「auxiliary pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The formed auxiliary pattern and the inputted design pattern are thereafter synthesized in an auxiliary pattern synthesizing stage ST05 and the synthesized pattern is outputted as the auxiliary pattern in the next auxiliary pattern output stage ST06.例文帳に追加

次に、補正パターン合成工程ＳＴ０５において、生成された補助パターンと入力された設計パターンとを合成し、次の補正パターン出力工程ＳＴ０６において、補正パターンとして出力する。 - 特許庁

To reduce an error from a target pattern using a main pattern and an auxiliary pattern.例文帳に追加

主パターン及び補助パターンを用いて目標パターンからの誤差を低減する。 - 特許庁

The auxiliary pattern is composed of many unit patterns.例文帳に追加

補助パターンは、多数の単位パターンからなる。 - 特許庁

PATTERN STOPPING OPERATION AUXILIARY DEVICE FOR SLOT MACHINE例文帳に追加

スロットマシンにおける図柄停止操作補助装置 - 特許庁

AUXILIARY AGENT FOR FORMING FINE PATTERN AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

微細パターン形成補助剤及びその製造法 - 特許庁

AUXILIARY TOOL FOR DRAWING FIGURE MODELLING AFTER PAPER PATTERN例文帳に追加

型紙をもとに倣い図形を描くための補助具 - 特許庁

AUXILIARY LIGHT PATTERN PROJECTION DEVICE, CAMERA, AND CAMERA SYSTEM例文帳に追加

補助光パターン投影装置、カメラ、およびカメラシステム - 特許庁

CIRCUIT BOARD HAVING AUXILIARY CIRCUIT PATTERN AND CARD READER例文帳に追加

補助回路パターンを有する回路基板及びカードリーダ - 特許庁

The antenna system includes a coverage antenna 2 with a coverage beam pattern; and an auxiliary antenna 3 with an auxiliary beam pattern.例文帳に追加

アンテナシステムは、カバレッジビームパターンを備えたカバレッジアンテナ２と、補助ビームパターンを備えた補助アンテナ３とを含む。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE, AND METHOD FOR GENERATING WIRING AUXILIARY PATTERN例文帳に追加

半導体装置及び配線補助パターン生成方法 - 特許庁

AUXILIARY PATTERN FORMING METHOD AND AUTOMATIC FORMING METHOD FOR SEMICONDUCTOR MASK LAYOUT PATTERN例文帳に追加

補助パターン生成方法および半導体マスクレイアウトパターンの自動生成方法 - 特許庁

An auxiliary pattern is then so formed that the pattern shape after exposure is nearly equaled to the design pattern with respect to the sorted gate pattern in an auxiliary pattern forming stage ST04.例文帳に追加

次に、補助パターン生成工程ＳＴ０４において、選別されたゲートパターンに対して、露光後のパターン形状が設計パターンとほぼ同等となるように補助パターンを生成する。 - 特許庁

An auxiliary sync pattern 202 is provided in earlier position with the predetermined section than a sync pattern 301.例文帳に追加

シンクパターン３０１よりも所定区間前にシンク補助パターン２０２を設ける。 - 特許庁

Lower layer wiring 11 is provided with an auxiliary pattern 11S in the way of elongation of the pattern.例文帳に追加

下層配線１１は、パターンの伸長途中に補助パターン１１Ｓを設けている。 - 特許庁

The auxiliary electrode pattern 15 of the periphery part is continuous to the lead electrode part 4, and the auxiliary electrode pattern 15a is continuous to the auxiliary electrode pattern of the periphery part through a beltlike conductive pattern 16a.例文帳に追加

外周部の補助電極パターン１５は、引出電極部４に導通し、穴２の回りの補助電極パターン１５ａは、帯状導電パターン１６ａを介して外周部の補助電極パターン１５に導通する。 - 特許庁

To reduce erroneous detection of a sync pattern (a synchronous pattern) at any other position than the true position of sync pattern by recording an auxiliary sync pattern in earlier position with the predetermined section than the sync pattern, detecting the auxiliary sync pattern at the time of reproducing, and limiting an extent to detect the sync pattern based on the detected auxiliary sync pattern.例文帳に追加

シンクパターン（同期パターン）よりも所定区間前にシンク補助パターンを記録しておき、再生時にシンク補助パターンを検出し、検出したシンク補助パターンに基づいてシンクパターンを検出する範囲を制限することで、本来のシンクパターン位置以外でのシンクパターンの誤検出を低減させる。 - 特許庁

