「and Ra」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

Furthermore, a center-line average roughness Ra on the surface of the zinc coating is preferably ≥0.1 μm and ≤0.5 μm.例文帳に追加

さらに、亜鉛被膜の表面の中心線平均粗さＲａは、０．１μｍ以上０．５μｍ以下であることが好ましい。 - 特許庁

Surface roughness Ra on the clamp reference surface 3a is set to 120 nm or higher, and its dynamic friction coefficient is set to 0.5 or higher.例文帳に追加

そして、クランプ基準面３ａにおける表面粗さＲａを１２０ｎｍ以上として、その動摩擦係数を０．５以上とする。 - 特許庁

Surfaces of the raceway grooves 15, 16 are applied with super-finishing and formed in 0.05 Ra or less surface roughness.例文帳に追加

軌道溝１５，１６の表面は超仕上げが施されて表面粗さが０．０５Ｒａ以下に形成されている。 - 特許庁

The irregularities 21a have an arithmetic average roughness Ra of ≤0.1 μm, and a mean interval Sm between the surface irregularities is 10-60 μm.例文帳に追加

凹凸２１ａは、算術平均粗さＲａが０．１μｍ以下で、その表面凹凸の平均間隔Ｓｍが１０〜６０μｍである。 - 特許庁

Therein, the ruggedness of the boundary 3 between the titanium plate and the steel observed in a cross section of the joining part 5 is ≥1.0 μm in Ra.例文帳に追加

また、接合部５の断面において観察されるチタン板と鋼との界面３の凹凸がＲａで１．０μｍ以上である。 - 特許庁

An inversion input terminal of the operational amplifier 21 is connected to the connection point of the first feedback resistor Rb and the second feedback resistor Ra.例文帳に追加

また、オペアンプ２１の反転入力端子は、この第１帰還抵抗Ｒｂと第２帰還抵抗Ｒａとの接続点に接続されている。 - 特許庁

The surface roughness is set as follows; Ra=0.08 to 0.10 μm, Rz=0.45 to 0.60 μm, and the pitch P of the linear groove is about 17 μm.例文帳に追加

その表面粗さは、Ｒａ＝０．０８〜０．１０μｍ、Ｒｚ＝０．４５〜０．６０μｍであり、線状溝のピッチＰは約１７μｍである。 - 特許庁

The center line average roughness Ra of the substrate 111 in contact with the developer is controlled to be between 0.2 μm and 0.5 μm.例文帳に追加

基板１１１の現像剤接触面の中心線平均粗さＲａを０．２μｍ以上０．５μｍ以下とする。 - 特許庁

Q0=W.V.R., where V is rolling speed (m/min), W is the width (m) and R is the surface roughness Ra of the work roll (μm).例文帳に追加

Ｑ_0 ＝Ｗ・Ｖ・Ｒ 但し、Ｖ：圧延速度（ｍ／分）、 Ｗ：板幅（ｍ）、 Ｒ：ワークロール表面粗度Ｒａ（μｍ）。 - 特許庁

The material of the discharge nozzle is made from stainless steel and the center line average roughness (Ra) of the inside wall surface of the discharge nozzle is ≤0.15 μm.例文帳に追加

吐出ノズルの材料がステンレス鋼で、吐出ノズルの内壁面の中心線平均粗さ（Ｒａ）が０．１５μｍ以下であること。 - 特許庁

The void ratio of the photocatalyst 3 is preferably 1-50% and the surface roughness Ra of the light receiving surface thereof is preferably 5 nm-10 μm.例文帳に追加

光触媒３は、空孔率が１〜５０％であるのが好ましく、受光面の表面粗さＲａが５ｎｍ〜１０μｍであるのが好ましい。 - 特許庁

The spherical hard particles are silica particles of a 3-5 μm mean particle size, and the surface roughness Ra of the surface protection layer 4 is 0.1-0.3 μm.例文帳に追加

球状硬質粒子が平均粒径３〜５μｍのシリカ粒子であり、表面保護層４の表面粗さＲａが０．１〜０．３μｍである。 - 特許庁

The skin material has a topcoat containing fine powder and having a surface roughness Ra regulated within the range of 0.5-30 μm in a standard state.例文帳に追加

微粉末を含有し、表面粗さＲａが標準状態で０．５〜３０μｍの範囲にあるトップコートを有することを特徴とする表皮材料。 - 特許庁

A center line average roughness Ra of the outer surface of the substrate 111 of an image observing side is set between 0.2 μm and 0.7 μm.例文帳に追加

画像観察側の基板１１１の外表面の中心線平均粗さＲａは０．２μｍ以上０．７μｍ以下である。 - 特許庁

By forming a lamination structure of CoFeB/CoFe/Al-O, the low RA and the high resistance change rate (ΔR/R) can be acquired.例文帳に追加

