「SYNTHETIC QUARTZ」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

To obtain a pellicle with a pellicle plate made of synthetic quartz glass and having such a degree of precision as <±0.3 μm/150 mm unevenness in thickness necessary for a pellicle plate.例文帳に追加

ぺリクル板として必要な厚さバラツキ±０．３μｍ／１５０ｍｍ以内の精度を持つ合成石英ガラス製ペリクル板を備えたペリクルを得る。 - 特許庁

To provide a synthetic quartz glass body having a high light transmittance which is used for transmitting a light selected from the group consisting of infrared light, visible light, and ultraviolet light.例文帳に追加

赤外線、可視光線、紫外線からなる群から選ばれた光線を通過させるために使用される高い光透過率を有する合成石英ガラス体を提供する。 - 特許庁

The pellicle frame 10 constituting the pellicle is made of synthetic quartz glass having 0.2×10^15 to 7.0×10^15 cm^-3 oxygen-deficiency defect density.例文帳に追加

ペリクルを形成するペリクルフレーム１０を、酸素欠乏型欠陥の濃度が０．２×１０^１５〜７．０×１０^１５ヶ／ｃｍ^３である合成石英ガラスで構成する。 - 特許庁

A thin film 3 of a reagent composed of acid, alkali or organic solvent is formed on one face of a chip-shaped collecting board 2 made of a silicon or quartz thin plate, or a synthetic resin film.例文帳に追加

シリコン若しくは石英の薄板又は合成樹脂フィルムからなるチップ状の捕集基材２の片面に、酸、アルカリ又は有機溶媒からなる試薬の薄膜３を形成した。 - 特許庁

A laser beam 3 is irradiated on the surface of the transparent conductive SnO_2:F film 2 through the entrance window 6 made of synthetic quartz and water 5, and the conductivity of the portion of the film 2 which has received the irradiation changes.例文帳に追加

レーザー光３は、合成石英製入射窓６及び水５を介して透明導電性ＳｎＯ_２：Ｆ膜２表面に照射され、照射を受けた膜２の部分の導電率が変化する。 - 特許庁

The material forms polycrystalline structure and comprises synthetic quartz crystallites having an average grain size in the range of 500 nm to 30 μm.例文帳に追加

本発明の材料は、多結晶構造を形成し、そして平均の粒子の大きさが５００ｎｍと３０μｍとの間にある合成石英結晶子から成る。 - 特許庁

The F-doped synthetic quartz glass material contains, by weight, less than 50 ppm of Cl, less than 50 ppb of Na, less than 50 ppb in total of transition metals, and 0.1-5,000 ppm of fluorine.例文帳に追加

５０ｐｐｍより少ないＣｌ、５０ｐｐｂより少ないＮａ、合計して５０ｐｐｂより少ない遷移金属、及び０.１ｐｐｍから５０００ｐｐｍのフッ素、を含有するＦドープ合成石英ガラス材料とする。 - 特許庁

To obtain a porous glass body by a vapor phase deposition capable of manufacturing a fluorine-added synthetic quartz glass material where fluorine is uniformly added and distortion hardly remains.例文帳に追加

気相法で得られた多孔質ガラス体であって、均一なフッ素の添加ができ、かつ歪みがほとんど残ることがないフッ素添加合成石英ガラス材を製造できる多孔質ガラス体を得ることにある。 - 特許庁

The method of manufacturing the synthetic quartz glass lens with increased H_2 content for the optical system having <250nm, particularly <200 nm operating wave length is structured.例文帳に追加

２５０ｎｍ未満、特に２００ｎｍ未満の動作波長を持つ光学系用の、Ｈ_2含有量を増加させた合成石英ガラスのレンズを製造する方法。 - 特許庁

A synthetic quartz glass substrate on which a resist film is covered is immersed in solvent in which terpenes are dissolved, the resist film is detached and the substrate is rinsed with water.例文帳に追加

基板表面にレジスト膜が被覆された合成石英ガラス基板を、テルペン類が溶解している溶剤に浸漬して、上記レジスト膜を剥離し、次いで当該基板を水リンスする。 - 特許庁

To provide synthetic quartz glass used as an ultraviolet ray transmitting material for a discharge lamp or the like, having high transmissivity/durability to light in vacuum ultraviolet zone and formed into a tube by the existing hot machining and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

放電ランプ等の紫外線透過材として使用でき、真空紫外域の光に対して高い透過率・耐久性を有し、既存の熱間加工にてチューブの製造が可能な合成石英ガラス及びその製造方法の提供。 - 特許庁

