「Ra a」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

When there is a swap command, each pointer is exchanged for RA and RB registers using a multiplexer.例文帳に追加

スワップ命令がある場合は、ＲＡとＲＢレジスタを、マルチプレクサを用いてそれぞれのポインタを交換する。 - 特許庁

Then, the light source for humans 16 has a light source having a high average color rendering index (Ra).例文帳に追加

そして、対人用光源１６には平均演色評価数（Ｒａ）の高い光源が用いられている。 - 特許庁

The indium target has an arithmetical mean roughness (Ra) of 1.6 μm or less on a target surface and a ten-point mean roughness (Rz) of 15 μm or less.例文帳に追加

インジウムターゲットは、ターゲット表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が１．６μｍ以下である。 - 特許庁

(1) The leader tape is formed by successively layering a non-magnetic lower layer and a magnetic upper layer on one surface of a substrate, wherein the surface of the substrate has 30 to 50 nm Ra, Ra of the layered layer applied surface of the substrate is larger than Ra of the opposite surface and difference therebetween is ≤4 nm.例文帳に追加

１）支持体上の一方の面に非磁性の下層および磁性の上層を順次重層してなり、前記支持体表面のＲａが３０〜５０ｎｍであり、前記支持体の重層塗布面のＲａが、反対面のＲａより大きく、かつその差が４ｎｍ以下であるリーダーテープ。 - 特許庁

The aluminum alloy sheet is made from a high-purity aluminum material having an Al content of 99.5 mass% or more; has arithmetic mean roughness (Ra) of 0.10 μm or less, which shows a degree of surface roughness; and has such a relation between Ra and mean spacing (Sm) of surface irregularities as to satisfy Sm≥91Ln(Ra)+370.例文帳に追加

Ａｌ含有量が９９．５ｍａｓｓ％以上の高純度のアルミニウム材であって、その表面粗さの程度を表す中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１０μｍ以下で、かつ、Ｒａと凹凸の平均間隔（Ｓｍ）が、 Ｓｍ≧９１Ｌｎ（Ｒａ）＋３７０ を満足するアルミニウム合金板。 - 特許庁

A bright roll the average surface roughness Ra of which is ≤0.6 μm or a dull roll the average roughness Ra of which is ≤1.5 μm is used for the work roll of the final stand of a cold rolling mill in the cold rolling stage.例文帳に追加

冷間圧延工程における冷間圧延機最終スタンドのワークロールには、ロール表面平均粗さＲａ０．６μｍ以下のブライトロール又は平均粗さＲａ１．５μｍ以下のダルロールを用いる。 - 特許庁

In the scintillator plate with the scintillator layer consisting of deposition crystals on a substrate, the average roughness (Ra) of the central line on the contact surface of the substrate contacting the scintillator layer is 0.001≤Ra≤0.1 μm and the maximum roughness (Rt) of the contacting surface and the average roughness (Ra) have a relation of 5≤Rt/Ra≤150.例文帳に追加

基材上に蒸着結晶からなるシンチレータ層を有するシンチレータプレートにおいて、該基材の該シンチレータ層と接触する接触面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、０．００１≦Ｒａ≦０．１μｍであり、該接触面の最大粗さ（Ｒｔ）と該Ｒａが、５≦Ｒｔ／Ｒａ≦１５０である関係を有することを特徴とするシンチレータプレート。 - 特許庁

In the rubber blanket used for fine line patterning, the surface rubber of the rubber blanket has arithmetical mean roughness of a value of 0.05×Ra(p) to 4.5×Ra(p) with respect to arithmetic mean roughness Ra(p) of the surface of the printing body.例文帳に追加

細線パターニングに使用されるゴムブランケットであって、ゴムブランケット表面ゴムの算術平均粗さが、被印刷体表面の算術平均粗さＲａ（ｐ）に対し０．０５×Ｒａ（ｐ）から４．５×Ｒａ（ｐ）の値の粗さを持つゴムブランケットである。 - 特許庁

