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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > amplification processに関連した英語例文

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amplification processの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 108



例文

To disclose an overflow drain structure in an amplification type solid-state image pickup device which prevents variations in manufacturing process from substantially influencing transfer characteristics and overflow characteristics of signal charge.例文帳に追加

増幅型固体撮像素子において、製造工程でのばらつきが信号電荷の転送特性、及びオーバーフロー特性に大きく影響しないオーバーフロードレイン構造を開示する。 - 特許庁

Then, the insulation film between a semiconductor layer and a metal layer that the light receiving amplification circuit has or between first and second metal layers, and the insulation film of the phase compensation capacitor are formed by the same process.例文帳に追加

そして、受光アンプ回路が有する半導体層とメタル層間又は第1、第2メタル層間の絶縁膜と、位相補償キャパシタの絶縁膜を同じ工程で形成する。 - 特許庁

To provide a signal processor for an electromagnetic compass that controls an offset voltage generated in a process of analog signal processing and automatically controls a signal amplification ratio.例文帳に追加

アナログ信号処理過程において発生するオフセット電圧(offset voltage)を制御し、信号増幅比を自動制御する電磁コンパス用信号処理器を提供する。 - 特許庁

Thereafter, the control circuit sets the value corresponding to the gain instruction value, as the initial value of the gain in the gain adjustment process, by supplying the calculated gain instruction value to the amplification circuit.例文帳に追加

その後、制御回路は、算出したゲイン指令値を増幅回路に供給することによって、該ゲイン指令値に応じた値をゲイン調整処理におけるゲインの初期値として設定する。 - 特許庁

例文

The resist pattern is formed by using at least a pattern for forming a resist layer 4 on a base material 2 by applying the non-chemical amplification type resist, a process for exposing the resist layer 4, a process for baking the exposed base material 2 at 90-130°C temperature, and a process for developing the baked base material 2.例文帳に追加

非化学増幅型レジストを塗布することによって基材2にレジスト層4を形成する工程と、レジスト層4を露光する工程と、露光を行った基材2を90℃以上130℃以下の温度でベークする工程と、ベークを行った基材2を現像する工程とを少なくとも含んでレジストパターンを形成する。 - 特許庁


例文

The amplifier circuit includes an amplification section for amplifying a first signal to generate a second signal, and a correction section for performing smooth curvilinear process to all or one portion of third signals (Vx), namely the input signals, based on a state variable (VxTyp) varying according to the state of the amplification section, to generate the first signal (Vc).例文帳に追加

増幅回路は、第1信号を増幅して第2信号を生成する増幅部と、当該増幅部の状態に応じて変動する状態変数(VxTyp)に基づいて、その入力信号である第3信号(Vx)の全部又は一部に対し滑曲線化処理を施して前記第1信号(Vc)を生成する補正部と、を備える。 - 特許庁

To provide an amplifier circuit comprising switched capacitor amplifier circuits each of which is capable of carrying out highly accurate logarithmic amplification by suppressing dispersion in a manufacture process with an increased range of gains and achieved in low power consumption and a small area.例文帳に追加

ゲインの範囲を大きくしながらも、製造プロセスのバラツキを抑えた高精度な対数増幅が行え、且つ、低消費電力、小面積で実現可能なスイッチトキャパシタ増幅回路を提供する。 - 特許庁

To provide a method of measuring a target nucleic acid in a test sample which permits the high sensitive measurement by accompanying with the amplification of the target nucleic acid in the process of the measurement without previously amplifying the target nucleic acid.例文帳に追加

標的核酸を増幅することなく、測定方法の中で核酸の増幅を伴うことにより高感度な測定が可能な被検試料中の標的核酸の測定方法の提供。 - 特許庁

The method for extracting the nucleic acid includes bringing sodium dodecylbenzenesulfonate (SDBS) into contact with the test sample, and carrying out the process of adding a nonionic surfactant at the amplification of the nucleic acid.例文帳に追加

