「SYNTHETIC QUARTZ」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The slits 28a, 28b are formed on the same member, masking the surface of a synthetic quartz glass plate 31 having a low coefficient of linear expansion with a vapor deposited film 32 of chromium or the like.例文帳に追加

スリット２８ａ、２８ｂは、線膨張係数の低い合成石英ガラス板３１の表面をクロームなどの蒸着膜３２でマスクして、同一部材上に形成されている。 - 特許庁

The surface of the synthetic quartz which is cut, welded, and sintered is etched to approximately 30 μm, in advance, by hydrofluoric acid solution.例文帳に追加

切断、溶接、焼結を施した合成石英材に対して、弗化水素酸水溶液で予め３０μｍ程度、合成石英材の表面をエッチング処理する。 - 特許庁

The synthetic quartz glass fiber is used for a multilayer printed wiring board used at a high frequency of ≥1GHz and has a diameter of ϕ3μm-ϕ9μm and a virtual temperature of 1,200-1,600°C.例文帳に追加

１ＧＨｚ以上の高周波用多層プリント基板に用いられ、繊維径がφ３μ以上、φ９μ以下の合成石英ガラス繊維であって、仮想温度が１２００℃以上、１６００℃以下であるようにした。 - 特許庁

The coating layer 3 is dried by vaporizing moisture at 30°C, defatted and sintered and then a roughened layer 4 is formed by fusing the coating layer 3 on the quartz glass sheet 1 in a state that projections of the synthetic silica powders 2 are remained.例文帳に追加

３０℃で乾燥させて水分を蒸発させ、乾燥後、脱脂及び焼結をおこなって合成シリカ粉２の突起が残った状態で石英ガラス板１に融着させて粗面化層４を形成した。 - 特許庁

When the synthetic quartz layer is composed to be as thin as possible like this and at a high viscosity, a depression of the inner surface of the crucible bottom is prevented and the generation of bubbles is suppressed.例文帳に追加

このように合成石英層をできるだけ薄く且つ高い粘度で構成した場合には、ルツボ底部の内表面の凹みが防止され、気泡の発生が抑制される。 - 特許庁

The optical synthetic quartz glass is characterized in that the OH group concentration is 100 ppm or less, F concentration is 1000 ppm or less, and the variance width of refractive index Δn is 5×10-7 or less.例文帳に追加

ＯＨ基濃度が100ppm以下、Ｆ濃度が1000ppm以下で、屈折率の変動幅Δｎが5×10^-7以下であることを特徴とする光学用合成石英ガラス。 - 特許庁

An Xe2 excimer lamp 1 is lighted over a synthetic quartz window 2, and TEOS and an additive gas O2 are introduced in a vacuum chamber 3 to form a film on a wafer 6 for a forming time of 15 min with a gas flow rate of 100 sccm at a TEOS partial pressure of 300 mTorr.例文帳に追加

合成石英窓２上よりＸｅ_2 エキシマランプ１を照射し、真空チャンバ３内にＴＥＯＳ、添加ガスであるＯ_2 を導入することにより、ウエハ６上に成膜を行った。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for producing synthetic quartz glass, in which an organosilicon compound is used as a raw material and which is capable of suppressing OH group concentration in the glass to a prescribed concentration.例文帳に追加

ガラス中のＯＨ基濃度を所定の濃度に抑えることのできる、有機珪素化合物を原料とする合成石英ガラスの製造方法および製造装置。 - 特許庁

An operation part 15 calculates the position of the interface based on the detected light intensity distribution by the CCD 14 and calculates the thickness of the synthetic quartz glass layer 1a.例文帳に追加

演算部１５は、ＣＣＤ１４で検出された光強度分布に基づいて界面の位置を求め、合成石英ガラス層１ａの厚みを演算する。 - 特許庁

A synthetic quartz glass preform 4 is manufactured by manufacturing a quartz glass fine particle deposited body by controlling at least one of a hydrogen gas flow rate, an exhaust pressure and a depositional surface temperature so that the growth rate fluctuation in the growth axial direction during soot deposition becomes less than ±5%, and intercalating the fine particle deposited body into a sintering furnace B and sintering the body.例文帳に追加