The first clutch C1, the second clutch C2 and the third clutch C3 are structured to freely connect a first element Ra, the first element Ra, and the first element Ra to the third element Sa, the first rotational element Y1 and the third rotational element Y3, respectively.例文帳に追加

第１クラッチＣ１は第１要素Ｒａと第３要素Ｓａとを、第２クラッチＣ２は第１要素Ｒａと第１回転要素Ｙ１とを、第３クラッチＣ３は第１要素Ｒａと第３回転要素Ｙ３とを夫々連結自在に構成される。 - 特許庁

This substrate for bioassey comprises a detecting surface Ra which is formed in the reaction area R and to which a probe substance for detecting interaction between the substances is fixed, and a recessed portion area Rb formed at the circumference of the detecting surface Ra and comprising a bottom face portion at a position lower than an upper face of the detecting surface Ra.例文帳に追加

この反応領域Ｒ内に形成され、物質間の相互作用を検出するプローブ物質が固定される検出表面Ｒａと、該検出表面Ｒａの周辺に形成され、該検出表面Ｒａの上面よりも低い位置に底面部を備える凹部領域Ｒｂと、を備えるバイオアッセイ用基板を提供する。 - 特許庁

To provide a method for improving interaction between a scheduling request (SR) procedure and a random access (RA) procedure in a user equipment (UE), in order to prevent uplink transmission error or RA procedure failure that may occur when performing the RA procedure corresponding to the SR procedure and to provide a communication apparatus.例文帳に追加

ＵＥ（ユーザー端末）でスケジューリングリクエスト（ＳＲ）プロシージャに対応するランダムアクセス（ＲＡ）プロシージャーを実行するときに発生しうるアップリンク伝送エラーまたはＲＡプロシージャの失敗を防止するために、ＳＲプロシージャとＲＡプロシージャーの間の相互作用を改善する方法及び通信装置を提供する。 - 特許庁

A large diameter gear 5a rolls a first rack 7 provided in a shutter 6 but the shutter 6 is moved at a speed of Ra/Rb times, where the Ra/Rb is the ratio of radial dimension between the large diameter gear 5a and the small diameter gear 5b.例文帳に追加

このとき、大径歯車５ａがシャッタ６に設けられた第１のラック７を転動するが、シャッタ６は大径歯車５ａと小径歯車５ｂの径寸法比であるＲａ／Ｒｂ倍の速さで移動させられる。 - 特許庁

Surface roughness Ra of a surface 21 in contact with the ceramic green sheet 8 of a porous sheet 16 and a grain diameter D50 of metal powder 22 in the conductive paste 17 are so selected that a relation of Ra≤D50 is held.例文帳に追加

多孔質シート１６のセラミックグリーンシート８に接触する表面２１の表面粗さＲａと導電性ペースト１７中の金属粉末２２の粒径Ｄ_50とが、Ｒａ≦Ｄ_50の関係を有するように選ばれる。 - 特許庁

The polyimide film has a tensile modulus of 2 GPa or more, an Ra (average surface roughness) of 5-150 nm, and an Ra/σ [(average surface roughness)/(standard deviation of average surface roughness)] of 2-5,000 and is particularly from a polyimide in which the residue of an aromatic diamine has a diamine residue having a benzoxazole skeleton.例文帳に追加

引張弾性率が２ＧＰａ以上、Ｒａ（平均表面粗さ）が５〜１５０ｎｍ、Ｒａ／σ（（平均表面粗さ）／（平均表面粗さの標準偏差））が２〜５０００であるポリイミドフィルムでる。 - 特許庁

The surface roughness Ra of a front face of the surface layer 11 is specified to be 0.5 μm or smaller.例文帳に追加

表面層１１の表面の表面粗さＲａが０．５μｍ以下に設定されている。 - 特許庁

The surface roughness of a belt groove 6 of the V pulleys 2, 4 is set in the range of Ra 0.5-3.0 μm.例文帳に追加

Ｖプーリ２，４のベルト溝６の表面粗さをＲａ０．５〜３．０μｍの範囲に設定する。 - 特許庁

This traffic information is received by a radio receiver RA and the received traffic information is analyzed.例文帳に追加