This method for producing the optical element is a method which includes a stage for processing high purity synthetic quartz glass by means of lithography, or a method wherein the above glass is subjected to a hydrogen containing treatment after being processed.例文帳に追加

リソグラフイーによって高純度合成石英ガラスを加工する段階を含む光学素子の製造方法、または光学素子において、前記ガラスを加工した後に、該ガラスに対して水素ガス含有処理を行うように構成する。 - 特許庁

To provide a pellicle made of synthetic quartz glass in which an adhesive and a sealing agent are hardly decomposed by F_2 laser light or the like and the transmittance of the adhesive for curing light or cleaning light is high.例文帳に追加

Ｆ_２レーザ光等により接着剤及びシール剤が分解されにくく、接着剤の硬化光及び洗浄光の透過率が高い、合成石英ガラス製のペリクルを提供する。 - 特許庁

In the inspection method for the synthetic quartz glass power, the glass powder is irradiated with ultraviolet light, and the number of particles which emit fluorescence is measured.例文帳に追加

合成石英ガラス粉に紫外光を照射し、蛍光を発する粒子の個数を計測することを特徴とする合成石英ガラス粉の検査方法。 - 特許庁

Synthetic silica glass powder, which is most suitable for producing a quartz glass crucible for drawing up silicon single crystal, is manufactured by heating amorphous silica powder, which has been produced by sol-gel process, in hydrogen atmosphere up to 800-1,300°C.例文帳に追加

ゾルゲル法により製造された非晶質シリカ粉を水素雰囲気中で８００〜１３００℃に加熱することにより、シリコン単結晶引き上げ用石英ガラスルツボ用として最適な合成シリカガラス粉を製造する。 - 特許庁

In the optical waveguide having a core waveguide 2 to propagate light on a substrate 1, a synthetic quartz glass substrate consisting of pure SiO2 and containing substantially no hydroxyl group is used for the substrate 1.例文帳に追加

基板１上に光を伝播するためのコア導波路２が形成された光導波路において、基板１として、純粋ＳｉＯ_2 からなり水酸基を実質的に含まない合成石英ガラス基板を用いる。 - 特許庁

To provide a substrate processing device which surely restrains gas leak from the substrate processing device even if connected at a high temperature, in the substrate processing device connecting a resin synthetic exhaust conducting tube to a quartz piping.例文帳に追加

石英製の配管に合成樹脂製の排気導管を連結した基板処理装置に於いて、連結部が高温となった状態でも基板処理装置からのガス漏れを確実に抑止する基板処理装置を提供する。 - 特許庁

Since the use of a material transparent to the ultraviolet light, such as expensive synthetic quartz can be reduced, the cost of a ultraviolet light source system can be reduced.例文帳に追加

また、高価な合成石英などの、真空紫外光に透明な材料の使用を少なくできるので、紫外光源システムのコストを下げることもできる。 - 特許庁

To provide new synthetic quartz glass which has sufficient resistance against ultraviolet rays and allows the transmissivity in the vicinity of ultraviolet absorption end and the producibility to be compatible at a high level.例文帳に追加

十分な耐紫外線特性を有し、かつ紫外吸収端近傍における透過特性と製造性を高い次元で両立し得る新規な合成石英ガラスを提供する。 - 特許庁

This optical member consists of the synthetic quartz having ≤5 ppb Ma concentration and ≤3 ppb difference between the maximum value and the minimum value of the Na concentration and has ≤2 nm birefringence.例文帳に追加

Ｎａ濃度が５ｐｐｂ以下、かつＮａ濃度の最大値と最小値の差が３ｐｐｂ以下である合成石英ガラスからなり、複屈折が２ｎｍ以下である合成石英ガラス製光学部材。 - 特許庁

This optical synthetic quartz glass has 2261-2270 cm-1 wavenumbers of absorption peaks in the vicinity of 2260 cm-1 of infrared ray absorption spectrum and <200 ppm OH group content based on weight ratio.例文帳に追加

赤外線吸収スペクトルの2260cm^-1近傍における吸収ピークの波数が2261〜2270cm^-1であり、かつ重量比にてＯＨ基の含有量が200ppm未満である光学用合成石英ガラス。 - 特許庁

This storage rack A for storing photomasks 2 is provided with cooling pipes 1 made of synthetic quartz or metal for adsorbing the volatile organic component and filled with a refrigerant.例文帳に追加

フォトマスク２を保管するための保管棚Ａであって、揮発性有機成分を吸着させるための合成石英または金属からなり、冷媒が充填された冷却管１を備える。 - 特許庁

This photocatalytic device comprises an optical guide path 2 formed of Ta2 and O5 on a transparent synthetic quartz (or glass) substrate 1 and a photocatalytic layer 3 formed of TiO2 on the optical waveguide path 2.例文帳に追加