本発明の核酸抽出方法は、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(SDBS)を被検試料に接触させ、核酸増幅時に非イオン界面活性剤を添加する処理を行うことを特徴とする。 - 特許庁

例文

To provide a method with which the acidity of an organic antireflective film can easily be evaluated in development of a process of forming an organic antireflective film and forming a fine resist pattern using chemical amplification resist.例文帳に追加

有機反射防止膜を形成し、化学増幅レジストを使用した微細レジストパターン形成のプロセス開発において、簡便に有機反射防止膜の酸性度を評価することができる方法を提供する。 - 特許庁

例文

To cope with both the cost reduction and the high frequency response characteristics of a longitudinal NPN bipolar transistor having a polysilicon emitter electrode structure, by controlling the current amplification factor of the transistor without adding any process.例文帳に追加

ポリシリコンエミッタ電極構造の縦型NPNバイポーラトランジスタの電流増幅率を、何らの工程を付加することなく制御し、低コスト化とバイポーラトランジスタの高周波数応答特性とを両立させる。 - 特許庁

The present invention relates to a system and method which allows for power amplification combined by changing the center frequency with an up-converter to shift a baseband signal to a signal at a carrier frequency in the same process.例文帳に追加

同じプロセスでベースバンド信号を搬送波周波数の信号にシフトするため、アップコンバータにより中心周波数を変更し合成される電力増幅を可能にするシステム及び方法。 - 特許庁

To provide an amplification circuit that has a high voltage input stage capable of withstanding a common mode input voltage that is an arbitrary multiple voltage of a rated supply voltage without requiring an additional process.例文帳に追加

追加プロセスなしに、コモンモード入力電圧が定格電源電圧の任意倍数の電圧でも耐えることができる高耐圧の入力段とすることが可能な増幅回路を提供する。 - 特許庁

In a transmitting side optical amplifier of a comparatively low output and a low gain, all excitation light power is not consumed in a dope fiber in an amplification process but surplusage exists as remaining excitation light.例文帳に追加

比較的低出力・低利得な送信側光増幅器では、励起光パワーが増幅過程においてドープファイバ内ですべて消費されるわけではなく、残留励起光として余剰分が存在する。 - 特許庁

To provide a new process useful for and applicable to generation of specific nucleic acids having nucleic acid amplification, nucleic acid sequence determination and important characteristics (such as decreased thermodynamic stability).例文帳に追加

核酸増幅、核酸配列決定、および重要な特徴(例えば、低減した熱力学的安定性)を有する独特の核酸の生成に有用かつ応用可能である新規のプロセスを提供すること。 - 特許庁

To provide a positive type chemical amplification system photosensitive resin composition having high sensitivity, high resolution, a good pattern shape and excellent process stability and to provide a method for producing a resist image.例文帳に追加

本発明の目的は、高感度、高解像度でパターン形状が良く、かつ、プロセス安定性の優れたポジ型化学増幅系感光性樹脂組成物及びレジスト像の製造法を提供することにある。 - 特許庁

The method has (a) a process for amplifying the sequence containing the site 38th of the sequence number 3 or 4 using a DNA extracted from tobacco as a template and (2) a process for cleaving the selected amplification product with BfaI and when the amplification product is cleft with BfaI, and individual supply source of the DNA is selected as the tobacco having bactericidal wilt resistance.例文帳に追加

また、立枯病抵抗性のタバコを選抜する方法であって、(1)タバコから抽出したDNAをテンプレートとして、配列番号3または4の部位38を含む配列を増幅する工程と、(2)選られた増幅産物をBfaIで切断する工程とを含み、前記増幅産物がBfaIで切断された場合に、前記DNAの供給源である個体を立枯病抵抗性のタバコとして選抜することを特徴とする方法を提供する。 - 特許庁

In a salicide formation process, a detecting wiring line 217 for connecting a floating diffusion 203 and a gate electrode 104g of an amplification transistor 104 is formed in the form of a high-melting-point metallic material not reacting with the silicide reaction on a non-silicon surface generated in the salicide formation process.例文帳に追加