ラジオ受信機ＲＡで交通情報を受信し、受信した交通情報の解析を行う。 - 特許庁

(1) A pixel array Ra of an image carrier is multiple exposed with the use of the light emitting element arrays LA-LC.例文帳に追加

（１）発光素子列ＬＡ〜ＬＣを用いて像担持体の画素列Ｒａを多重露光する。 - 特許庁

To provide a method for operating an electric furnace by which desired arc resistance Ra can be maintained.例文帳に追加

所望のアーク抵抗Ｒａを維持することが可能な電気炉の操業方法を提供する。 - 特許庁

Surface roughness Ra to be a bonding interface is set to be 0.01 to 2 μm.例文帳に追加

接着界面となるべき面の表面粗さＲａは０．０１μｍ〜２μｍに設定されている。 - 特許庁

The first input element Ra is connectable to the input element Cc via a clutch C4.例文帳に追加

第１入力要素ＲａがクラッチＣ４を介して入力要素Ｃｂに連結可能である。 - 特許庁

A comparing means A11 generates the corresponding information of the transistors included in net lists RA and RT.例文帳に追加

比較手段Ａ１１はネットリストＲＡ，ＲＴに含まれるトランジスタの対応情報を生成する。 - 特許庁

Means 2: surface roughness Ra of outer circumferential surface of a roller in the roller follower is set to be 0.4-2.2 μm.例文帳に追加

（手段２）ローラフォロアのローラ外周面の表面粗さＲａを０．４〜２．２μｍとする。 - 特許庁

The surface roughness (Ra) of the transfer material (a) is desirably 1 μm-10 μm.例文帳に追加

転写材（ａ）の表面粗さ（Ｒａ）は１μｍ以上１０μｍ以下であることが望ましい。 - 特許庁

In (A), when sequence numbers of records Ra and Rb are compared with each other, they are not sequential (54 and 152).例文帳に追加

（Ａ）において、レコードＲａ，Ｒｂのシーケンス番号を比較すると、連番でなない（５４と１５２）。 - 特許庁

This glass has a rating of class 1 of the chemical durability (powder method acid resistance: RA) by the powder method.例文帳に追加

粉末法による化学的耐久性（粉末法耐酸性：ＲＡ）がクラス１である前記ガラス。 - 特許庁

A radius of curvature Ra of the large arc portion 14 occupies 10 to 40% of the grounding width.例文帳に追加

大円弧部１４の曲率半径Ｒａは、接地巾ＴＷの１０〜４０％をなす。 - 特許庁

To provide a simple and preliminarily diagnosing method specific for human rheumatoid arthritis (RA) with high accuracy.例文帳に追加

簡易で、精度が高い予診性のヒト慢性関接リウマチ（ＲＡ）特異的診断法の提供 - 特許庁

The die lip 4 is treated in such a manner that the surface roughness (Ra value) may become 0.1 μm or lower.例文帳に追加

ダイリップ４は、表面粗さ（Ｒａ値）が０．１μｍ以下となるように加工されている。 - 特許庁

The punch face is surface- treated to have a surface roughness Ra of ≤1.0 μm.例文帳に追加

また、パンチ面８６、７０を面粗度Ｒａが１．０μｍ以下となるように表面処理する。 - 特許庁

After receiving a recommendation letter from Shingoku RA and Konen O, he began selling his works in various places in China. 例文帳に追加

中国でも羅振玉と汪康年より推薦文を貰い受け各地で売印をしている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

The braking torque is made equal to a torque applied to the joint portion Ra by the drive source.例文帳に追加

制動トルクは、誤動作時に駆動源により関節部Ｒａに付与されるトルクに等しくする。 - 特許庁

The magnet body 2 has a surface arithmetic mean roughness (Ra) of 0.08 to 0.8 μm.例文帳に追加

また、磁石素体２は、その表面の算術平均粗さ（Ｒａ）が、０．０８〜０．８μｍである。 - 特許庁

A surface roughness average value Ra of the elastic polishing body 3 is preferably 0.1 μm or less.例文帳に追加

