「auxiliary pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

The contact 21 may be overlapped on the auxiliary pattern 22 and an element isolation region, whereby a design is optimized taking an occupation area into consideration.例文帳に追加

コンタクト２１は補助パターン２２および素子分離領域に重なっても良く、占有面積を考慮して設計最適化できる。 - 特許庁

To provide an auxiliary performance device of a game machine increasing a taste of a game by providing a moving member moving in the front side of a pattern display device.例文帳に追加

図柄表示装置の前側を移動する移動部材を設け、遊技の興趣を増大し得る遊技機の補助演出装置を提供する。 - 特許庁

A substrate is fixed to the upper portion of the pattern-formed conductive layer, and the material of the auxiliary substrate is removed, thus exposing the sacrifice layer.例文帳に追加

基板を、パターン形成された導電層の上方に固定し、補助基板の材料を除去して、犠牲層を露出させる。 - 特許庁

A leadless sensor 33 converting magnetism to an electric signal is connected to the pattern 37 and fixed to the auxiliary substrate 31.例文帳に追加

磁気を電気信号に変換するリードレスセンサー３３を補助回路パターン３７に接続して補助基板３１に固定する。 - 特許庁

A storage part 5 stores the set password, and an auxiliary password comprising a pattern correlated with the set password.例文帳に追加

記憶部５は、設定パスワードと、設定パスワードに関連付けた図形からなる補助パスワードとを記憶する。 - 特許庁

After patterning of a resist is carried out, wet etching of a laminated metal film aside from a part to become a negative electrode auxiliary wiring pattern 3 is carried out.例文帳に追加

レジストをパターニングした後、陰極補助配線パターン３となる部分以外の積層金属膜をウェットエッチングする。 - 特許庁

The second pattern 300 includes a second auxiliary hole group 330 in a circumference with a second center point 320 as a center.例文帳に追加

第２パターン３００は、第２中心点３２０を中心とする周囲に第２補助孔群３３０を備える。 - 特許庁

The first pattern 200 includes a first auxiliary hole group 230 in a circumference with a first center point 220 as a center.例文帳に追加

第１パターン２００は、第１中心点２２０を中心とする周囲に第１補助孔群２３０を備える。 - 特許庁

An etching object film 102, a hard mask film 104, and first auxiliary patterns are formed on a semiconductor substrate, and silyration process is applied for the auxiliary pattern.例文帳に追加

半導体基板上にエッチング対象膜１０２、ハードマスク膜１０４及び第1の補助パターンを形成し、第1の補助パターンにシリレーション工程を行う。 - 特許庁

With a first conductive film pattern (floating gate film) 205 being exposed between an auxiliary film patterns (silicon nitride film patterns) 207, a second conductive film spacer 209 is formed on side walls of the auxiliary film patterns 207.例文帳に追加

補助膜パターン（シリコン窒化膜パターン）２０７の間に第１導電膜パターン（フローティングゲート膜）２０５が露出した状態で補助膜パターン２０７の側壁に第２導電膜スペーサ２０９を形成する。 - 特許庁

Projections 14a, 14b are formed in the auxiliary patterns 12a, 12b near the end portion of the main pattern 11 to give a larger width than other portion of the auxiliary patterns 12a, 12b.例文帳に追加

主パターン１１の端部に近い補助パターン１２ａ，１２ｂの部分には突起１４ａ，１４ｂが形成され、補助パターン１２ａ，１２ｂの他の部分よりも大きな幅を有している。 - 特許庁

To secure adequate auxiliary capacitance (Cs) and to improve a pixel aperture ratio in a light transmission type flat display apparatus equipped with a conductive layer pattern for forming auxiliary capacitance (Cs).例文帳に追加

補助容量形成用の導電層パターンを備えた光透過型の平面表示装置において、充分な補助容量（Ｃｓ）の確保と、画素開口率の向上とを実現できるものを提供する。 - 特許庁

A stroboscope body 101 includes an infrared light emitting device 133 which irradiates the subject with AF auxiliary light by pattern light projection, and a xenon tube 136 which irradiates the subject with AF auxiliary light by illuminating light projection.例文帳に追加