透明な合成石英（又はガラス）基板１上に、Ｔａ_2 Ｏ_5 からなる光導波路２が形成されており、この光導波路２上に、ＴｉＯ_2 からなる光触媒層３が形成されている。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a preform for an optical fiber by adequately welding and connecting an upper dummy tube of a small thickness and a synthetic quartz tube of a large thickness within an electric furnace.例文帳に追加

電気炉内で、肉厚の薄い上部ダミー管と肉厚の厚い合成石英管とを適切に溶着し接続する光ファイバ用プリフォームの製造方法を提供する。 - 特許庁

This can remove impurities, such as an aluminum existing on the surface of the synthetic quartz, enable reduction of the impurity concentration of the cleaning liquid in the cleaning bath.例文帳に追加

これにより、合成石英表面に存在するアルミニウムなどの不純物を除去することができるので、洗浄槽内の洗浄液の不純物濃度を低減することができる。 - 特許庁

The synthetic quartz is grown by hydrothermal synthesis using an autoclave and the growing conditions are controlled to obtain 1.78 mm/day growth rate in an NaOH soln.例文帳に追加

合成水晶の育成はオートクレーブを用いた水熱合成法を用い、ＮａＯＨ溶液中で成長速度が１．７８ｍｍ／日となるように設定した。 - 特許庁

To provide an optical member made from a synthetic quartz glass, exhibiting a low birefringence, small in its variation and suitable for the optical member used for a light exposure apparatus of a refractive optical system or of a reflective optical system.例文帳に追加

低複屈折であり、かつその複屈折のバラツキが小さく、屈折光学系または反射屈折光学系の露光装置に用いられる光学部材として好適な合成石英ガラス製光学部材の提供。 - 特許庁

First H_2 is supplied to a precursor product for the synthetic quartz glass lens provided with an outer peripheral boundary surface and 2 base part surface to face the outer peripheral boundary surface to give <2×10^15 molecule/cm^3 H_2.例文帳に追加

外周境界表面と、向かい合う側に位置する２つの基部表面を備えた合成石英ガラスの前駆体製品に、２×１０^15分子／ｃｍ^3未満の第１のＨ_2含有量を供給する。 - 特許庁

The objective method for producing a pellicle includes a step for producing a pellicle plate by polishing a synthetic quartz glass plate whose dimensions are larger than those of a pellicle frame by ≥10 mm and then cutting the polished plate to prescribed dimensions.例文帳に追加

ペリクルフレームの寸法より１０ｍｍ以上外形寸法の大きい合成石英ガラス板を研磨し、次いで合成石英ガラス板を所定の寸法に切断することにより、ペリクル板を製造する工程を含む。 - 特許庁

Slurry prepared by adding water to pulverized synthetic silica powder 2 having a particle size of 40 μm or less and agar is applied on the surface of a quartz glass sheet 1, to form a coating layer 3.例文帳に追加

合成シリカ粉２を粉砕して４０μｍ以下の粒度とし、寒天、水を加えてスラリーを形成し、このスラリーを石英ガラス板１の表面に塗布してコーティング層３を形成した。 - 特許庁

To provide a synthetic quartz glass member for optics having high laser resistance, which can be favorably used as a material for a variety of parts for a semiconductor aligner, and a method of producing the same.例文帳に追加

半導体露光装置用の各種光学材料として好適に使用できる耐レーザー性の高い光学用合成石英ガラス部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The optical part of the synthetic quartz glass is polished with a cerium oxide-based abrasive, then cleansed with a heated aqueous solution composed principally of sulfuric acid.例文帳に追加

合成石英ガラスからなる光学部材を、酸化セリウム系研磨剤を用いて研磨した後、加熱した、硫酸を主成分とする水溶液を用いて洗浄する。 - 特許庁

The precursor is treated in a H_2-containing atmosphere to form a precursor product of the synthetic quartz glass which has second H_2 content of >10^16 molecule/cm^3 exceeding the first H_2 content.例文帳に追加

第１のＨ_2含有量に対して増加された第２のＨ_2含有量、１０^16分子／ｃｍ^3を超える第２のＨ_2含有量を持つ合成石英ガラスの前駆体製品を作成するために、Ｈ_2含有雰囲気中で前駆体製品を処理する。 - 特許庁

To provide a method for treating a hydrochloric acid waste liquid which efficiently neutralizes the hydrochloric acid waste liquid formed from hydrogen chloride gas generated when synthetic glass such as high-purity quartz glass or the like is produced to allow discharge outside, and its apparatus.例文帳に追加