The measurement pattern has different pattern pitches and are arranged, decreasing gradually as going toward the auxiliary pattern.例文帳に追加

計測用パターンは異なるパターンピッチを有し、補助パターンに向って順次小さなサイズとなるように配置される。 - 特許庁

The auxiliary coil has a conductive pattern 11b for the auxiliary coil that is arranged on the same surface as the conductive pattern 11a.例文帳に追加

補助巻線は、導体パターン１１ａと同一面上に配置された補助巻線用導体パターン１１ｂを有している。 - 特許庁

This needle-like body is provided with an auxiliary pattern and is characterized in that the height of the auxiliary pattern is higher than the height of a needle.例文帳に追加

本発明の針状体は補助パターンを備え、該補助パターンの高さは針の高さより高いことを特徴とする。 - 特許庁

Alternatively, a photomask includes an auxiliary pattern at a corner portion of a light-blocking portion, and the auxiliary pattern is formed by a zigzag curved line.例文帳に追加

または、遮光部の角部に補助パターンを有し、当該補助パターンはジグザグ状の曲線で構成されるフォトマスクである。 - 特許庁

The width of the auxiliary pattern 13 does not exceed the resolution limit.例文帳に追加

また、上記補助パターン１３の幅が解像限界以下である。 - 特許庁

To project an auxiliary light pattern for focusing on an object.例文帳に追加

被写体に焦点検出用の補助光パターンを投影すること。 - 特許庁

Static electricity is captured by the auxiliary circuit pattern 4 before flying to the circuit component 5 and then discharged through the auxiliary circuit pattern 4 to disappear.例文帳に追加

したがって、静電気は回路部品５に飛ぶ前に補助回路パターン４に飛び、補助回路パターン４にて放電し消滅する。 - 特許庁

Furthermore, auxiliary exposure is not carried out in a region having no main exposure pattern.例文帳に追加

さらに主露光パターンのない領域には補助露光を行なわない。 - 特許庁

An irregular pattern is formed on the outside surface So of the auxiliary belt 2.例文帳に追加

補助ベルト２の外側面Ｓｏには、凹凸模様が形成されている。 - 特許庁

COATING SINTERING AUXILIARY MATERIAL AND METHOD FOR FORMING ELECTRODE PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

被覆焼結助材及びそれを用いた電極パターン形成方法 - 特許庁

At least an auxiliary pattern which corrects line degeneracy by influence in exposure has been added to the mask pattern 12 and the pattern 12 acts effectively in fine element forming pattern resolution.例文帳に追加

マスクパターン１２は、少なくとも露光時の影響によるライン縮退を補正する補助パターンが付加され微細な素子形成パターン解像に有効に働く。 - 特許庁

Microfabrication of the pattern can performed, by doubly exposing the first divided pattern portion and the second divided pattern portion and using the Levenson-type and the auxiliary pattern type together.例文帳に追加

第一分割パターン部と第二分割パターン部を二重露光させ、かつ、レベンソン形と補助パターン形を併用することでパターンを微細化できる。 - 特許庁

The simulation method aims to simulate a pattern to be transferred onto a photoresist film upon exposing the film by using a photomask comprising a main pattern 10 and an auxiliary pattern 12, wherein data prepared by adding a bias to the design dimension of the auxiliary pattern are used as dimension data of the auxiliary pattern.例文帳に追加

主パターン１０と補助パターン１２とが形成されたフォトマスクを用いて露光した際にフォトレジスト膜上に転写されるパターンをシミュレートするシミュレーション方法であって、補助パターンの設計寸法にバイアス値が加えられたデータを補助パターンの寸法のデータとして用いてシミュレーションを行う。 - 特許庁

When a first etching step is performed, the second auxiliary film 112 remains between the first auxiliary patterns 104a and becomes a second auxiliary pattern 112a.例文帳に追加

第１のエッチング工程を実施し、第２補助膜１１２が第１補助パターン１０４ａ間に残留して第２補助パターン１１２ａとなる。 - 特許庁

The auxiliary pattern 103 provided for each channel pattern has the same shape to each other.例文帳に追加

各々のチャネルパターンに対して設けられた補助パターン１０３は、互いに同一形状になっている。 - 特許庁

An auxiliary pattern 12 for dimension measurement is formed near the top end of an objective pattern 11 for measurement.例文帳に追加