このようにＣｏＦｅＢ／ＣｏＦｅ／Ａｌ−Ｏの積層構造とすることで、低いＲＡで且つ高い抵抗変化率（ΔＲ／Ｒ）を得ることが出来る。 - 特許庁

To provide a method and apparatus of manufacturing a magnetoresistive effect element having a high MR ratio even at a low RA.例文帳に追加

低ＲＡでも高ＭＲ比を有する磁気抵抗効果素子の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a magnetic tunnel junction element comprising a low magnetization cap layer capable of achieving a high MR ratio and an excellent RA value.例文帳に追加

高いＭＲ比と良好なＲＡ値とを達成可能な低磁化キャップ層を備えた磁気トンネル接合素子を提供する。 - 特許庁

Shape inspection is performed while transferring a sheet roll R on a conveyer 101 while facing each end face Ra fore-and-aft in the transferring direction.例文帳に追加

シートロールＲを、その各鏡面Ｒａを移送方向前後に向けた状態で、コンベヤ１０１上を移送中に、形状検査する。 - 特許庁

An average surface roughness Ra of a face of a heat resistant resin film 20 comprising a support body 2 is >0.05μm and ≤0.5μm.例文帳に追加

支持体２をなす耐熱性樹脂膜２０の面の平均表面粗さＲａを０．０５μｍ＜Ｒａ≦０．５μｍとする。 - 特許庁

The randomized input data RA is separated into 8-bit data parts sequentially from higher-order bits to produce ra0, ra1, ra2, and ra3.例文帳に追加

ランダム化入力データＲＡは、上位から８ビットずつ分割されて、ｒａ０、ｒａ１、ｒａ２、ｒａ３とされる。 - 特許庁

The plurality of conductors (18) are composed of a generally insulated conductive material, and are each connected to one of the electrodes (RA-LL).例文帳に追加

複数の導体（１８）は一般的に絶縁された導電性材料で構成されていて、複数の電極（ＲＡ−ＬＬ）に１つずつ接続されている。 - 特許庁

A surface roughness Ra of the main surface E1 and the side surfaces E3 of the current collecting part 3c is 300-800 nm inclusive.例文帳に追加

集電部３ｃの主面Ｅ１および側面Ｅ３の表面粗度Ｒａは、３００ｎｍ以上８００ｎｍ以下である。 - 特許庁

The circuit 2 controls the switching operation of the circuit Ra and the circuit Rd in accordance with the detected ID signal.例文帳に追加

制御回路２では、検出されたＩＤ信号に応じて、電源回路Ｒａおよび電源回路Ｒｄのスイッチグ動作が制御される。 - 特許庁

The rugged structure side surface in the base material film has a 0.05-0.5 μm mean average roughness Ra, and a 10-200 μm average cycle Sm.例文帳に追加

基材フィルムにおける凹凸構造側の面は、算術平均粗さＲａが０．０５〜０．５μｍで、平均周期Ｓｍが１０〜２００μｍである。 - 特許庁

The value of the average roughness Ra of one main surface 10a of the substrate is 0.01 nm or more and 3.0 nm or less.例文帳に追加

また、前記基板の一方の主表面１０ａの平均粗さＲａの値が０．０１ｎｍ以上３．０ｎｍ以下である。 - 特許庁

The metal foil has a surface roughness of ≥2 μm by Ra, and the honeycomb body consists of the metal foil.例文帳に追加

表面粗さがＲａで２μｍ以上であることを特徴とする金属箔、該金属箔により構成されるハニカム体。 - 特許庁

The units 2a, 2b insert the wire 3 above the opening 25 and pass the wire 3 into the materials Ba, Ra gushing out from the opening 25.例文帳に追加

着色ユニット２ａ，２ｂは電線３を開口部２５の上方に通して開口部２５からわき出された着色材Ｂａ，Ｒａ中に通す。 - 特許庁

An RA registration job server 26 generates a pair of user keys and requests an IA job server 31 to issue the electronic certificate.例文帳に追加

そして、ＲＡ登録業務サーバ２６は、利用者鍵ペアを生成するとともにＩＡ業務サーバ３１に電子証明書の発行を依頼する。 - 特許庁

Moreover, a DC/DC switching power supply circuit Rd is inserted between the output terminal of the power supply circuit Ra and the ground.例文帳に追加

また、電源回路Ｒａの出力端と接地との間に、ＤＣ／ＤＣスイッチング電源回路Ｒｄが挿入される。 - 特許庁

The magnets 7 face both side faces of a coil 9 fixed to a coil fixing member 8, respectively, and generate a thrust force Ra by the Lorentz force.例文帳に追加