スス付け中の成長軸方向での成長速度変動が±５％以内になるように、水素ガス流量、排気圧、及び、堆積面温度の少なくとも１つを制御して石英ガラス微粒子堆積体を製造し、この微粒子堆積体を焼結炉Ｂに挿入、焼結して合成石英ガラス母材４を製造する。 - 特許庁

In this core glass useful for producing a preform for an optical fiber, especially an optical fiber for UV wire transmission, obtained by flame hydrolysis of silicon compound, deposition of fine particulate SiO2 on a substrate and formation of synthetic quartz glass by direct vitrification, the hydrogen content of the quartz glass is smaller than 1×1018 molecules/cm3.例文帳に追加

光ファイバー、特にＵＶ線伝送用の光ファイバー用のプレフォームを作るためのコアガラスであって、ケイ素化合物の火炎加水分解、直接ガラス化による基材上への微粒子状ＳｉＯ_2の堆積及び合成石英ガラスの形成により得られる前記コアガラスにおいて、前記石英ガラスの水素含量が１×１０^18分子／ｃｍ^3より低いことを特徴とする前記コアガラス。 - 特許庁

This cosmetic contains modified powder which is prepared by coating transparent inorganic powder having crystalline structure with a colorant; wherein it is preferable that the inorganic powder is selected from quartz, synthetic quartz, crystal, amethyst, emerald, sapphire, ruby, garnet and rutile, having a mean primary particle size of 3-20 μm.例文帳に追加

結晶構造と透明性を有する無機粉末を着色剤で被覆処理した改質粉体を含有することを特徴とする化粧料であり、好ましくは、結晶構造と透明性を有する無機粉末が、石英、合成石英、水晶、アメジスト、エメラルド、サファイア、ルビー、ガーネット、ルチルから選ばれ、平均一次粒子径が３〜２０μｍの範囲にあることを特徴とする上記の化粧料によって達成される。 - 特許庁

The storage method for a synthetic quartz glass substrate for a photomask or a photomask blank includes: preparing a storage case; installing an adsorbent which is packed in a cellulose-based nonwoven fabric, in the interior of the storage case; and storing the synthetic quartz glass substrate for the photomask or the photomask blank in the storage case.例文帳に追加

フォトマスク用合成石英ガラス基板又はフォトマスクブランクの保管方法であって、保管ケースを用意することと、セルロース系不織布に包装された吸着剤を前記保管ケースの内部に設置することと、前記フォトマスク用合成石英ガラス基板又はフォトマスクブランクを、前記保管ケース内に収納することを含むフォトマスク用合成石英ガラス基板又はフォトマスクブランクの保管方法を提供する。 - 特許庁

To provide synthetic quartz glass for vacuum UV light which has excellent homogeneity to irradiation with vacuum UV light and is excellent in the durability to the irradiation with the vacuum UV light, a method for manufacturing the same and a mask substrate for the vacuum UV light using the same.例文帳に追加

真空紫外光照射に対して優れた均質性を有し、真空紫外光照射耐性に優れた真空紫外光用合成石英ガラスおよびその製造方法、及びこれを用いた真空紫外光用マスク基板を提供する。 - 特許庁

The wavelength multiplexer/demultiplexer 10 is constituted by providing a diffraction grating 11 as a 1st deflecting means on one surface side of an optical substrate 13 made of synthetic quartz and a grating 12 as a 2nd deflecting means on the other surface side respectively.例文帳に追加

合成石英製光学基板１３の片面側に、第１の偏向手段として回折格子（グレーティング）１１を、他面側に第２の偏向手段としてのグレーティング１２をそれぞれ設けることで、波長合分波器１０を構成する。 - 特許庁

Since transmissivity in the wavelength of 157.6 nm in fluorine-doped synthetic quartz is as high as high as about 90% per cm, insertion loss by insertion of the etalon 5 is as small as about 10% and fluorine laser of high gain enables laser oscillation well.例文帳に追加

フッ素ドープの合成石英では、波長１５７．６ｎｍにおける透過率が１ｃｍ当たり約９０％と高いため、エタロン５の挿入による挿入損失は約１０％と小さく、ゲインの高いフッ素レーザは十分レーザ発振する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a synthetic quartz glass member for ArF excimer laser lithography which is used for a lighting system or a projecting system such as lens, prism or beam splitter and has high internal transmittance.例文帳に追加