弾性研磨体３の表面粗さの平均値Ｒａが０．１μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

On a surface of a steel sheet having an arithmetic average roughness Ra of ≤0.3 μm, a coating material is applied by a roll coating method and glazed.例文帳に追加

算術平均粗さＲａが０.３μｍ以下の鋼板の表面に、塗料をロールコート法で塗布し、塗料を焼き付ける。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a biaxially oriented polyester film which can realize the desired surface roughness (Ra) of a film surface when calcium carbonate is used as a lubricant.例文帳に追加

滑剤として炭酸カルシウムを用いた時に、所望のフィルム表面のＲａを実現する製造方法を提供する。 - 特許庁

A computer sets a hue area of a prescribed range with an equal color value R_Lab with respect to a noticed grating point as a center, as a prescribed area RA.例文帳に追加

計算機は、注目格子点に対応する均等色彩値Ｒ_Labを中心とする所定範囲の色相域を所定領域ＲＡとする。 - 特許庁

A cutting blade 6 for cutting a wrap film Ra is fitted to a cutting blade fitting piece 22b of a lid 22 forming a free opening/closing end of an openable/closable casing 2 for storing a wrap film roll R in which the wrap film Ra is wound in a roll form therein.例文帳に追加

ラップフィルムＲａがロール状に巻回されたラップフィルムロールＲを内部に収納する開閉可能なケーシング２の開閉自由端である蓋部２２の切断刃取付片２２ｂにラップフィルムＲａを切断する切断刃６が取付けられている。 - 特許庁

In a plasma chemical vapor phase deposition(CVD) apparatus, the surface roughness (Ra) of a member in a vacuum tank is set to be ≤5.0 μm.例文帳に追加

プラズマ化学気相堆積（ＣＶＤ）装置において、真空槽内の部材の表面粗さ（Ｒa）を５．０μｍ以下とする。 - 特許庁

An average surface roughness Ra of a face of a heat resistant resin film 20 comprising a support body 2 is >0.05μm and ≤0.5μm.例文帳に追加

支持体２をなす耐熱性樹脂膜２０の面の平均表面粗さＲａを０．０５μｍ＜Ｒａ≦０．５μｍとする。 - 特許庁

Plastic working is applied to a magnesium alloy stock, a surface roughness of a principal part after plastic working is ≤70 μm Ra.例文帳に追加

マグネシウム合金素材に塑性加工を施し、塑性加工後の主要部の表面粗さを７０μｍＲａ以下にする。 - 特許庁

A control part specifies an escape point G for escaping from an advancing road Ra, from a traveling locus K of a vehicle Ca.例文帳に追加

制御部は、進出道路Ｒａから脱出した脱出点Ｇを車両Ｃａの走行軌跡Ｋから特定する。 - 特許庁

Concretely, the invention provides a nonporous cell culture substrate composed of a polycaprolactone and having a surface roughness (Ra) of ≤105 nm.例文帳に追加

具体的には、表面粗さ（Ｒａ）が１０５ｎｍ以下のポリカプロラクトンからなる無孔性の細胞培養基材による。 - 特許庁

The glass substrate for a magnetic disk has a conductive film having 0.1 to 1.5 nm average surface roughness (Ra) on a glass plate.例文帳に追加

ガラス板上に平均表面粗さ（Ｒ_a ）が、０. １〜１．５ｎｍである導電性膜を有する磁気ディスク用ガラス基板。 - 特許庁

The substrate mounting surface 50 includes a rough part 51 having a rough surface with a surface roughness Ra of ≥2 μm and ≤6 μm and a flat part 53 with a surface roughness Ra of <2 μm, while encloses the circumference of the rough part 51.例文帳に追加

基板載置面５０は、表面粗さＲａが２μｍ以上６μｍ以下の粗い表面を有する粗化部５１と、この粗化部５１の周囲を囲む表面粗さＲａが２μｍ未満の平滑部５３とを有している。 - 特許庁