「and Ra」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

The biaxially oriented polyester film has 3-30 nm central line average roughness Ra_A of one surface (side A) and 0.5-10 nm central line roughness Ra_B of the other side (side B) and 20-170% glossiness of either surface.例文帳に追加

一方の表面（Ａ面）の中心線平均粗さＲａ_Ａが３〜３０ｎｍであり、かつもう一方の表面（Ｂ面）の中心線平均粗さＲａ_Ｂが０．５〜１０ｎｍであり、いずれかの表面の光沢度が２０〜１７０％であることを特徴とする二軸配向ポリエステルフィルムとする。 - 特許庁

This substrate has an orientation film contacting on the substrate, the relation of the surface roughness Ra of the substrate and the molecular length to form the orientation film is Ra ≤ molecular length, and the thickness of the orientation film is 8 nm or less.例文帳に追加

基材上に接触した配向膜を有する基板であって、基材の表面粗さＲａと配向膜を形成する分子長の関係がＲａ≦分子長であり、かつ、配向膜の厚さが８ｎｍ以下であることを特徴とする基板を提供する。 - 特許庁

The product of the refractive index (n) and the layer thickness(d) of the second dielectric layer 16 satisfies (nd)>130 nm so that the reflectance Ra of the amorphous phase region and the reflectance Rc in the crystal phase region in the recording layer 14 always have the relation of Ra>Rc.例文帳に追加

ここでは、第２誘電体層１６の屈折率ｎとその層厚ｄとの積ｎｄが ｎｄ＞１３０ｎｍ を満足するため、記録層１４のアモルファス相領域の反射率Ｒａと結晶相領域の反射率Ｒｃとの間には、 Ｒａ＞Ｒｃ が常に成立している。 - 特許庁

A wiring conductor 2 has a surface covered with a solder resist layer 5, having an arithmetic average roughness Ra of 0.5 μm or more, and a surface exposed from openings 5a, 5b of the solder resist layer 5, having an arithmetic average roughness Ra of 0.4 μm or less.例文帳に追加

配線導体２は、ソルダーレジスト層５で覆われた面が算術平均粗さＲａで０．５μｍ以上であり、かつソルダーレジスト層５の開口部５ａ，５ｂから露出する面が算術平均粗さＲａで０．４μｍ以下である。 - 特許庁

Here, the surface mean roughness Ra of the formed organic-inorganic component gradient composition type coating film 2 is preferably 6 μm or more to 14 μm or less, and the surface mean roughness Ra of the photocatalyst layer 3 containing an anatase-type titanium oxide is preferably 7 μm or more.例文帳に追加

ここで、前記形成された有機−無機成分傾斜組成型塗膜２の表面平均粗さＲａは６μｍ以上１４μｍ以下、アナターゼ型酸化チタンを含有する光触媒層３の表面平均粗さＲａは７μｍ以上であることが好ましい。 - 特許庁

In the tube 2 for the heat exchanger, the surface at a part contacting with the inner periphery of a channel or hole of the fin 3 at least during assembly is formed at an arithmetical mean roughness Ra of 10-100 μm, and the composition 9 for brazing is applied to the surface formed at the arithmetical mean roughness Ra.例文帳に追加

熱交換器用チューブ２は、少なくとも組み立て時にフィン３の溝又は孔の内周部に接する部位の表面が、１０μｍ〜１００μｍの算術平均粗さＲａに形成され、この算術平均粗さＲａに形成された表面にろう付け用組成物９が塗布されている。 - 特許庁

Rz<(0.20×W/1000+0.4×t+2.25)×5.0 and 0.1-(0.04×W/1000)(6/5)<Ra/Rz<0.2-(0.04W/1000)(6/5).例文帳に追加

