Ra aの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1870件
A surface roughness Ra is 0.03-0.2 μm in a portion covered with the DLC layer D out of the base material.例文帳に追加
母材のうちDLC層Dが被覆されている部分の表面粗さRaは0.03〜0.2μmである。 - 特許庁
The RC series circuit 11 is constituted by a resistance Ra and a capacitor Ca connected in series each other.例文帳に追加
RC直列回路11は、互いに直列に接続された抵抗Ra 及びコンデンサCa から構成される。 - 特許庁
As a temperature of the return air RA is higher than a temperature of the outside air OA in winter, the temperature of outside air OA is increased.例文帳に追加
冬場は還気RAの温度は外気OAの温度よりも高いので、外気OAは温度が上がる。 - 特許庁
In a dielectric element 1a, a side face 2E is roughened so that the surface roughness Ra is 15 nm or greater.例文帳に追加
誘電体素子1aにおいて、側面2Eの表面粗さRaが15nm以上と粗面化されている。 - 特許庁
The certification agency(CA) selects and executes a signature system corresponding to a registration agency(RA).例文帳に追加
認証局(CA)は、登録局(RA)に対応する署名方式に従って署名方式を選択して実行する。 - 特許庁
The rotary surface 20 is a flat surface having surface roughness of a maximum of 0.1 μm in maximum center line average height Ra.例文帳に追加
回転面20は、表面粗さが算術平均粗さRaで最大0.1μmの平滑面となっている。 - 特許庁
In formula I, X1 and X2 are each a heteroatom or a halogen, Ra and Rb are each H, a halogen, cyano or an organic residue and X1 and X2, Ra and Rb, XI and Ra, or XI and Rb may bond to each other to form a cyclic structure.例文帳に追加
(一般式(I)中、X^1、X^2は各々独立して、ヘテロ原子又はハロゲン原子を表す。R^a、R^bは各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は有機残基を表す。また、X^1とX^2、R^aとR^b、又はX^1とR^aあるいはR^bとが互いに結合して環状構造を形成してもよい。) - 特許庁
The calculated resolution Ra of the image A is compared with the calculated resolution warning threshold RTf, and when the resolution Ra of the image A is smaller than the resolution warning threshold RTf, resolution warning is outputted.例文帳に追加
算出した画像Aの解像度Raと算出した解像度警告閾値RTfとを比較し、画像Aの解像度Raが解像度警告閾値RTfより小さい場合は解像度警告を行う。 - 特許庁
Specifically, the work roll used in the first roll is preferably the dull roll having a surface roughness Ra of 0.8-1.4 μm, and the work rolls used in the last two stands are preferably the bright rolls each having a surface roughness Ra of ≤0.05 μm.例文帳に追加
特に、最初のスタンドで用いるワークロールは表面粗さRa0.8〜1.4μmのダルロール、最後の2つのスタンドで用いるワークロールは表面粗さRa0.05μm以下のブライトロールが好ましい。 - 特許庁
First and second gears 12, 14 finished most suitably in interlocking between the first gear 12 equipped with the teeth 20 of a first pair and the second gear 14 equipped with the teeth of a second pair have surface roughness of roughly 5-10 (μ in) Ra.例文帳に追加
第1組の歯20を備える第1ギア12と、第2組の歯を備える第2ギア14の噛み合いにおいて、最適に仕上げた第1、第2ギア12,14は、概略5〜10(μin)Raの表面あらさを有する。 - 特許庁
In the humidifying operation of the humidity controller, a circulating operation for supplying second air as indoor air RA into a room at the time of starting and discharging first air as outdoor air OA out of the room is performed.例文帳に追加
調湿装置の加湿運転において、起動時に室内空気(RA)としての第2空気を室内へ供給して室外空気(OA)としての第1空気を室外へ排出する循環動作が行われる。 - 特許庁
The first conveying mechanism 30 is formed so as to carry the case 1 carried out of the cell rack Ra therearound along a product assembly area Ar and return it to the cell rack Ra again.例文帳に追加
