「and Ra」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索

The surface roughness Ra of the discharge processing roll is 1.8-3.2 μm and PPI thereof is 150-300.例文帳に追加

前記放電加工ロールは、表面粗さＲａが１．８〜３．２μｍかつＰＰＩが１５０〜３００の範囲内にある。 - 特許庁

Moreover, after the roughening treatment, the surface roughness in a direction orthogonal to the rolling direction and in the parallel direction with the rolling direction is Ra≥0.4 μm.例文帳に追加

また、粗化処理後、圧延直角方向及び圧延平行方向の表面粗さがＲａ≧０．４μｍであることを特徴とする。 - 特許庁

The indoor units 2a-2c are installed within a building RA as an air conditioning target and perform air conditioning operation.例文帳に追加

室内機２ａ〜２ｃは、空調対象空間である建物ＲＡ内に対し設置され、空調運転を行う。 - 特許庁

The metallic material for a wiring connection fixture has an average roughness Ra of ≤0.3 μm and a maximum roughness Rt of ≤2.0 μm.例文帳に追加

平均粗さＲａが０．３μm以下で、かつ、最大粗さＲｔが２．０μm以下である配線接続器具用金属材。 - 特許庁

By such a structure, RA can be suppressed to a small value and the rate of the change of the resistance value (ΔR/R) can be made high compared with a prior art.例文帳に追加

これにより、従来に比べてＲＡを小さく抑えつつ抵抗変化率（ΔＲ／Ｒ）を高くすることが可能となる。 - 特許庁

The pneumatic pulverizer 2 manufactures the powder by pulverizing and primarily classifying raw material while pneumatically conveying it by rotating air stream RA.例文帳に追加

気流式粉砕機２は、原料を旋回気流ＲＡで気流搬送しながら粉砕および第一の分級をして粉末を製造可能なものである。 - 特許庁

It is preferable that the protective member is as thick as 3 mm or above, and its peripheral surface is 2.0 μm or below in average roughness (Ra).例文帳に追加

保護部材の厚さは３mm以上、外周面の平均面粗さ（Ｒａ）は２．０μm 以下であることが好ましい。 - 特許庁

The RC series circuit 11 is constituted by a resistance Ra and a capacitor Ca connected in series each other.例文帳に追加

ＲＣ直列回路１１は、互いに直列に接続された抵抗Ｒa 及びコンデンサＣa から構成される。 - 特許庁

The substrate K is provided with stripe like ribs Ra or lattice like ribs Rb as shown by figure 3 to form the projecting and recessed parts.例文帳に追加

基板Ｋには、図３に示すような、ストライプ状のＲａや井桁状のリブＲｂが設けられ、凸凹状をなしている。 - 特許庁

The surface hardness of a rolling surface of the ball 5 is Hv 890 or higher and the surface roughness thereof is Ra 0.003 μm or lower.例文帳に追加

玉５の転動面の表面硬さをＨｖ８９０以上とし、表面粗さをＲａ０．００３μｍ以下とする。 - 特許庁

The substrate K is provided with stripe-like ribs Ra or ribs Rb of parallel crosses and has an uneven surface as shown by figure 2.例文帳に追加

基板Ｋには、図２に示すように、ストライプ状のＲａや井桁状のリブＲｂが設けられ、凹凸状をなしている。 - 特許庁

Further, the surface roughness (Ra) is controlled to 1 to 4 or 1 to 2 or 3 to 4 μm, and the surface temperature is controlled to 70 to 90°C.例文帳に追加

また、表面仕上げをダル、表面粗度（Ｒａ）を１〜４または１〜２または３〜４μｍ、表面温度を７０〜９０℃とした。 - 特許庁

The wafer host material may be formed with a sintered SiC, and surface roughness of the monitoring wafer is desirably as Ra=0.5 nm or lower.例文帳に追加

ウェハ母材は焼結体ＳｉＣにより形成することがよく、当該ウェハの表面粗さがＲａ＝０．５ｎｍ以下とすることが望ましい。 - 特許庁

The resistors Ra to Rc and resistances Rx, Ry which determine the magnitude of the reference current Ii are chosen so that VCi>Vave if Vp>Vm.例文帳に追加

但し、抵抗Ｒａ〜Ｒｃ、及び基準電流Ｉｉの大きさを決める抵抗Ｒｘ，Ｒｙは、Ｖｐ＞ＶｍであればＶＣｉ＞Ｖave となるように設定する。 - 特許庁

The massive phosphor is composed of only an inorganic material and has a surface roughness (Ra) in the range of 0.05-3 μm.例文帳に追加