0.05≦Ceq.≦1.20 ・・・(1) ただし、Ceq.＝C%＋1/6Mn%＋1/24Si% -2.5・10^2×S+2 ≦log(Mn/S) ≦-2.5・10^2×S+5.0 ・・・(2) ただし、Ｓ≦0.025 ％ (0.20×W/1000+0.4×t+2.25) ×1.0 ＜Rz＜(0.20 ×W/1000 ＋0.4×ｔ＋2.25) ×5.0 ・・・(3) 0.1-(0.04×W/1000)^(6/5) ＜Ra/Rz ＜0.2-(0.04×W/1000)^(6/5) ・・・(4) ただし、調質圧延前の熱延鋼板の板厚＝ｔ(mm)、同じく板幅＝Ｗ(mm) 上下ワークロールにダルロールを用いて、(5) 式に規定する伸び率Red(%)で調質圧延を施す。 - 特許庁

According to the method, grinding of the upper surface of the stainless steel strip is carried out by abutting billy rolls 2, each having a surface roughness Ra of less than 0.1 μm, on the lower surface of the stainless steel strip 1, and abutting grinding belts 4, each driven by a belt driving roll 3, on the upper surface of the stainless steel strip.例文帳に追加

表面粗度Raが0.1μｍ未満であるビリーロール２をステンレス鋼帯１の下面に当接し、ベルト駆動ロール３によって駆動される研削ベルト４を前記ステンレス鋼帯の上面に当接して上面の研削を行なう。 - 特許庁

The solution is delivered using the pipe line the inner surface of which satisfies the following relational expression: Ra<X between the value (Ra:μm) of arithmetic mean roughness showing the surface smoothness and the size (X:μm) of the foreign matter in the delivered semiconductor manufacturing composite solution.例文帳に追加

表面平滑度を示す算術平均粗さの値（Ｒａ；μｍ）が、送液される半導体製造用組成物溶液中の異物サイズ（Ｘ；μｍ）との間に以下の関係式Ｒａ＜Ｘが成立するような内面の配管を用いて送液する。 - 特許庁

According to the distance up to the object, the position of a reference region RA on a thermal image, where the reference temperature T0 is detected by the radiation thermometer 13 is obtained and finally the thermal image 21, is converted into an image 20 containing temperature distribution, based on the reference temperature T0 of the reference region RA.例文帳に追加

対象物２までの距離により、熱画像上における放射温度計１３により基準温度Ｔ０が検出される基準領域ＲＡの位置を求め、その基準領域ＲＡの基準温度Ｔ０に基づき熱画像２１を温度分布の画像２０に変換する。 - 特許庁

In a regulation roller 4 in the developing device, surface roughness Ra of edge areas 4B opposite to each other interposing the development roller 2 and the seal member 21 is larger than surface roughness Ra of a main area 4A in contact with the image area 2A of the development roller 2 in an area in the longitudinal direction.例文帳に追加

現像装置の規制ローラ４は，長手方向の領域において，現像ローラ２とシール部材２１を挟んで対向する端部領域４Ｂの表面粗さＲａが，現像ローラ２の画像領域２Ａと接するメイン領域４Ａの表面粗さＲａよりも大きい。 - 特許庁

In the surface roughness of the metal foil having an excellent electric constant stability, the ratio of Ra/Sm between arithmetic average roughness height Ra obtained by measuring roughness in the direction where the mean spacing Sm of the ruggedness is the minimum and the mean spacing Sm of the ruggedness Sm, is to be not less than 0.001.例文帳に追加

表面粗さにおいて、凸凹の平均間隔Ｓｍが最小となる方向への粗さ測定により得られた、算術平均粗さＲａと凸凹の平均間隔Ｓｍの比率Ｒａ／Ｓｍが０．００１以上となることを特徴とする電気接点安定性に優れた金属箔。 - 特許庁

The biaxially oriented polyester film has at least one layer that is a polymer layer having 1.2-1.6 refractive index, 3-30 nm central line average roughness Ra_A of one surface (side A) and 0.5-10 nm central line average roughness Ra_B of the other surface (side B).例文帳に追加