サリサイド形成過程において、フローティングディフュージョン203と増幅トランジスタ104のゲート電極104gとを接続する検出用配線217を、サリサイド形成過程に発生する非シリコン表面上のシリサイド化反応していない高融点金属材料を利用して形成する。 - 特許庁

The synthetic binding unit may include a unique design such that during an amplification process, a region of the synthetic binding unit is not subjected to the polymerase chain extension, and thus the amplicon keeps the single stranded state and is available for binding to the synthetic capture unit during the capture process.例文帳に追加

合成結合単位は、増幅過程において、合成結合単位の領域がポリメラーゼ鎖伸長を受けず、これによりその単位複製配列は一本鎖のままであり捕捉過程における合成捕捉単位との結合に利用可能であるような特有のデザインを含み得る。 - 特許庁

In this resist development method for forming the fine pattern of a resist film on a substrate, a resist film is formed with chemical amplification system resist, and an alternating electric field is applied to a resist film on the substrate after an exposure process to expose the resist film and before the resist development process.例文帳に追加

基板上にレジスト膜の微細パタンを形成するレジスト現像方法において、レジスト膜を化学増幅系レジストで形成するとともに、レジスト膜を露光する露光工程の後で、かつ、レジスト現像工程の前に、基板上のレジスト膜に交番電界を印加する。 - 特許庁

To provide a method for producing a cell sample which can simply be produced in a series of processes from a preliminary treatment process for extracting and purifying a nucleic acid to a process for detecting a nucleic acid amplification reaction and an amplified product, can be stored for a long period, and can be used for process accuracy control, in nucleic acid analysis such as gene expression amount inspection.例文帳に追加

遺伝子発現量検査等の核酸解析において、核酸を抽出・精製する前処理工程から、核酸増幅反応及び増幅産物の検出工程までの一連の工程において、簡便に製造することができ、長期保存も可能であり、さらに工程精度管理に用いることができる細胞試料の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor device capable of recovering a current amplification factor of an L-PNP transistor lowered by the irradiation of an ultraviolet ray without impairing a wire bond property in a post-assembling process.例文帳に追加

後の組み立て工程でのワイヤボンド性を損なうことなく、紫外線照射により低下したL−PNPトランジスタの電流増幅率を回復させることができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To develop a nucleic acid-amplifying substrate for carrying out a nucleic acid-amplifying reaction such as a PCR on the substrate to amplify the nucleic acid, and hardly allowing a reaction liquid to leak in the nucleic acid-amplification reaction process.例文帳に追加

基板上でPCR等の核酸増幅反応を行い、核酸の増幅を行う核酸増幅基板に関するものであり、核酸増幅反応工程において反応液が洩れることのない基板を開発する。 - 特許庁

To develop a nucleic acid-amplifying substrate for carrying out a nucleic acid-amplifying reaction such as a PCR on the substrate to amplify the nucleic acid, and free from the leakage of a reaction liquid in the nucleic acid-amplification reaction process.例文帳に追加

基板上でPCR等の核酸増幅反応を行い、核酸の増幅を行う核酸増幅基板に関するものであり、核酸増幅反応工程において反応液が洩れることのない基板を開発する。 - 特許庁

To provide a method of measuring a target nucleic acid in a test sample which permits the high sensitive measurement by accompanying with the amplification of the target nucleic acid in the process of the measurement without previously amplifying the target nucleic acid itself.例文帳に追加

標的核酸自体を増幅することなく、それでいて測定方法の中で核酸の増幅を伴うことにより高感度な測定が可能な被検試料中の標的核酸の測定方法の提供。 - 特許庁

The method for processing the substrate includes a step of forming an interlayer 4 between a chemical amplification type resist film 3 and an antistatic film 5, a step of exposing a desired pattern to a substrate specimen 1; a step of performing a thermal process to the substrate specimen 1 after the exposure; and a step of performing a development process to the substrate specimen 1 after the heat treatment.例文帳に追加