第1搬送機構30は、セルラックRaから取出されたケース1を製品の組立てエリアArに沿ってその周辺部で搬送しつつ再度セルラックRaに戻すように構成した。 - 特許庁
The inclined surface portions 382 and 383 are formed in a mirror face by the polishing, and the surface roughness Ra thereof is less than the surface roughness Ra of the outer peripheral end part 26.例文帳に追加
斜面部分382、383は研磨加工により鏡面になっており、その表面粗さRaは、磁気記録ディスク2の外周端部26の表面粗さRaよりも小さい。 - 特許庁
To prevent the enlargement of a device and attain an operation at high COP in an air conditioner capable of separately performing the sensible heat treatment and latent heat treatment of room air RA.例文帳に追加
室内空気(RA)の顕熱処理と潜熱処理を別々に行えるようにした空気調和装置において、装置の大型化を防止するとともに、高COPでの運転を可能にする。 - 特許庁
Then, processing for improving surface roughness Ra (reducing surface roughness Ra) is applied only to a surface-roughness improving processing region which is part of the conical orbit face 153.例文帳に追加
そして、円すい状軌道面153の一部分である面粗度向上加工領域のみに対して面粗度Raを向上する(面粗度Raを小さくする)加工を施している。 - 特許庁
Temper rolling after the plating can be performed by using a roll having a surface roughness that the arithmetic average roughness: Ra is ≥0.7 μm, and the number of peaks per length of 25.4 mm in the average line direction of a roughness curve: (PPI) is ≥150.例文帳に追加
めっき後の調質圧延を、算術平均粗さ:Raが0.7 μm以上、粗さ曲線の平均線方向の長さ25.4mm当たりの山の数:PPI が150 以上の表面粗さを有するロールを用いて行ってもよい。 - 特許庁
The silicon carbide single crystal substrate has a volume resistivity of 0.001-0.012 Ωcm, and ≥90% of the entire substrate surface is coated with a silicon carbide single crystal surface having a surface roughness (Ra) of ≤1.0 nm.例文帳に追加
体積抵抗率が0.001Ωcm以上0.012Ωcm以下の炭化珪素単結晶基板であって、基板全表面の90%以上が、表面粗さ(Ra)1.0nm以下の炭化珪素単結晶面で覆われている炭化珪素単結晶基板である。 - 特許庁
The packet assembling part 40 of the exchange 19 receives a RA signal 331 and the channel numbers through an instructing part 41, eliminates the dummy bit DB to return it to the signal 241, adds the channel numbers to it to insert it to a packet and outputs it to a memory 42.例文帳に追加
交換機19のパケット組立部40は、RA信号331 を、また指示部41を介してチャネル番号を受信し、ダミービットDBを除去して圧縮信号241 に戻し、チャネル番号を付加してパケットに挿入してメモリ42に出力する。 - 特許庁
Consequently, even if a sensor has a low RA value, a high MR ratio is obtained in the sensor compared with a usual TMR sensor having a tunnel barrier layer including AlO_x.例文帳に追加
AlO_X からなるトンネルバリア層を備えた従来のTMRセンサと比べて、低いRA値であっても高いMR比が得られる。 - 特許庁
A surface of a semiconductor like silicon that has a surface (110) thereon is made of Ra with a thickness of 0.15 nm or smaller, so that a transistor can be fabricated with a high mobility.例文帳に追加
(110)シリコンのような半導体表面をRaで0.15nm以下にすることにより、移動度の高いトランジスタの作製を可能にする。 - 特許庁
A groove bottom of the axial direction narrow groove 10 forms a concave arc having a radius of curvature Ra of 0 to 50 mm in a cross section along the groove bottom.例文帳に追加
この軸方向細溝の溝底は、この溝底に沿う断面において曲率半径Raが10〜50mmの凹円弧状をなす。 - 特許庁
A fixed resistance Ra(12) and a diode D1(13) are connected to a point R and a point S at the both ends of the secondary wire (3) as shown in the figure 4.例文帳に追加