エキシマレーザーリソグラフィー装置のレンズ、プリズム、ビームスプリッター等の照明系、投影系に使用する内部透過率の高いＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィー用合成石英ガラス部材の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a pellicle obtained by bonding a pellicle membrane 2 comprising synthetic quartz glass to the opening of a pellicle frame 5 with an adhesive 4, a light shielding body 3 for shielding the adhesive from ultraviolet light is disposed.例文帳に追加

合成石英ガラスからなるペリクル膜２を、接着剤４により枠状のペリクルフレーム５の開口部に接着してなるペリクルにおいて、接着剤を紫外光照射から遮光するための遮光体３を備えることを特徴とするペリクル。 - 特許庁

The ultraviolet irradiation device is equipped with the discharge lamp 30 having a light emitting tube 11 made of synthetic quartz glass and emitting ultraviolet rays with a region of 240 nm or less and a treatment device 1 for irradiating a continuously flowing liquid to be treated with ultraviolet rays emitted from the discharge lamp.例文帳に追加

合成石英ガラス製の発光管１１を有し、２４０ｎｍ以下の領域の紫外線を放射する放電灯３０と、前記放電灯から放射される紫外線を、連続して流れる被処理液体に対して照射する処理装置１とを具える。 - 特許庁

The synthetic quartz glass for the transmitting material for the discharge lamp emitting light of ≤250 nm wavelength contains 100-3,000 mass-ppm fluorine and <1 mass-ppm OH group.例文帳に追加

波長２５０ｎｍ以下の光を発生する放電ランプの透過材用の合成石英ガラスであって、フッ素含有量が１００〜３０００質量ｐｐｍの範囲であり、且つＯＨ基含有量が１質量ｐｐｍ未満であることを特徴とする合成石英ガラス。 - 特許庁

To provide a method for correcting a defect part, by which a defect part is corrected and a flatness being the specification of a photomask is secured when a defect part such as a crack or chipped part is caused in the peripheral part of a glass substrate, in a glass substrate for a photomask formed of synthetic quartz or a photomask using the glass substrate.例文帳に追加

合成石英からなるフォトマス用のガラス基板や該ガラス基板を用いたフォトマスクにおいて、ガラス基板の周辺部にひび、欠けの欠陥部が生じた場合に、該欠陥部を修正でき、且つ、フォトマスクの仕様であるフラットネスを確保できる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a synthetic quartz glass which can eliminate defects due to the fluorescence emission of an optical material used for a stepper exposure device used for the exposure and the transfer of a fine pattern of an exposure device, a laser processing device, an optical cleaning device, an integrated circuit or the like to reduce intensity of fluorescence emission, and which has excellent transmission performance.例文帳に追加

露光装置、レーザ加工装置、光洗浄装置等、集積回路等の微細パターンを露光・転写に用いるステッパ露光装置に用いられる光学系材の蛍光発光による欠陥をなくし、強度低減できるより優れた透過性能を備えた合成石英ガラスの提供。 - 特許庁

When the synthetic quartz glass powder is produced by firing a silica gel powder obtained by the hydrolysis of an alkoxysilane, at the time of charging a raw material in a hydrolysis process, water is charged in a reaction vessel and whole inner surface of the reaction vessel is substantially wetted by the water, and then the alkoxysilane is charged.例文帳に追加

アルコキシシランの加水分解により得られたシリカゲルの粉末を焼成し合成石英ガラス粉を製造するにあたり、加水分解工程の原料仕込みにおいて、水を反応容器に仕込み、該水により反応容器の内面の全面を実質的に濡らしてから、アルコキシシランを仕込む。 - 特許庁

To provide in a relatively simple way a synthetic quartz glass substrate for semiconductor having a non-penetration hole, groove or level difference which is controlled in shapes such as a size, remained thickness of bottom surface and parallelism highly accurately and stably, and is reduced a shape change of a whole substrate before and after processing.例文帳に追加

比較的簡便な方法でサイズ、底面の残し厚さ、平行度等、形状を高精度に安定的に制御され、加工を施す前後の基板全体の形状変化を抑えた、非貫通の穴、溝又は段差を有する半導体用合成石英ガラス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

The synthetic quartz glass has <10 ppm concentration of OH groups, ≤10 ppm concentration of chlorine, ≤10 ppm concentration of fluorine and a refractive index variation (Δn) of ≤1×10^-6 in a plane perpendicular to incident light and does not substantially contain an oxygen deficiency type defect.例文帳に追加