高純度石英ガラスなどの合成ガラスの製造の際に発生する塩化水素ガスから形成した塩酸廃液を効率的に中和させて外部へ排出できる塩酸廃液の処理方法及び処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a synthetic quartz glass member which can enhance the transmittance of optical lithography device using an ArF excimer laser as a light source to exhibit sufficient practicality, and to provide an optical lithography device using the same.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザを光源とする光リソグラフィー装置の透過率を高めて十分な実用性を発揮させることが可能な合成石英ガラス部材及びこれを用いた光リソグラフィー装置を提供する。 - 特許庁

A pellicle plate 12 comprises synthetic quartz glass and an adhesive having ≤2% volume shrinkage percentage in curing is used as an adhesive member used for adhesion of a pellicle frame 13 to the pellicle plate 12.例文帳に追加

ペリクル板１２は合成石英ガラスからなり、ペリクルフレーム１３とペリクル板１２との接着に使用される接着部材として、硬化時の体積収縮率が２％以下である接着剤を用いたことを特徴とする。 - 特許庁

The pellicle has a pellicle material comprising synthetic quartz glass having ≤100 ppm concentration of OH groups and not substantially containing a reduced form defect.例文帳に追加

ＯＨ基濃度が１００ｐｐｍ以下であり実質的に還元型欠陥を含まない合成石英ガラスからなるペリクル材を有してなることを特徴とする。 - 特許庁

In a synthetic quartz glass crucible for pulling the single crystal, the etching amount in the vicinity of the melt line in silicon melting is made different from that at the part below the melt line.例文帳に追加

単結晶シリコン引上げ用の合成石英ガラスルツボに関して、シリコンを融解した時のメルトライン付近のエッチング量とそれより下部のエッチング量を変える。 - 特許庁

To equalize a hydrogen concentration distribution in a glass by efficiently impregnating a synthetic quartz glass with hydrogen necessary for providing resistance to the long-term irradiation of UV laser beam or UV light.例文帳に追加

合成石英ガラスに対してＵＶレーザ光やＵＶ光の長期照射に対する耐性を備えるのに必要な水素を効率的に含浸させ、ガラス内の水素濃度分布の平準化を図る。 - 特許庁

An SiO_2 layer 9 formed on the surface of the SiC substrate 8 due to the irradiation of ultraviolet light is chemically removed in the potassium hydroxide solution, and the SiO_2 layer 9 is also removed by a synthetic quartz surface plate 3a.例文帳に追加

紫外光の照射によってＳｉＣ基板８の表面に形成されたＳｉＯ_２層９を水酸化カリウム溶液によって化学的に除去すると共に、合成石英定盤３ａによってもＳｉＯ_２層９を除去する。 - 特許庁

To form a high quality pattern with a high residual film ratio and a high contrast ratio, even if a mask substrate is composed of synthetic quartz with the thickness of 0.250 inch in forming a resist pattern with a chemically-amplified resist.例文帳に追加

化学増幅型レジストによるレジストパターン形成において、厚さ０．２５０インチの合成石英からなるマスク基板であっても、高い残膜率かつ高コントラストである、高品質なパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a method of producing synthetic quartz glass useful as a material for an optical component and others used together with an ultraviolet laser, and a thermal treatment apparatus used therein.例文帳に追加

紫外線レーザと共に使用される光学部材等の材料として有用な合成石英ガラスの製造方法、並びにそれに用いる熱処理装置の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing colloidal silica of high purity enough to be used satisfactorily for various purposes and a method for manufacturing high purity synthetic quartz powder.例文帳に追加

用途に好ましく使用するに十分なほど高純度のコロイダルシリカの製造方法と、高純度合成石英粉の製造方法とを提供する。 - 特許庁

To provide a method for dehydrating water-containing silica gel, which is industrially highly suitable in view of energy cost, and to provide a method for producing highly pure synthetic quartz glass powder, which is industrially highly suitable in view of energy cost.例文帳に追加

エネルギーコスト的に工業化適性の高い含水シリカゲルの脱水方法を提供し、さらにエネルギーコスト的に工業化適性が高くかつ高純度の合成石英ガラス粉末の製造方法を提供する。 - 特許庁

To reduce the change in the refractive index of an irradiated portion of synthetic quartz glass, caused by the irradiation with a high energy light emitted from a light source such as a KrF excimer laser or an ArF excimer laser.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザ、ＡｒＦエキシマレーザなどの光源から発せられる高エネルギー光の照射により発生する合成石英ガラスの照射部の屈折率変化量を低減する。 - 特許庁