または、屈折率が１．２〜１．６であるポリマー層を少なくとも１層有し、かつ一方の表面（Ａ面）の中心線平均粗さＲａ_Ａが３〜３０ｎｍであり、もう一方の表面（Ｂ面）の中心線平均粗さＲａ_Ｂが０．５〜１０ｎｍである二軸配向ポリエステルフィルムとする。 - 特許庁

Further, the high pressure water is sprayed to impart a surface roughness of 1.8 to 3.5 μm by a center line average roughness Ra, and after that, the skinpass rolling is performed by using work rolls having a surface roughness of 0.3 to 6.0 μm by a center line average roughness Ra.例文帳に追加

また前記で高圧水を吹き付けて、めっき鋼板表面に中心線平均粗さＲａで１．８〜３．５μｍの表面粗さを付与し、しかる後に表面粗さが中心線平均粗さＲａで０．３〜６．０μｍのワークロールを用いて調質圧延する。 - 特許庁

When this steel sheet is manufactured, on the surface of the unidirectional silicon steel secondary recrystallized sheet before re-rolling, for example, a mechanical-grinding or a chemical-corrosion is applied, and after making an arithmetic means Ra of the surface roughness from 0.6 μm to <3.5 μm, the re-rolling is applied.例文帳に追加

製造するにあたっては、再圧延前の一方向性珪素鋼二次再結晶板表面に、例えば、機械的な研磨または化学的な腐食を施し、表面粗度の算術平均Raを0.6μm以上3.5μm未満にした後、再圧延する。 - 特許庁

In this case, an output voltage Vp of the inverting amplifier 2 can be expressed as Vp=-(R2/R1)×(|VIN-REF|+Ra×Ia), and the dead zone can be produced within a range where the absolute value |VIN-REF| of input differential signals (VIN-REF) satisfies |VIN-REF|≤Ra×Ia.例文帳に追加

この場合に、反転増幅器２の出力電圧Ｖｐは、Ｖｐ＝−（Ｒ２／Ｒ１）・（｜ＶＩＮ−ＲＥＦ｜＋Ｒａ・Ｉａ）と表すことができ、入力差分信号「ＶＩＮ−ＲＥＦ」の絶対値が｜ＶＩＮ−ＲＥＦ｜≦Ｒａ・Ｉａなる範囲でデッドゾーンを発生することができる。 - 特許庁

A row address decoder 26 of a semiconductor memory device 10 generates internal row address signals RAD<0:11>, /RAD<0:11> in which the most significant bit and the least significant bit of row address signals RA<0:11>, /RA<0:11> corresponding respectively to address signals A0-A11 are replaced each other.例文帳に追加

半導体記憶装置１０の行アドレスデコーダ２６によって、アドレス信号Ａ０〜Ａ１１にそれぞれ対応する行アドレス信号ＲＡ＜０：１１＞，／ＲＡ＜０：１１＞の最上位ビットと最下位ビットとが入替えられた内部行アドレス信号ＲＡＤ＜０：１１＞，／ＲＡＤ＜０：１１＞が生成される。 - 特許庁

In a stop signal generating circuit 12, when both switch circuits Sa, Sb are off in the operation detecting circuit 11 and the stop condition of the power supply circuit Rd is detected, the stop signal for suspending the operation of the power supply circuit Ra is supplied to the power supply circuit Ra.例文帳に追加

ストップ信号発生回路１２では、動作検出回路１１において、スイッチ回路Ｓａ、Ｓｂが両方ともオフ、電源回路Ｒｄが停止状態が検出されたとき、電源回路Ｒａの動作を停止させるためのストップ信号が電源回路Ｒａへ供給される。 - 特許庁

When the superior device can be manufactured by using the object, having surface roughness Ra of 15 nm or less as measured via a bonding part of the bonded substrate is utilized for manufacturing the ink jet head, the head with high-density and a large area having proper characteristics can be obtained.例文帳に追加

接合された基板の接合部を介して測定された表面粗度Raが15ｎｍ以下のものを用いることにより、より優れたデバイスを作製することが出来、インクジェットヘッド作製に利用した場合、高密度・大面積な特性の良いヘッドを得ることが出来る。 - 特許庁