化学増幅型のレジスト膜3と帯電防止膜5との間に中間膜4を形成する工程と、基板試料1に所望のパターンを露光する工程と、露光後の基板試料1に対し加熱処理を施す工程と、加熱処理の後に基板試料1に現像処理を施す工程とを有する。 - 特許庁

To provide a resist material having high resolution and process adaptability, attaining proper pattern shape after exposure, and decreasing line edge roughness, in particular, to provide a chemical amplification positive resist material, and to provide a pattern forming method which uses the same.例文帳に追加

高解像度、プロセス適応性を有し、露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an array type chip for gene detection, with which the detection operation of the objective gene is rapidly and economically carried out without using a complicated gene fixation technique and carrying out a hybridization process after gene amplification.例文帳に追加

煩雑な遺伝子固定化技術を用いずに、かつ、遺伝子増幅後のハイブリダイゼーション工程を行なうことなく、迅速かつ経済的に目的遺伝子の検出操作が行なえる、アレー型の遺伝子検出用チップを提供する。 - 特許庁

The method includes an adjustment process for adjusting an amplification gain G of a sensor circuit, according to heating temperature Th which is determined from the ratio [RR/RH] between the resistance value RH of a heating element and the resistance value RR of a temperature detecting element.例文帳に追加

発熱素子の抵抗値RHと温度検出素子の抵抗値RRとの比率[RR/RH]から求められる発熱温度Thに応じてセンサ回路の増幅利得Gを調整する調整工程を備える。 - 特許庁

This micro reactor can analyze highly sensitively, because of incorporating a DNA amplification process for detection, and can detect an objective gene in good accuracy with a probe DNA specifically hybridizing with an amplified gene.例文帳に追加

本発明のマイクロリアクタは、検出にDNA増幅工程を組み込むために感度の高い分析が可能であり、増幅された遺伝子に特異的にハイブリダイズするプローブDNAを用いて目的の遺伝子を精度よく検出することができる。 - 特許庁

To provide a positive type radiation sensitive composition used as a positive type chemical amplification resist and having such high process admissibility as to ensure excellent resolving power and pattern profile even if considerable time elapses from the end of exposure to post-heating.例文帳に追加

ポジ型化学増幅レジストにあって、露光した後、後加熱までに時間が相当経過しても優れた解像力及びパターンプロファイルが得られるプロセス許容性が大きいポジ型感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁

To obtain a resist composition which retains high sensitivity and high resolution peculiar to a chemical amplification type resist, has stability through a pattern forming process and gives a fine resist pattern having a rectangular cross-section and to provide a pattern forming method.例文帳に追加

本発明は、化学増幅型レジストとして特有の高感度、高解像性能を保持し、パターン形成プロセスを通して安定であり、微細な断面矩形のレジストパターンを供することのできるレジスト組成物及びパターン形成方法を用いる。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition which attains enhancement in resolving power and improvement in process tolerability such as exposure margin and focal depth in lithography using a short-wavelength light source for exposure capable of ultra-microfabrication and a positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

The invention relates to the method for determination of the objective gene sequence by using a product RNA which is obtained in the following processes, a process amplifying the objective gene using strand displacement DNA polymerase and a gene amplifying method, a process carrying out an in vitro transcription reaction using the amplification reaction product DNA as the template and a RNA polymerase and a substrate containing 3'-deoxynucleotide or a labeled 3'-deoxynucleotide.例文帳に追加

鎖置換型DNAポリメラーゼを用いる遺伝子増幅方法により目的遺伝子を増幅し、得られた増幅反応物に含まれるDNAを鋳型とし、RNAポリメラーゼを用い、かつ3'-デオキシヌクレオチドまたは標識された3'-デオキシヌクレオチドを含む基質を用いてイン・ビトロ転写反応を行ない、生成したRNAを用いて目的遺伝子の配列を決定する方法。 - 特許庁