ＯＨ基濃度が１０ｐｐｍ未満、塩素濃度が１０ｐｐｍ以下、フッ素濃度が１０ｐｐｍ以下、入射光に直行する平面内における屈折率変動幅（Δｎ）が１×１０^−６以下であり、かつ実質的に酸素欠乏型欠陥を含有しないことを特徴とする。 - 特許庁

In this method for improving fuel consumption of an engine of an automobile and the like, a synthetic rubber sheet 6 obtained by mixing potassium feldspar, quartz and metamorphic rock is attached to an air element case 4 and/or an intake pipe 5, and an air blower 1 is installed near an intake port 7 of the air element case 4.例文帳に追加

自動車等のエンジンの燃費を向上する方法において、カリ長石．石英．変成岩を混合した合成ゴムシート６をエアーエレメントケース４及び／又はインテークパイプ５に装着し、エアーエレメントケース４の吸気口７附近に送風装置１を備える。 - 特許庁

To provide a tool, a method, and a structure for mounting a pellicle that enable a pellicle made of synthetic quartz glass to be surely mounted on a photomask, without deforming the flexural shape of a pellicle plate.例文帳に追加

合成石英ガラスからなるペリクルをフォトマスクに装着する際にペリクル板のたわみ形状を変形させることなくフォトマスクに確実かつ容易に装着することが可能なペリクル装着治具、ペリクル装着方法並びにペリクル装着構造の提供を目的とする。 - 特許庁

The gray-tone mask blank for the liquid crystal display device to which wet etching is applied consists of: a translucent substrate constituted of synthetic quartz glass; a semi-translucent film formed on the surface of the translucent substrate; and a light-shielding film formed on the semi-translucent film.例文帳に追加

ウェットエッチングが適用される液晶表示装置製造用のグレートーンマスクブランクであって、合成石英ガラスからなる透光性基板と、該透光性基板の表面に形成された半透光膜と、該半透光膜の上に形成された遮光膜とからなる。 - 特許庁

In the synthetic quartz glass substrate the halogen content is less than 10 ppm, the OH group content is less than 100 ppm, the heavy metal and alkali metal content in total is less than 1 ppm, the annealing point is more than 1050°C and the double refraction within the substrate is less than 0.5 nm/cm.例文帳に追加

合成石英ガラス基板であって、ハロゲン含有量が１０ｐｐｍ以下、ＯＨ基含有量が１００ｐｐｍ以下、重金属及びアルカリ金属の含有量の総計が１ｐｐｍ以下、徐冷点が１０５０℃以上であり、かつ基板内の複屈折が０．５ｎｍ／ｃｍ以下であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an apparatus for producing a base material for synthetic quartz glass, in which glass fine particles not caught on the accumulating/growing surface of a soot body (an accumulated intermediate) can be sufficiently prevented from being accumulated on the wall of a synthesis furnace and secondary particles can be sufficiently prevented from being taken in the accumulating/growing surface of the soot body.例文帳に追加

スート体の堆積成長面に捕捉されなかったガラス微粒子が合成炉の炉壁に堆積することを十分に防止でき、前記堆積成長面に２次粒子が取り込まれることを十分に防止することが可能な合成石英ガラス母材の製造装置を提供すること。 - 特許庁

The method of manufacturing the same is characterized in that a transparentizing treatment of a porous body of synthetic quartz glass, and a heat treatment in at least one kind of atmosphere among inert elements He, Ne, Ar, Kr, and Xe, under a pressure of 30-1000 Pa, at a temperature of 1000-1500°C for 1-20 hours.例文帳に追加

および合成石英ガラス多孔体を透明化処理した後、不活性元素Ｈｅ、Ｎｅ、Ａｒ、ＫｒおよびＸｅの少なくとも一種の雰囲気中30〜10000Paの圧力下で、1000〜1500℃にて1〜20時間の熱処理をおこなうことを特徴とする上記の光学用合成石英ガラスの製造方法。 - 特許庁

A halftone material film 11 and a resist film 21 are formed on a transparent substrate 1 consisting of synthetic quartz or the like and the resist film 21 is subjected to a series of patterning procedures such as patternwise exposure and development to form a resist pattern 21a on the halftone material film 11.例文帳に追加