The droplet discharging apparatus is so constructed that a cross-like pinning spot B1 consisting of a band-shaped spot a little longer than the cell width Ra in the direction of the X arrow and a band-shaped spot a little longer than the cell width Ra in the direction of the Y arrow is formed in the area of an impact position.例文帳に追加

着弾位置の領域で、Ｘ矢印方向に沿ってセル幅Ｒａよりも若干長い帯状のスポットと、Ｙ矢印方向に沿ってセル幅Ｒａよりも若干長い帯状のスポットとからなる十字状のピニングスポットＢ１を成形するようにした。 - 特許庁

When mathematical mean roughness of surface roughness of the tooth flanks is Ra, the maximum height is Ry and a skewness is Rsk, the skewness of the tooth flanks is set at -1 or less, the maximum height Ry is set at 3 or less so that Ry/Ra becomes 6-12.例文帳に追加

歯面の表面粗さの算術平均粗さをＲａとし、最大高さをＲｙとし、スキューネスをＲｓｋとしたときに、歯面のスキューネスＲｓｋを−１以下とし、最大高さＲｙを３以下とし、Ｒｙ／Ｒａを６〜１２とする。 - 特許庁

A photoconductive layer 302 containing a-Si is formed on a conductive substrate 301 having <6 nm surface roughness Ra in a 10 μm×10 μm area, and the surface roughness Ra of the photoconductive layer 302 in a 10 μm×10 μm area is 15 nm to 100 nm.例文帳に追加

１０μｍ×１０μｍの範囲における表面粗さＲａが６ｎｍ未満の導電性基体３０１上にａ−Ｓｉを含む光導電層３０２が成膜形成され、光導電層３０２の１０μｍ×１０μｍの範囲における表面粗さＲａは１５ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。 - 特許庁

A photostimulable phosphor layer 12 is formed on a surface of a base 11 having the relationship of Ra>WCA of the surface roughness Ra (cutoff value 0.08 mm) and the surface waviness WCA (high-pass cutoff value 0.08 mm), by a vapor phase accumulation method.例文帳に追加

表面粗さＲａ（カットオフ値０．０８ｍｍ）と表面うねりＷ__ＣＡ（高域カットオフ値０．０８ｍｍ、低域カットオフ値８ｍｍ）との関係が、Ｒａ＞Ｗ_ＣＡである基板１１の表面に、輝尽性蛍光体層１２を気相堆積法により形成する。 - 特許庁

(1) Ra at least on one surface of the leader tape LT is 10 to 60 nm and the maximum curve quantity L of the leader tape in the longitudinal direction is ≤3 mm/m in the leader tape LT constituted by providing a coating layer at least on one surface on a supporting object.例文帳に追加

１）支持体上の少なくとも一方の面に塗布層を設けてなるリーダーテープＬＴにおいて、リーダーテープＬＴの少なくとも一方の面のRaが１０〜６０ｎｍであり、かつリーダーテープの長手方向の最大湾曲量Lが３ｍｍ／ｍ以下である。 - 特許庁

(1)In the leader tape bonded to the tip of a magnetic tape, the center line average roughness (Ra) of a coated layer on a support is 10 to 60 nm, and a ratio of the stiffness in the longitudinal (MD) direction of the leader tape to that of the magnetic tape is 6.0 to 400.例文帳に追加

１）磁気テープの先端に接合されるリーダーテープにおいて、支持体上の塗布層の中心線平均粗さ（Ra）が１０〜６０ｎｍであり、かつ前記リーダーテープと磁気テープの長手（ＭＤ）方向のスティフネスの比率が６．０〜４００であることを特徴とするリーダーテープ。 - 特許庁

A plurality of linear parts 3 arranged along a predetermined direction are formed on a cavity surface for forming the surface of the flat plate molding and this cavity surface is characterized in that the maximum value Ra(max 1) of center line average roughness Ra measured along all of directions within the cavity surface is 3.0-1,000 μm.例文帳に追加