(ロ)二次線(3)の両端R点とS点に図4のように固定抵抗Ra(12)とダイオードD1(13)を接続しておく。 - 特許庁
An inner peripheral edge 15a of a grinding surface 15 is projected to the outside in the diametrical direction as a circular arc of a radius ra smaller than a circumference R1.例文帳に追加
研削面15の内周縁15aを円周R1より小さい半径raの円弧として径方向外側に突出させる。 - 特許庁
The parts have a surface composed of a rugged rough surface, and the surface of a recessed part and the surface of a projected part of this rugged rough surface have practically identical roughness (Ra).例文帳に追加
凹凸粗面の表面を有し且つ凹部の表面と凸部の表面とが実質的に同一の粗度(Ra)を有している。 - 特許庁
The inner side TPa is composed of an inner tread reference face 15 formed of a circular arc with a curvature radius Ra and an inner chamfering circular arc face 16 formed of a circular arc with a curvature radius Rb that is smaller than the curvature radius Ra.例文帳に追加
内側部TPaは、曲率半径Raの円弧からなる内側トレッド基準面15と、曲率半径Raよりも小さい曲率半径Rbの円弧からなる内側面取り状円弧面16とからなる。 - 特許庁
A wiring conductor 2 has a surface covered with a solder resist layer 5, having an arithmetic average roughness Ra of 0.5 μm or more, and a surface exposed from openings 5a, 5b of the solder resist layer 5, having an arithmetic average roughness Ra of 0.4 μm or less.例文帳に追加
配線導体2は、ソルダーレジスト層5で覆われた面が算術平均粗さRaで0.5μm以上であり、かつソルダーレジスト層5の開口部5a,5bから露出する面が算術平均粗さRaで0.4μm以下である。 - 特許庁
In the step (1), electrode active material and conductive material are kneaded in a solid state to prepare a kneaded mixture A having a ratio of an average particle diameter (rc) of the electrode active material to an average particle diameter (ra) of the conductive material rc/ra of 0.1 to 5.0.例文帳に追加
工程(1):電極活物質と導電材とを固体状態で混練し、電極活物質の平均粒径(rc)と導電材の平均粒径(ra)の比率がrc/ra=0.1〜5.0である混練物Aを得る工程。 - 特許庁
A method for immobilizing cell on a culturing surface is provided, comprising inoculating cell on a modified uneven culturing surface 2.0-7.0 nm in surface roughness(Ra) modified with a substance targeting the transport channel of the cell.例文帳に追加
培養面に細胞を固定化する方法であって、細胞のトランスポートチャンネルを標的とした物質で修飾された表面粗さ(Ra)2.0〜7.0 nmの修飾凹凸培養面に、細胞を播種することを特徴とする細胞固定化方法。 - 特許庁
To obtain a TMR head which allows reduced deterioration in the MR ratio in a region in which area resistance RA of a TM sensor is 1.0 Ωμm^2 or less.例文帳に追加
TMRセンサの面積抵抗RAが1.0Ωμm^2以下の領域で、MR比の劣化の少ないTMRヘッドを得る。 - 特許庁
A low-cut frequency change-over switch 33 selects a resistor instructed by means of a control signal from among resistors Ra-Rc.例文帳に追加
ローカット周波数切替えスイッチ33は、抵抗Ra 〜Rc の中から制御信号により指示された抵抗体を選択する。 - 特許庁
To provide a magnetic tunnel junction element comprising a low magnetization cap layer capable of achieving a high MR ratio and an excellent RA value.例文帳に追加
高いMR比と良好なRA値とを達成可能な低磁化キャップ層を備えた磁気トンネル接合素子を提供する。 - 特許庁
To provide a magnetoresistive device having a high giant magnetoresistance (GMR) value and a moderate low resistance area product (RA).例文帳に追加
高い巨大磁気抵抗(GMR)値と中程度に低い抵抗面積積(RA)とを有する磁気抵抗装置を提供する。 - 特許庁
An ADC 4 converts a known analog reference signal RA to a digital reference signal RD and gives it to a correction signal generating section 5.例文帳に追加