本発明の塊状蛍光体は、無機材料のみから構成され、表面粗さ（Ｒａ）が０．０５〜３μｍの範囲内にあることを特徴とする。 - 特許庁

Since mobility of a hole is large in the crystal orientation <100>, parasitic resistors Ra and Rb on the path can be reduced.例文帳に追加

結晶方位＜１００＞では正孔の移動度が大きいので、上記経路における寄生抵抗Ｒａ，Ｒｂを低減することができる。 - 特許庁

Surface roughness Ra of the polishing work-applied first and second margin parts is set in a range of 0.1 μm to 0.3 μm.例文帳に追加

ポリッシュ加工が施された第１，第２マージン部の表面粗さＲａを、０．１μｍ〜０．３μｍの範囲に設定する。 - 特許庁

In the formulas, Ra is the center line average height (μm) and PPI is the peak count.例文帳に追加

Ｒａ×ＰＰＩ≦６００ …（１） Ｒａ×ＰＰＩ≦１０００ …（２） 但し、Ｒａは中心線平均粗さ（μｍ）、ＰＰＩはピークカウントである。 - 特許庁

Means 1: the cam lobe comprises iron-based sintered material, and surface roughness Ra of its outer circumferential surface is set to be 0.4-2.2 μm.例文帳に追加

（手段１）鉄系焼結材からなるカムロブを用い、その外周面の表面粗さＲａを０．４〜２．２μｍとする。 - 特許庁

One end of a resistor Ra is connected to the positive input terminal of the boost circuit, and the other end is connected to low-voltage GND.例文帳に追加

抵抗Ｒａの一端は昇圧回路の正極入力端子に、他端は低電圧ＧＮＤに接続されている。 - 特許庁

The porous ceramic 1 is characterized in that the surface roughness (Ra) is <0.5 μm and the porosity is ≥30%.例文帳に追加

本発明に係る多孔質セラミックスは表面面粗度（Ｒａ）が０．５μｍ未満で、気孔率が３０％以上のセラミックス１からなる。 - 特許庁

In addition to the increase in exchange-bias magnetic field in the AFM layer 12, the resistance-area (RA) product and the MR ratio which contribute to reproducing characteristics are increased.例文帳に追加

ＡＦＭ層１２において交換バイアス磁界が増加すると共に、再生特性に寄与する抵抗（ＲＡ）およびＭＲ比が増加する。 - 特許庁

The RA filter 9 can be attached and detached to the suction opening cover 32 by opening the suction opening cover 32.例文帳に追加

ＲＡフィルタ９は、吸込口カバー３２を開くことで、吸込口カバー３２に対して着脱が可能である。 - 特許庁

This toilet seat 10 has recesses/projections with irregular heights due to aggregates 4 and the arithmetic mean roughness Ra is 0.4-1.5 μm.例文帳に追加

便座１０は、骨材４によって高さにバラツキのある凹凸を有し、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．４〜１．５μｍである。 - 特許庁

Next, the surface of the ceramic layer is subjected to stone polishing, and its surface is arranged to such an extent that a surface roughness Ra is about 0.005 to 0.01 μm.例文帳に追加

次にセラミック層の表面に砥石研磨をして、表面粗さＲａが０．００５〜０．０１μｍ程度に整面する。 - 特許庁

The center line average roughness (Ra) thereof is 3.0 μm or more and the Oken type smoothness thereof is 30 sec or less.例文帳に追加

また、中心線平均粗さ（Ｒａ）は３．０μｍ以上であって、表面の王研式平滑度が３０秒以下である。 - 特許庁

Surface roughnesses of the plunger, the cylinder, the check valve and the valve guide, etc. are 0.03 μm or less in Ra.例文帳に追加

硬質炭素薄膜の被覆前におけるプランジャ、シリンダ、チェックバルブ及びバルブガイドなどの表面粗さが、Ｒａで０．０３μｍ以下である。 - 特許庁

The substrate for the optical display device has surface roughness with ≤0.9 nm Ra (arithmetic mean roughness) and ≤1.5 nm Rms (root- mean-square roughness).例文帳に追加

本発明の光学デバイス用基板は、Ｒａが０．９ｎｍ以下でかつＲｍｓが１．５ｎｍ以下の表面粗さを有する。 - 特許庁

This member for a thin film manufacturing apparatus is composed of a glassy carbon material provided with properties of surface roughness Ra of 0.05 μm or less and porosity of 3% or less.例文帳に追加

表面粗さＲａが０．０５μm 以下、気孔率が３％以下の性状を備えるガラス状カーボン材からなることを特徴とする。 - 特許庁

The part which is coupled to the encoder 4, however, is formed as a rough surface of about 1.0 to 1.5 Ra, and the coupling strength is endured.例文帳に追加