平板成形品の表面を形成するためのキャビティ面には、所定方向に沿って並んだ複数の線状部３が形成され、このキャビティ面は、当該面内の全方向に沿って測定した中心線平均粗さＲａのうちの最大値Ｒａ（max1）が３．０〜１，０００μｍである。 - 特許庁

When the inductance of the inductor is defined as L, the parasitic resistance value of the inductor is defined as RL, the capacity of the capacitor Ca is defined as Ca and the resistance value of the resistance Ra is defined as Ra, the RC series circuit 11 is substantially designed so as to satisfy the expression L/RL=Ca.Ra.例文帳に追加

インダクタのインダクタンスをＬ、インダクタの寄生抵抗値をＲL 、コンデンサＣaの容量をＣa 、抵抗Ｒa の抵抗値をＲa とした場合、ＲＣ直列回路１１は、実質的に「Ｌ／ＲL ＝Ｃa ・Ｒa 」が満たされるように設計される。 - 特許庁

The arithmetic average roughness of the surface of a roller 13 of the one-way clutch 5 is set below 0.2 Ra; and the arithmetic average roughness of the circumferential surface of an intermediate part of a hollow shaft 3 used as the inner wheel (non-cam surface) of the one-way clutch 5 is set below 0.2 Ra as well.例文帳に追加

一方向クラッチ5のころ13の表面は、算術平均粗さ０．２Ｒａ以下とされており、また、一方向クラッチ5の内輪（非カム面）となっている中空軸3の中間部の外周面も、算術平均粗さ０．２Ｒａ以下とされている。 - 特許庁

This parts taking-out system is provided with a cell rack Ra for storing a case 1 storing various parts, a carrying-in/out member carrying the case 1 out of/into the rack Ra, and a conveying apparatus Tr (a first conveying mechanism 30) for carrying the case 1 carried out of the carrying-in/out member.例文帳に追加

各種部品を収めたケース１を収納するセルラックＲａと、このラックＲａに対してケース１を出し入れする出し入れ部材と、この出し入れ部材により取出されたケース１を搬送する搬送装置Ｔｒ（第１搬送機構３０）とを備えた。 - 特許庁

The substrate for the magnetic disk manufactured by these treatments has minute irregularities which is 0.4 to 3.0 nm in the average surface height Ra on its surface and ≤14 in the ratio of the ten point average surface height (Rz) of the substrate surface to the average surface high (Ra) of the substrate surface.例文帳に追加

これらの処理により作製された磁気ディスク用基板は、その表面の平均面粗さＲａが０．４〜３．０ｎｍで、かつ基板表面の平均面粗さ（Ｒａ）に対する基板表面の１０点平均面粗さ（Ｒｚ）の比が１４以下である微小凹凸を有する。 - 特許庁

In the glass substrate for flat panel displays which has the end surface part subjected to round chamfering, the end surface part subjected to round chamfering has RSm/Ra of ≥80 wherein Ra is an arithmetic mean height of contour curves and RSm is a mean length of contour curve elements.例文帳に追加

端面部にＲ面取りが施されたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板であって、輪郭曲線の算術平均高さをＲａ、輪郭曲線要素の平均長さをＲＳｍとした場合に、Ｒ面取りが施された端面部を、ＲＳｍ／Ｒａが８０以上となるようにする。 - 特許庁

Address signals RA_n, RA_n+1 are respectively given to address decoders 1, 2 corresponding to a plurality of banks, the storage cells in each bank are respectively selected, and read data are outputted on the basis of cell information read from the selected storage cells.例文帳に追加

アドレス信号ＲＡｎ，ＲＡｎ＋１が複数のバンクに対応するアドレスデコーダ１，２に入力されて、各バンクにおいて記憶セルがそれぞれ選択され、該選択された記憶セルから読み出されたセル情報に基づいて読み出しデータが出力される。 - 特許庁