ADC4は,既知のアナログ参照信号R_Aをディジタル参照信号R_Dに変換し,補正信号作成部5に与える。 - 特許庁
The surface roughness Ra of a face of a single crystal 116 which contacts to a raw material molten liquid 104 is controlled to be 0.5 μm or less.例文帳に追加
種結晶体116の原料溶融液104と接触する面の表面粗さRaを0.5μm以下とする。 - 特許庁
If a search target T enters a designated area frame Ra on the normal light image 205, a lock-on switch SW is pressed.例文帳に追加
通常光画像205上の指定領域枠Ra内に検索対象Tが入ると、ロックオンSWが押圧される。 - 特許庁
In addition, a surface roughness of the coating is preferably Ra: 3-5 μm and Rmax: 24-35 μm.例文帳に追加
また皮膜の表面粗度は、Ra:3〜5μm、Rmax:24〜35μmであることが望ましい。 - 特許庁
Mains power is supplied to an AC/DC switching power circuit Ra through a terminal Ti.例文帳に追加
端子Tiを介して商用電源がAC/DCスイッチング電源回路Raに供給される。 - 特許庁
This substrate is especially effective when the rough-surface stencil of the reverse face resin layer has a specific roughness (Ra).例文帳に追加
裏面樹脂層の粗面型付けが、特定の粗面度(Ra)を有する場合に特に効果的である。 - 特許庁
The surface roughness Ra of a base material before being coated with the hard carbon thin film is ≤ 0.03 μm.例文帳に追加
硬質炭素薄膜の被覆前における基材の表面粗さが、Raで0.03μm以下である。 - 特許庁
Further, the flat parts 13 have a surface roughness (Ra) of ≤0.6 μm and has the diffusion function of light.例文帳に追加
また、平坦部13は、0.6μm以下の表面粗度(Ra)を有し、光の拡散機能を有する。 - 特許庁
An assigned area frame Ra is displayed on the broadband optical image 63 at the time of a tracing mode.例文帳に追加
追跡モード時においては、広帯域光画像63には指定領域枠Raが表示される。 - 特許庁
An annunciator 10A measures a sound pressure level of transmission sound which is transmitted from the room RA to the room RB.例文帳に追加
また、報知装置10Aは、部屋RAから部屋RBへ透過した透過音の音圧レベルを求める。 - 特許庁
A piping part 3 also has the inner wall roughened into the arithmetic mean surface roughness Ra of 1.0 μm or more.例文帳に追加
また、配管部3の内壁も表面平均粗さRaを1.0μm以上に表面粗化する。 - 特許庁
From these detection results, a deviation is calculated between the pre-alignment detection system and the RA coordinate system.例文帳に追加
そして、これらの検出結果から、プリアライメント検出系と、RA座標系とのずれを算出する。 - 特許庁
The exhaust duct 55 is connected to an air inlet 58 of each indoor space 81 and indoor air is guided in a body unit.例文帳に追加
排気ダクト(55)は、各室内空間(81)の吸込口(58)に接続され、室内空気(RA)を本体ユニットに導く。 - 特許庁
An evaluating object parameter Ra and the threshold value (0.5 μm) are set by using a keyboard 16.例文帳に追加
本発明は、評価対象パラメータ(Ra)及びその閾値(0.5μm)をキーボード16を用いて設定する。 - 特許庁
The outermost layer of the coating film 3 comprises a hydrophilic coating film 31 having 0.2 μm or less of surface roughness Ra.例文帳に追加
塗膜3の最外層は、表面粗さRaが0.2μm以下の親水性塗膜31からなる。 - 特許庁
A substrate is subjected to the texture processing of 0.1 to 1 nm Ra having ≥10 pieces/μm groove density.例文帳に追加
また、基板は溝の密度が10本/μm以上、Ra0.1〜1nmのテクスチャ加工が施される。 - 特許庁
It is preferable that the mean surface roughness Ra of the film is at a value from 5 nm to 120 nm.例文帳に追加
また、フィルムの平均表面粗さRaは5nm以上、120nm以下であることが好ましい。 - 特許庁
The planetarium apparatus includes: two video projectors PA and PB; relay lenses RA and RB; and a fisheye lens GL.例文帳に追加
プラネタリウム装置は、2台のビデオプロジェクタPA,PB、リレーレンズRA,RB、魚眼レンズGLを有する。 - 特許庁
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