合成石英等からなる透明基板１上に、ハーフトーン材料膜１１及びレジスト膜２１を形成し、レジスト膜２１をパターン露光、現像等の一連のパターニング処理を行って、ハーフトーン材料膜１１上にレジストパターン２１ａを形成する。 - 特許庁

To provide an inspection method, in which a high-quality synthetic quartz glass powder suitable for manufacturing a crucible for semiconductor manufacturing or for the manufacture of a preform or the like for optical fiber or a silica gel, can be discriminated easily, without being accompanied with generation of bubbles in a molten molding operation.例文帳に追加

溶融成形時に発泡を伴わず、半導体製造用るつぼや光ファイバー用プレフォーム等の製造用として好適な、高品質の合成石英ガラス粉或いはシリカゲルを容易に判別し得る検査方法を提供する。 - 特許庁

Preferably the thickness of the pellicle film is 1 to 500 μ, the variation in the thickness of the pellicle film is ≤0.5 μ and the variation in the OH group content within the surface of the synthetic quartz glass constituting the pellicle film is ≤10 ppm.例文帳に追加

ペリクル膜の厚さが１〜５００μｍであること、ペリクル膜の厚さのばらつきが０．５μｍ以下であること、ペリクル膜を構成する合成石英ガラスの、面内のＯＨ基含有量のばらつきが１０ｐｐｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

An optical member 2 is formed which is composed of a synthetic quartz glass containing Pr^3+ (trivalent praseodymium) activated aluminate, is a separate body from a UV light-emission lamp (low-pressure mercury lamp) 10, and is arranged around the UV light-emission lamp (low-pressure mercury lamp) 10.例文帳に追加

Ｐｒ^３＋（３価のプラセオジム）で活性化したアルミン酸塩を含有した合成石英ガラスにより、紫外線発光ランプ（低圧水銀ランプ）１０とは別体であり、この紫外線発光ランプ（低圧水銀ランプ）１０の周囲に配置するようにした光部材２を形成する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the synthetic silica glass, comprising heating and melting a soot 5 coaxially arranged in a vertical furnace core pipe 1 made of quartz glass so as to make it transparent, the soot is heated and molten with a high frequency induction heating source 4 surrounding the soot in the furnace core pipe 1.例文帳に追加

石英ガラス製の垂直な炉芯管１内に同軸配置したスート５を加熱溶融して透明化する合成シリカガラスの製造方法において、前記スートを炉芯管内でそれを囲む高周波誘導加熱源４により加熱溶融する。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a synthetic quartz glass that is capable of monitoring a combustion state, an impurity distribution and the like of a raw material during the synthesis by monitoring the state inside a synthetic furnace such as an ingot or burner flame with a light of specified wavelength such as visible light while protecting a camera from a heat ray emitted at the synthesis.例文帳に追加

合成時に発せられる熱線からカメラを保護しながらも、インゴットやバーナー火炎などの合成炉内の状態を可視光等の特定波長の光で観察して、原料の燃焼状態や不純物分布などを合成中にも監視することができる合成石英ガラスの製造装置を提供する。 - 特許庁

The synthetic quartz glass before hydrogen impregnation processing has the suppressed defect corresponding to the fluorescence peak in 280 nm band and the suppressed defect corresponding to the fluorescence peak in 390 nm band, and after the hydrogen impregnation processing, has the suppressed defect corresponding to the fluorescence peak in 280 nm band, the suppressed defect corresponding to the fluorescence peak in 390 nm band and the suppressed defect corresponding to the fluorescence peak in 650 nm.例文帳に追加

水素含浸処理前の合成石英ガラスは、２８０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥、及び３９０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥が抑圧されており、水素含浸処理により、２８０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥、及び３９０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥、６５０ｎｍ帯の蛍光ピークに相当する欠陥が抑圧されている。 - 特許庁

The mask blank is obtained by forming, on a substrate 11 made of synthetic quartz, a light-shielding layer 12 comprising TaN (with 84.0 atom% of Ta and 16.0 atom% of N in terms of a film composition ratio) to a film thickness of 43 nm by DC magnetron sputtering in a mixture gas atmosphere of xenon (Xe) and nitrogen (N) using Ta as a sputtering target.例文帳に追加

