁

The droplet discharging apparatus is so constructed that a cross-like pinning spot B1 consisting of a band-shaped spot a little longer than the cell width Ra in the direction of the X arrow and a band-shaped spot a little longer than the cell width Ra in the direction of the Y arrow is formed in the area of an impact position.例文帳に追加

着弾位置の領域で、Ｘ矢印方向に沿ってセル幅Ｒａよりも若干長い帯状のスポットと、Ｙ矢印方向に沿ってセル幅Ｒａよりも若干長い帯状のスポットとからなる十字状のピニングスポットＢ１を成形するようにした。 - 特許庁

The stainproof member is a high stainproof member and is characterized by comprising an uneven coating film comprising at least a metal oxide on the surface of a base material and a water repellent coating film applied on the uneven coating film surface and a surface mean roughness Ra of the outermost layer being 0.004-10 μm.例文帳に追加

高い防汚性を有する部材であって、基材表面に少なくとも金属酸化物からなる凹凸被膜と、該凹凸被膜表面に塗布された撥水性塗膜を有し、最外層の表面平均粗さがRa 0.004〜10μmであることを特徴とする防汚性部材とする。 - 特許庁

The plated material for the terminal or the connector has the Au plating layer formed on the surface of a base material composed of the stainless steel thin plate, wherein the arithmetic surface roughness (Ra) of the plating layer measured by an atomic force microscope is 3.0 nm or less.例文帳に追加

ステンレス鋼薄板からなる基材の表面に、原子間力顕微鏡により測定した算術表面粗さ（Ra）が３．０ｎｍ以下であるＡｕめっき層を形成してなる端子又はコネクタ用めっき材である。 - 特許庁

If the surface roughness is larger than 10 (μ in) Ra, the contact of a surface peak is increased, and if the surface roughness is smaller than 3, proper lubrication can not be maintained on the contrary between the teeth of the gear because of too much smoothness.例文帳に追加

表面あらさが10（μin）Raよりも大きいと、表面ピークの接触が増加し、また、表面あらさが３よりも小さいと逆にあまりに平滑すぎるので、ギアの歯間に適当な潤滑を維持することができない。 - 特許庁