Cell selection circuits 2, 3 are operative to select from the memory cell array MA a memory cell MC whose data is to be read, and to select from the reference cell array RA a reference cell RA at a position corresponding to a position of the memory cell MC selected in the memory cell array MA.例文帳に追加

セル選択回路２，３は、メモリセルアレイＭＡの中からデータを読み出すメモリセルＭＣを選択すると共に参照セルアレイＲＡの中からメモリセルアレイＭＡにおける選択されたメモリセルＭＣの位置に対応する位置の参照セルＲＡを選択する。 - 特許庁

When the head resolution utilizes 180 dpi, the printing data to have the printing resolution of 180 dpi is such as shown by a printing 1 that a distance between dot centers of dots to be printed by driving the printing head is Ra (=1 inch/180), and a dot diameter is approximately Ra.例文帳に追加

ヘッド解像度が１８０ｄｐｉを利用する場合は、１８０ｄｐｉの印字解像度となる印字データは、印字１に示すように、印刷ヘッドの駆動により印字されるドットのドット中心点間はＲａ（＝１ｉｎｃｈ／１８０）となり、ドット径は約Ｒａとなる。 - 特許庁

In the magnetic head device, at least either the flat contact surface or the hemispherical contact surface is subjected to laser polishing to give the hemispherical contact surface a surface roughness Ra of 100 nm or below and the flat contact surface a surface roughness Ra of 50 nm or below.例文帳に追加

平面状接触面と半球状接触部の少なくとも一方に、レーザポリッシュを施し、半球状接触部の面粗さＲａを１００ｎｍ以下、平面状接触面の面粗さＲａを５０ｎｍ以下とした磁気ヘッド装置。 - 特許庁

The surface of a base material 1 of a dense ceramic having a purity of ≥90% is formed into a first rounded unevenness 2 having a surface roughness Ra of 3 to 40 μm, and further the surface of the first unevenness 2 is formed into a second rounded unevenness 3 having a surface roughness Ra of 0.1 to 2.9 μm.例文帳に追加

純度９５％以上の緻密質セラミックスからなる基材１の表面が表面粗さＲａ３〜４０μｍの丸みを帯びた第１の凹凸１に形成され、かつ、この第１の凹凸の表面が表面粗さＲａ０．１〜２．９μｍの丸みを帯びた第２の凹凸３に形成されている。 - 特許庁

In the fixing device with a fixing roller, a pressing roller which comes into pressure contact with the fixing roller and a cleaning means to clean up foreign matter sticking to the surface of the fixing roller, a cleaning roller obtained by coating a metallic shaft with a heat resistant artificial leather having ≤10 mm surface roughness Ra is used as the cleaning means.例文帳に追加

定着ローラと、これに圧接する加圧ローラと、前記定着ローラの表面に付着する異物を清掃する清掃手段とを有する定着装置において、清掃手段としては金属性軸体に表面粗さRaが10mm以下である耐熱性の人工皮革を被覆したクリーニングローラを用いる。 - 特許庁

In the electrode backing 5 containing a porous conductive sheet 1 comprised of an inorganic conductive fiber, the surface roughness (Ra) of the surface of one side of the sheet 1 on which an electrode catalyst is applied is made not less than 2 μm and not larger than 20 μm by surface roughness defined in JIS B0601.例文帳に追加

無機導電性繊維からなる多孔質導電性シート１を含む電極基材５において、該シート１の電極触媒層を設ける側の表面粗さを、ＪＩＳ Ｂ０６０１で規定する表面粗さ（Ra）で２μｍ以上２０μｍ以下にする。 - 特許庁

This fluid machine includes: an expander 4 for converting heat energy of a Rankine cycle Ra to the turning power; a supplying pump 1 driven by the turning power to increase the pressure of the Rankine cycle Ra; and a motor for generating the rotation driving force, wherein a rotating shaft 21 is shared by these.例文帳に追加