The method is characterized in that it includes processes of: forming a film to be etched having a layer containing a nitrogen atom as a structural atom as at least the uppermost layer on a substrate; subjecting the film to be etched to a thermal oxidation process to form an oxidized layer on the surface; forming a chemical amplification resist film on the film to be etched; and selectively exposing and developing the chemical amplification resist film.例文帳に追加

少なくとも最上層に窒素原子を構成原子とする膜を有する被エッチング膜を基板上に形成する工程と、前記被エッチング膜を熱酸化処理を施してその表面に酸化層を形成する工程と、前記被エッチング膜上に化学増幅レジスト膜を形成する工程、前記化学増幅レジスト膜を選択的に露光し、現像する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having enhanced resolving power and improved process admissibility such as an improved margin for exposure and an improved depth of a focus in lithography using a short- wavelength light source for exposure capable of ultramicro-fabrication and a positive type chemical amplification type resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To simplify the circuit constitution and to improve the process response of an amplifier circuit which is provided in radio communication equipment, etc., and is so variable in amplification factor that the amplitude of a signal is within a specified range or an amplifier circuit for protecting trailing- stage circuits.例文帳に追加

無線通信装置等に設けられ、信号の振幅が所定の範囲内となるように増幅率を可変とする増幅回路、あるいは後段の回路の保護を図るための増幅回路において、回路構成を簡素化し、処理応答性を向上させる。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having enhanced resolving power and improved process admissibility such as an improved margin for exposure and an improved depth of a focus in lithography using a short- wavelength light source for exposure capable of ultra-microfabrication, and a positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

In the image processing method for acquiring a satisfactory edge enhance image using the image scanner, a multivalued image scanned by the image scanner is processed in the edge enhancement process through a differential filter, and also an edge enhanced image is formed by conducting amplification and correction by using a sealing function.例文帳に追加

イメージスキャナを用いて良好なエッジ強調画像を取得する画像処理方法において、イメージスキャナで読み取った多値画像を微分フィルタによってエッジを強調するとともに、シーリング関数による増幅・補正をしてエッジ強調画像を生成する。 - 特許庁

A signal value stored in a memory device is read out (S130), a digital signal corresponding to a bar code part is specified (S140), and the exposure time and amplification factor are so adjusted as to optimize the amplitude of the specified digital signal part (condition setting process of S150).例文帳に追加

メモリ装置に記憶された信号値を読み出し(S130)、バーコード部分に対応するディジタル信号を特定し(S140)、その特定したディジタル信号部分の振幅を最適化するように、露光期間や増幅率を調整する(S150の条件設定処理)。 - 特許庁

To directly detect back pressure of metering process in a very small setting control range without hydraulic pressure in comparison with the setting control range of injection pressure, to fit the detecting range to the range of use of the back pressure of the metering process, to increase output to the pressure to be applied, to decrease electric amplification ratio, to increase accuracy, and to improve noise resistance.例文帳に追加

射出圧力の設定制御範囲に比べて、微小な設定制御範囲である計量工程の背圧を油圧等を介さず直接的に検出するとともに、その検出範囲を計量工程の背圧の使用範囲に適合させ、かつ、加わる圧力に対する出力を増大させ、電気的な増幅率を小さくして、正確性を増すとともに、耐ノイズ性を向上させる。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition excellent in dry etching resistance, sensitivity, resolution, etc., as a chemical amplification type resist, capable of avoiding a change of the line width of a resist pattern due to a change of the time elapsed from exposure to post-exposure heating and having superior process stability.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして、ドライエッチング耐性、感度、解像度等に優れるとともに、露光から露光後の加熱処理までの引き置き時間の変動によるレジストパターンの線幅変動を回避でき、優れたプロセス安定性を示す感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an improved high-throughput and quantitative process for determining methylation patterns in genomic DNA samples based on amplifying modified nucleic acid, and detecting methylated nucleic acid based on amplification-dependent displacement of specifically annealed hybridization probes.例文帳に追加