ストロボ本体１０１は、パターン投光により被写体にＡＦ補助光を照射する赤外発光装置１３３と、照明投光により被写体にＡＦ補助光を照射するキセノン管１３６とを備える。 - 特許庁

The imaging apparatus having an auxiliary light source determines a light emitting pattern which shows on/off of light emission in an auxiliary light source by 1/0, as shown in (a), based on imaging conditions so that a corrected image has proper brightness.例文帳に追加

補助光源を有する撮像装置であって、ぶれ補正後の画像が適切な明るさとなるように撮影条件に基づいて、(a)に示す補助光源における発光のオン／オフを１／０で示す発光パターンを決定する。 - 特許庁

Since a non-magnetic section 9 is formed in a prescribed pattern on an auxiliary recording layer 5, the magnetic recording medium can be provided having a magnetic section 8 of the auxiliary recording layer 5 and a magnetic recording layer 3 directly under the magnetic section as recording units.例文帳に追加

記録補助層５に、非磁性部９を所定のパターンで形成したため、記録補助層５の磁性部８とその直下の磁気記録層３を記録単位とする磁気記録媒体を実現できる。 - 特許庁

The distance between the 2 pieces of slits of the auxiliary slit plate 11 is adjusted by a driving device 15 and the first light line of an interference pattern of diffracted waves obtained by the auxiliary slit plate 11 is controlled on a scanning surface.例文帳に追加

駆動装置１５は、複スリット板１１の２個のスリット間の距離を調整し、複スリット板１１で得られた回析波の干渉縞の最初の明線位置を走査面上で制御する。 - 特許庁

A die 30 is pressed on a laminated body 10 formed by superimposing the workpiece material 14 and the auxiliary material 12, and a fine pattern is formed on the material 14 by causing plastic deformation on the auxiliary material 12.例文帳に追加

被加工材１４と補助材１２とが重ね合わせられた積層体１０に型３０を押し付け、補助材１２を塑性変形させつつ被加工材１４に微細パターンを形成する。 - 特許庁

The method further comprises the steps of heating to sinter the pattern so that the auxiliary material 10 and the resin layers of the particles 22 are decomposed and vanished, the particles in the auxiliary material 10 are melted and the particles in the particles 22 are sintered.例文帳に追加

これを加熱焼結すると、被覆焼結助材１０と被覆電極粒子２２の樹脂層が分解消滅し、被覆焼結助材１０の中にある粒子が溶融し、被覆電極粒子２２の中にある粒子が焼結する。 - 特許庁

An auxiliary line pattern for deciding composition stored in a ROM 37a is superimposed on the picked-up image displayed on the monitor 25 and displayed by an auxiliary line display device.例文帳に追加

また、液晶モニタ２５に表示された撮像画像に重ねて、ＲＯＭ３７ａに記憶された構図決定用の補助線パターンが補助線表示装置によってスーパーインポーズ表示される。 - 特許庁

The main lobe of the auxiliary antenna 4 is controlled by using the complex weight to obtain an auxiliary beam whose shape is similar to the side lobe pattern shape by so-called directivity composition.例文帳に追加

この複素ウェイトを用いて補助アンテナ４のメインローブを制御し、いわば指向性合成により当該サイドローブパターン形状に類似の補助ビームを得る。 - 特許庁

Since simulation is carried out by using the data as the dimension data of the auxiliary pattern prepared by adding a bias to the design dimension of the auxiliary pattern, simulation can be performed with high accuracy and a fitting error can be minimized.例文帳に追加

補助パターンの設計寸法にバイアス値が加えられたデータを補助パターンの寸法のデータとして用いてシミュレーションを行うため、高い精度でシミュレーションを行うことができ、フィッティング誤差を極めて小さくすることが可能となる。 - 特許庁

To provide a photomask having an auxiliary pattern to be used for photolithographic techniques using an exposure light source at a short wavelength such as an excimer laser exposure device, in which phenomena of chipping, peeling or falling in the auxiliary pattern are prevented from occurring.例文帳に追加