ランキンサイクルＲａの熱エネルギーを回転動力へと変換する膨張機４と、回転動力により駆動されてランキンサイクルＲａの圧力を上げる給液ポンプ１と、回転駆動力を発生するモータ３とを備え、これらで回転軸２１を共有した。 - 特許庁

The VA mode transflective liquid crystal display device includes ribs 182, 184 disposed in a transmission area TA and a reflection area RA in such a manner that the number of domains formed in the reflection area RA is smaller than the number of domains in the transmission area TA.例文帳に追加

本発明のＶＡモードの半透過型液晶表示装置は、透過部ＴＡに形成されるドメインの数より少ない数のドメインが反射部ＲＡに形成されるようにリブ１８２、１８４を透過部ＴＡ及び反射部ＲＡに配置することを特徴とする。 - 特許庁

The dispersing region V has multiple guide plates disposed along the rotation direction of the rotating air stream RA in a dispersion part 71, and the second classifying region S2 has a classifying blade 62 rotating in the same direction as the rotation direction of the rotating air stream RA.例文帳に追加

そして、この分散領域Ｖには、分散部７１に、旋回気流ＲＡの旋回方向に沿って配設された複数の案内羽板を有し、第二の分級領域Ｓ２には、旋回気流ＲＡの旋回方向と同一方向に回転する分級翼６２を有している。 - 特許庁

The inventors found that responsiveness of LPS, TNF-α, IL-1β and CD40, in which inhibition of the responsiveness is known as a target for treatment of rheumatoid arthritis, is inhibited when expression of RA3 in which expression level is enhanced in human RA patient synovial membrane tissue is specifically inhibited.例文帳に追加

ヒトRA患者滑膜組織において発現量が亢進しているRA3の発現を特異的に抑制すると、その応答性の抑制が関節リウマチ治療標的であると知られているLPS、TNF-α、IL-1β及びCD40の応答性が抑制されることを見出した。 - 特許庁

A surface of a main body of the needle 2 which is comprised of stainless steel, tungsten or a tungsten alloy has a rough surface 3 showing a surface roughness within Ra=0.2-2.2 μm and preferably near Ra=1.73 μm.例文帳に追加

ステンレス鋼もしくはタングステンあるいはタングステン合金からなる針本体２の表面に、表面粗さＲａ＝０．２〜２．２μｍの範囲内、好ましくはＲａ＝１．７３μｍ付近となるように粗面３が形成されてなることを特徴とする。 - 特許庁

The nano-imprint composition comprises a composition represented by general formula (I), wherein X_1 represents a substituent or halogen atom connected by a hetero atom, X_2 represents a hydrocarbon group substituted by fluorine atom, Ra and Rb each independently represent hydrogen atom, halogen atom, cyano group or organic residue, and Ra and Rb, or X_1 and Ra or Rb may be mutually bonded to form an annular structure.例文帳に追加

下記一般式（Ｉ）で表される化合物を含むナノインプリント用組成物：（一般式（Ｉ）中、Ｘ_１はヘテロ原子で連結した置換基またはハロゲン原子を表す。Ｘ_２は、フッ素原子で置換されている炭化水素基を表す。Ｒａ、Ｒｂは各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は有機残基を表す。また、ＲａとＲｂ、Ｘ_１とＲａあるいはＲｂが互いに結合して環状構造を形成しても良い。）。 - 特許庁

The reading area R of the writing sheet 4 is split into a plurality of areas Ra, Rb and Rc, and light reflected from the split reading areas Ra, Rb and Rc is guided to light-receptive portions 24a, 24b and 24c of a line sensor 22 having different imaging surfaces by light derivation means such as mirrors 20a, 20b and 20c, and a prism 26.例文帳に追加

書込みシート４の読取領域Ｒは、複数の領域Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃに分割され、分割された読取領域Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃで反射された光は、ミラー２０ａ、２０ｂ、２０ｃおよびプリズム２６等の光導出手段によってラインセンサ２２の撮像面の異なる受光部２４ａ、２４ｂ、２４ｃに導かれる。 - 特許庁