各磁石７は、コイル固定部材８に固定されたコイル９の両側面に対向し、ローレンツ力によって推進力Ｒａを発生する。 - 特許庁

The current detection circuit 1 includes the current transformer CT, diodes D1, D2, resistors Ra, Rr, an inductor L1, and a detection unit 11.例文帳に追加

電流検出回路１は、カレントトランスＣＴと、ダイオードＤ１、Ｄ２と、抵抗Ｒａ、Ｒｒと、インダクタＬ１と、検出部１１と、を備える。 - 特許庁

To provide a magnetoresistive device having a high giant magnetoresistance (GMR) value and a moderate low resistance area product (RA).例文帳に追加

高い巨大磁気抵抗（ＧＭＲ）値と中程度に低い抵抗面積積（ＲＡ）とを有する磁気抵抗装置を提供する。 - 特許庁

The film thickness T of the resin coating film 4 is 0.05 to 1.0 μm, and the surface roughness Ra of the base 2 is 0.1 to 0.8 μm.例文帳に追加

樹脂塗膜４の膜厚Ｔは０．０５μｍ〜１．０μｍであり、基板２の表面粗さＲａは０．１μｍ〜０．８μｍである。 - 特許庁

The dew point temperature of return air RA and the like may be detected instead of the dew point temperature of the supply air SA.例文帳に追加

なお、給気ＳＡの露点温度ではなく、還気ＲＡの露点温度などを検出するようにしてもよい。 - 特許庁

The operation front case 11 of the operation case 3 has a second annular part 55 which wraps and holds the collar 61 around the rotation axis RA.例文帳に追加

操作筐体３の操作フロントケース１１は、回転軸ＲＡ回りにカラー６１を包んで保持する第２環状部５５を有する。 - 特許庁

The link ID of the record Ra is {nw11, nw12}, and the link ID of the record Rb is {nw98, nw99}.例文帳に追加

レコードＲａのリンクＩＤは、｛ｎｗ１１，ｎｗ１２｝であり、レコードＲｂのリンクＩＤは、｛ｎｗ９８，ｎｗ９９｝であるため、リンクＩＤは不一致である。 - 特許庁

To provide apparatuses and methods for handling timers for RA update procedures or attachment procedures without integrity protection.例文帳に追加

完全性保護のないＲＡ更新手順又はアタッチ手順用のタイマを処理する装置及び方法を提供する。 - 特許庁

The protective glass sheet 2 and the glass substrate 3 preferably have surface roughness Ra of each contact surface side being ≤2.0 nm.例文帳に追加

好ましくは、前記保護ガラス２及び前記基板ガラス３の夫々の接触面側の表面粗さＲａは２．０ｎｍ以下である。 - 特許庁

The cutting tool 2 rotates about a rotation axis RA, and its tip end part has a tapered shape.例文帳に追加

この切削工具２は、その回転軸ＲＡを中心に回転し、その先端部分が先細りな形状を呈している。 - 特許庁

The intermediate transfer belt 14 is configured such that surface roughness is at least Ra=0.08 μm or more and Rz=0.8 μm or more.例文帳に追加

中間転写ベルト１４は、表面の粗さが少なくともＲａ＝０．０８μｍ以上で且つＲｚ＝０．８μｍ以上であるように構成される。 - 特許庁

On a surface of a steel sheet having an arithmetic average roughness Ra of ≤0.3 μm, a coating material is applied by a roll coating method and glazed.例文帳に追加

算術平均粗さＲａが０.３μｍ以下の鋼板の表面に、塗料をロールコート法で塗布し、塗料を焼き付ける。 - 特許庁

Part of the return air RA may be discharged to the outside world and only small amount of part of the outside air OA may be mixed with the supply air SA side.例文帳に追加

なお、還気ＲＡの一部を外界へ排出したり、外気ＯＡの一部を少しだけ給気ＳＡ側に混ぜるようにしたりしてもよい。 - 特許庁

The collecting roller 23 is made of a metal, and has a surface roughness Ra of ≥0.08 μm.例文帳に追加

回収ローラ２３は、材質が金属で、表面粗さがＲａ０．０８μｍ以上の範囲であることを特徴とする。 - 特許庁

The surface roughness Ra of the first main surface of the GaN substrate is set at 20 nm or smaller and that of the second main surface set to 20 μm or smaller.例文帳に追加

ＧａＮ基板の第１の主面の表面粗さＲａを２０ｎｍ以下、第２の主面の表面粗さＲａを２０μｍ以下とする。 - 特許庁

A flatness of the polished glass substrate 15 is 10 μm or less, and a surface roughness (Ra) is set 0.0005-0.05 μm.例文帳に追加

研磨されたガラス基板１５の平面度を１０μｍ以下、且つ表面粗さ（Ｒａ）を０．０００５〜０．０５μｍにする。 - 特許庁