測定対象パターン１１の先端部近傍に、寸法測定用の補助パターン１２を形成する。 - 特許庁

During AF processing, an auxiliary light radiation part 38 emits auxiliary light having a predetermined pattern toward the subject.例文帳に追加

ＡＦ処理時に補助光照射部３８が被写体に向けて所定パターンを有する補助光を照射する。 - 特許庁

A target alignment mark is identified based on whether or not an auxiliary pattern exists in an auxiliary pattern region in the four corners of each alignment mark.例文帳に追加

これらの中から、各アライメントマークの４隅に補助パターン領域に補助パターンが存在するか否かに基づいて、ターゲットアライメントマークを識別する。 - 特許庁

It is preferred to change a distance between the pattern 3' corresponding to the line pattern 3 and the auxiliary line patterns 4 in accordance with a line width of the line pattern 3.例文帳に追加

ラインパターン３の線幅に応じて、ラインパターン３に対応するパターン３’と補助ラインパターン４との距離を変えることが好ましい。 - 特許庁

The plotting is started from an auxiliary seal part 23 outside the seal pattern in the closed loop shape and the plotting is ended at the auxiliary seal part 23 different from the auxiliary seal part 23 where the plotting is started.例文帳に追加

閉ループ状シールパターンの外の補助シール部23から描画し始め、かつ描画し始めた補助シール部23と異なる補助シール部23で描画し終わる。 - 特許庁

The auxiliary layer 60 is a negative pattern of the electrode pattern 70 and has a gap g1 around the electrode 71.例文帳に追加

補助層６０は電極パターン７０のネガティブパターンであって、電極７１の周りに隙間ｇ１を有している。 - 特許庁

After the formation of the fine pattern, the auxiliary material 12 is separated from the material 14.例文帳に追加

微細パターンの形成後、被加工材１４から補助材１２を分離させる。 - 特許庁

Instead of the use of the pattern A, an etching mask film is first formed and an auxiliary pattern composed of a pattern L and having a relatively large line width is transferred to the mask film.例文帳に追加

その代わりに、まず、エッチングマスク膜を形成し、そして、パターンＬからなる線幅の比較的大きい補助パターンをその膜に転写する。 - 特許庁

This auxiliary pattern 301 is a pattern for adjusting an exposure amount when transferring the aperture pattern 204 to a photoresist film on a wafer.例文帳に追加

この補助パターン３０１は、ウエハ上のフォトレジスト膜に開口パターン２０４を転写する際の露光光量を調整するためのパターンである。 - 特許庁

By performing an etching process so that the insulating film is left only under the second auxiliary pattern, in the etching process using the silyrated first auxiliary pattern and the second auxiliary pattern as etching masks, the hard mask film is etched to form a hard mask pattern.例文帳に追加

上記絶縁膜が上記第2の補助パターンの下部にのみ残留するようにエッチング工程を行い、上記シリレーションされた第1の補助パターン及び第2の補助パターンをエッチングマスクとして用いるエッチング工程で上記ハードマスク膜をエッチングしてハードマスクパターンを形成する。 - 特許庁

An auxiliary pattern 102 that diffracts exposure light, but is not transferred through the exposure is formed in a side of the main pattern 101 on the transmissive substrate 100, so as to interpose a light-transmitting portion between the auxiliary pattern and the main pattern 101.例文帳に追加

透過性基板１００上における主パターン１０１の側方には、露光光を回折させ且つ露光により転写されない補助パターン１０２が、主パターン１０１との間に透光部を挟むように設けられている。 - 特許庁

A photomask includes an auxiliary pattern at a corner portion of a light-blocking portion, and (k+1) sides (k is a natural number of 3 or more) form k obtuse angles in the auxiliary pattern.例文帳に追加

遮光部の角部に補助パターンを有し、当該補助パターンは、（ｋ＋１）本の辺（ｋは３以上の自然数）でｋ個の鈍角を構成するフォトマスクである。 - 特許庁

To provide an auxiliary pattern forming method and automatic forming method capable of lessening the artificial error of auxiliary pattern formation and shortening production TAT of a photomask.例文帳に追加

補助パターン生成の人為的ミスを軽減し、フォトマスクの製造ＴＡＴを短縮することができる補助パターン生成方法および自動生成方法を提供する。 - 特許庁

The auxiliary illumination part illuminates the object to be measured irradiated with the pattern light.例文帳に追加

補助照明部は、パターン光の照射された測定対象物を照明する。 - 特許庁