これに対して、上記エンコーダ４を結合する部分を１．０〜１．５Ｒａ程度の粗面として、上記結合強度を確保する。 - 特許庁

and the end face 51a of the base plate 51 of a high-molecular optical waveguide element 50 is a rough surface whose roughness Ra is 0.2μm±0.1μm.例文帳に追加

高分子光導波路素子５０の基板５１の端面５１ａは、平均粗さＲａが０．２μｍ±０．１μｍの粗面である。 - 特許庁

In particular, the thickness of the diamond layer is preferably 3-100 μm, and roughness Ra of the surface of the substrate is ≥0.1 μm.例文帳に追加

特にダイヤモンド層厚は３〜１００μｍが好ましく、基板表面の粗さはＲａ０．１μｍ以上であることが好ましい。 - 特許庁

As Ra and Rb are RMSs of the signals in a wide range, they are supposed to show the mean value of the surface roughness of the thin steel plate 1.例文帳に追加

このＲａ、Ｒｂは広い範囲の信号のＲＭＳであるので、薄鋼板１の表面粗さの平均値を表しているものと考えられる。 - 特許庁

It is preferable that the arithmetic average roughness Ra on the face-roughened rolled foil is 0.1 μm or more and 10 μm or less.例文帳に追加

上記粗面化された圧延箔における算術平均粗さＲａは、０．１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

The adsorbent for blood cell removal is formed by a hydrophobic high-molecular resin and has a surface center line average roughness (Ra) of 5 to 100 nm.例文帳に追加

血球除去用吸着体を、疎水性高分子樹脂で形成し、表面の中心線平均粗さ（Ｒａ）を５〜１００ｎｍにする。 - 特許庁

A fine and beautiful matted surface with a surface roughness Ra of 0.9-1.1 erasing die marks of the aluminum extruded material can be obtained.例文帳に追加

アルミ押出材のダイスマークの消去と表面粗さをＲａ０．９〜１．１とする微細にして美麗なマット化表面を得られる。 - 特許庁

In one illustrative embodiment, the average particle diameter is about 1-25 μm and the average asperity Ra is about 3-100 nm.例文帳に追加

一実施の形態において、その平均粒径は約１〜２５μｍ、平均粗さＲ_aは約３〜１００ｎｍである。 - 特許庁

An ADC 4 converts a known analog reference signal RA to a digital reference signal RD and gives it to a correction signal generating section 5.例文帳に追加

ＡＤＣ４は，既知のアナログ参照信号Ｒ_Aをディジタル参照信号Ｒ_Dに変換し，補正信号作成部５に与える。 - 特許庁

The surface of a passage 7a in a needle 7 is mechanically polished and surface roughness Ra thereof is, for instance, 0.2 μm or less.例文帳に追加

ニードル７内部の流路７ａ表面に機械的研磨が施されており、その表面粗さＲａは例えば０.２μｍ以下になっている。 - 特許庁

The minute irregularities have 1-6 μm in the average roughness (Ra) and the number of recessions is 1-6 per 100 μm.例文帳に追加

上記微小凹凸は、平均粗さ（Ｒａ）が１〜６μｍで、且つ１００μｍあたりの凹部の個数が１〜６個に設定する。 - 特許庁

The surface roughness Ra of a seal edge 107a of the exhausting part 104 and a seal edge part 107b of the differential exhausting part 102 is <0.1 μm.例文帳に追加

本排気部１０４のシールエッジ１０７ａと差動排気部１０２のシールエッジ１０７ｂは、表面粗さＲａが０．１μｍ未満である。 - 特許庁

The inorganic thin film has a surface roughness (Ra) of 2 nm or less, a water contact angle of 30° or more, and a water droplet falling angle of 40° or less.例文帳に追加

表面粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以下であり、水に対する接触角が３０°以上であり、水滴転落角が４０°以下である。 - 特許庁

In addition, surface roughness (Ra) in the guiding groove bottom of the header area and the recording surface of the same of a substrate is set equal to 0.5 nm or lower.例文帳に追加

また、基板の、ヘッダー領域の案内溝の底及びヘッダー領域の記録面の表面粗さ（Ｒａ）を０．５ｎｍ以下とする。 - 特許庁

To provide a method and device for manufacturing a magnetoresistive effect element having a high MR ratio (Magnetoresistance ratio) even at a low RA (electrical resistance value).例文帳に追加

低ＲＡでも高ＭＲ比を有する磁気抵抗効果素子の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

The surface roughness (Ra) of the cleaning sheet 13 is 0.01 to 1 μm and the hardness of the elastic body 12 is Hs10 to Hs100.例文帳に追加

クリーニングシート１３の表面粗さ（Ｒａ）を０．０１μｍ〜１μｍとし、弾性体１２の硬度をＨｓ１０〜Ｈｓ１００とする。 - 特許庁