修飾型の核酸の増幅に基づいてゲノムDNA試料中のメチル化パターンを決定し、そして特異的にアニールしたハイブリダイゼーションプローブの増幅依存性の置換に基づいてメチル化核酸を検出するための、改良した高処理的かつ定量的な方法の提供。 - 特許庁

The signal amplified up to the adequate level is then subjected to the waveform equalization process with the waveform equalizing circuit PHASE EQ 220, COS EQ230 and is limited in the bandwidth with LPF 240 and is then inputted to the AGC-1 (130) as the first AGC circuit for amplification again up to the adequate level.例文帳に追加

適性レベルまで増幅された信号は、波形等化回路であるPHASE EQ220、COS EQ230により波形等化処理され、LPF240で帯域を制限され、第1のAGC回路であるAGC−1(130)に入力し、再び適正レベルまで増幅される。 - 特許庁

To provide a positive resist composition which is enhanced in resolving power, reduced in residue on development and improved in process admissibility such as a margin for exposure and a focal depth in lithography using a short- wavelength light source for exposure capable of ultra-microfabrication and a positive chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、現像残査が低減し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善されたポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide an underwater substation pod (USP) configured to efficiently combine amplification versions of collected electric output and to collect and process electric outputs of a series of off-land power generation devices including a voltage boosting transformer for transmitting power to a land facility.例文帳に追加

集約された電気出力の増幅バージョンをさらに効率的に組み合わせ、陸上施設に伝送するための電圧ブースト変圧器を含む一連の海上発電装置の電気出力を集約し、処理するようになされている水中変電所ポッド(USP)を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for sufficiently assuring accuracy of each process in a method for detecting an RNA derived from a target gene, by extraction of RNA from a biological specimen containing RNA of two or more biological species, reverse transcription reaction and nucleic acid amplification reaction.例文帳に追加

2以上の生物種のRNAを含む生物学的試料からRNAを抽出し、逆転写反応の後に核酸増幅反応により、標的遺伝子由来のRNAを検出する方法における、各工程の精度を十分に保証し得る方法の提供。 - 特許庁

To provide a positive type resist composition having enhanced resolving power and improved process admissibility such as margin for exposure and focal depth and less liable to cause development defects in lithography using a short-wavelength light source for exposure capable of ultra- microfabrication and a positive type chemical amplification resist.例文帳に追加

超微細加工が可能な短波長の露光光源及びポジ型化学増幅レジストを用いたリソグラフィー技術にあって、解像力が向上し、露光マージンや焦点深度等のプロセス許容性が改善され、現像欠陥の発生も少ないポジ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

The method for avoiding inhibition of nucleic acid amplification reaction with the bile component by using an enriched culture solution containing a cell body obtained by a culture process as a testing sample and removing a bile component in the culture solution by centrifugal concentration and alkali treatment is provided in a method for amplifying a nucleic acid derived from a cell body.例文帳に追加

菌体由来の核酸を増幅する方法において、培養法によって得られた菌体を含む増菌培養液を被検試料とし、遠心濃縮およびアルカリ処理により前記培養液中の胆汁成分を除去することによって、胆汁成分による核酸の増幅反応阻害を回避する方法。 - 特許庁

例文

This method for amplifying the nucleic acid comprises amplifying the nucleic acid in the presence of an enzyme by using the reactor in which at least a part of the contact surface with a reaction liquid is composed of the active energy ray-cured resin, wherein the method includes a process for adding a nucleic acid amplification inhibition control component to the reactor.例文帳に追加

本発明は、反応液との接触面の少なくとも一部が活性エネルギー線硬化樹脂により構成されている反応器を用いて酵素の存在下で核酸を増幅する方法であって、核酸増幅阻害抑制成分を反応器に加える工程を含む核酸増幅方法を提供する。 - 特許庁




  
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