合成石英からなる基板１１上に、スパッタリングターゲットにＴａを用い、キセノン（Ｘｅ）と窒素（Ｎ）の混合ガス雰囲気で、ＤＣマグネトロンスパッタにより、ＴａＮ（膜組成比 Ｔａ：８４．０原子％，Ｎ：１６．０原子％）からなる遮光層１２を４３ｎｍの膜厚で成膜する。 - 特許庁

There is provided a method including: a first heating process of heating a synthetic quartz glass at a first temperature in a hydrogen-containing atmosphere; a second heating process of heating the glass at a second temperature equal to or higher than the first one in a hydrogen-free atmosphere; and a third heating process of heating the glass at a third temperature equal to or lower than the second temperature in a hydrogen-containing atmosphere.例文帳に追加

合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、第１温度で加熱する第１加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含まない雰囲気中で、前記第１温度以上の第２温度で加熱する第２加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、前記第２温度以下の第３温度で加熱する第３加熱工程と、を有する。 - 特許庁

It is preferable that, in the discharge lamp, the synthetic quartz glass to form the discharge container has a fluorine content of 10,000 wt.ppm or more and 30,000 wt.ppm or less and that the content of OH group is 30 wt.ppm or less.例文帳に追加

本発明の放電ランプにおいては、前記放電容器を形成する合成石英ガラスとして、フッ素含有量が１００００ｗｔ．ｐｐｍ以上３００００ｗｔ．ｐｐｍ以下であるものが用いられることが好ましく、さらに、ＯＨ基の含有量が３０ｗｔ．ｐｐｍ以下であるものが用いられることが好ましい。 - 特許庁

The phase contrast of a phase shift mask 10 in which a transparent substrate 11 and a phase shifter film 12 comprise the combination of synthetic quartz glass and the oxide or oxynitride of molybdenum silicide is adjusted by etching the mask 10 with an etching solution comprising an aqueous solution of a strong alkali such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.例文帳に追加

透明基板１１と位相シフタ膜１２が合成石英ガラスとモリブデンシリサイドの酸化物あるいはモリブデンシリサイドの酸化窒化物の組み合わせからなる位相シフトマスク１０を水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の強アルカリの水溶液からなるエッチング薬液を用いてエッチングして位相差調整を行う。 - 特許庁

At least one of optical members constituting an exposure light source system, lighting optical system, photo-mask, and projection optical system comprises a synthetic quartz glass for optical member which has an absorption coefficient at 157 nm wavelength of 0.70 cm-1 or less and an infrared absorption peak of about 3640 cm-1 based on SiOH expansion/shrinkage oscillation.例文帳に追加

露光光源系、照明光学系、フォトマスクおよび投影光学系を構成する光学部材の少なくとも１つが、波長１５７ｎｍにおける吸収係数が０．７０ｃｍ^-1以下であり、かつＳｉＯＨ伸縮振動に基づく赤外吸収ピークを略３６４０ｃｍ^-1に有する光学部材用合成石英ガラスからなる露光装置。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing the synthetic quartz glass for optical use which inhibits the occurrence of green fluorescence and red fluorescence even when irradiated with ultraviolet rays, especially short wave-length powerful ultraviolet rays such as an excimer laser or the like, and is excellent in the transmissivity of short wave-length ultraviolet rays and also is suitably used as a member for use in optics.例文帳に追加

紫外線、特に、エキシマレーザ等による短波長の強力な紫外線が照射された場合においても、緑色蛍光および赤色蛍光の発生が抑制され、短波長の紫外線の透過性に優れた、光学用部材として好適に用いることができる光学用合成石英ガラスの製造方法を提供する。 - 特許庁

The electric discharge lamp is provided with a glass tube 11, comprising synthetic quartz glass, having an inside diameter of ≥8 mm and a pair of filaments 21a and 21b on both ends of the glass tube with an interval of L cm, and rare gas and a metal containing at least mercury are sealed in an interior.例文帳に追加

内径８ｍｍ以上の合成石英ガラスからなるガラス管（１１）と、このガラス管の両端にＬ（ｃｍ）の間隔で一対のフィラメント（２１ａ，２１ｂ）を備え、内部に希ガスと少なくとも水銀を含む金属とを封入してなる放電灯において、点灯時のランプ電圧Ｖ（Ｖ）と、ランプ電流Ｉ（Ａ）、フィラメント間距離Ｌ（ｃｍ）、放電路の内径Ｄ（ｍｍ）について、次なる関係式を有する。 - 特許庁