エキシマレーザ露光装置などの短波長の露光光源を用いたフォトリソグラフィ技術に使用する補助パターンを設けたフォトマスクにおいて、補助パターンの欠け、剥離、倒れ現象の発生を防止したフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To sufficiently enhance visibility in a road face of a vehicle in front in turning travel, in a vehicular headlight system provided with an auxiliary lamp unit for conducting beam emission using an auxiliary luminous intensity distribution pattern for intensifying lightness in a side end part of a headlamp light distribution pattern.例文帳に追加

ヘッドランプ配光パターンの側端部の明るさを補強する補助配光パターンでビーム照射を行う補助灯具ユニットを備えた車両用前照灯装置において、旋回走行時における車両前方路面の視認性を十分に高める。 - 特許庁

A first auxiliary reflection surface 16 and a second auxiliary reflection surface 17 for forming parts P3, P4 except for a part P1 on a front side of a light distribution pattern LP3 are provided in an area 14 of a second reflection surface 12 for mainly forming the part P1 on the front side of the light distribution pattern LP3.例文帳に追加

配光パターンＬＰ３の手前側の部分Ｐ１を主に形成する第２反射面１２のエリア１４に、配光パターンＬＰ３の手前側の部分Ｐ１以外の部分Ｐ３、Ｐ４を形成する第１補助反射面１６、第２補助反射面１７を設ける。 - 特許庁

Beam emission intensity from the auxiliary lamp unit 18 is regulated by a dimming unit to intensity the blightness of the low-beam light distribution pattern P(L) by the auxiliary luminous intensity distribution pattern Pa of blightness in response to a traveling condition of the vehicle.例文帳に追加

さらに、調光ユニットによって補助灯具ユニット１８のビーム照射強度を調整することにより、車両走行状況に応じた明るさの補助配光パターンＰａでロービーム配光パターンＰ（Ｌ）の明るさを補強可能とする。 - 特許庁

A usage pattern for obtaining a desk-top area communicating with the top plate 8 of the main body of the desk by attaching the auxiliary top plate 7 to the side desk 1 and a usage pattern using the auxiliary top plate 7 as an upper shelf put on the top plate 8 of the main body of the desk removed from the side desk 1 are obtained.例文帳に追加

そして、補助天板７を袖机１に取り付けて机本体の天板に連なる机上領域を得る形態と、補助天板７を袖机１から外して机本体の天板に置いた上棚としての形態とを得る。 - 特許庁

Hole parts 16b, 16c as a 1st pattern for absorbing internal stresses are formed in the auxiliary capacitance upper electrodes 16a, and notched part 13b, 13c as a 2nd pattern not overlapping the hole parts 16b, 16c and the peripheral areas are formed in auxiliary capacitance lower electrodes 13a.例文帳に追加

補助容量上部電極１６ａに内部応力を吸収する第１パターンとしての孔部１６ｂ，１６ｃを形成し、補助容量下部電極１３ａには孔部１６ｂ，１６ｃ及びその周辺領域と重ならない第２パターンとしての切り込み部１３ｂ，１３ｃを形成する。 - 特許庁

Further, the element is manufactured by a method comprising the stages of: (1) manufacturing the transparent substrate, having the transparent conductive film provided with the resist pattern; (2) forming an auxiliary electrode pattern film, by coating the transparent substrate with the transparent conductive film with auxiliary electrode pattern forming paint and drying; and (3) removing the resist pattern part.例文帳に追加

また（１）レジストパターンを施した透明導電膜を有する透明基板を作製する工程、（２）該透明導電膜を有する透明基板上に補助電極パターン形成用塗料を塗布、乾燥して、補助電極パターン被膜を形成する工程、（３）レジストパターン部分を除去する工程からなる方法により製造する。 - 特許庁

Further, the sizes that the round shapes 4 require are held in a database 10 and the size of the round shapes is read out of the database to determine the main mask pattern 2A and an auxiliary mask pattern 2B having round shapes, so decision data regarding the main mask pattern 2A and auxiliary mask pattern 2B having the round shapes can easily be read out and determined in a short period of time.例文帳に追加

また、丸み形状４が必要なサイズを既にデータベース１０として保持し、ここから丸み形状の寸法を読み出して、丸み形状を有する主マスクパターン２Ａと補助マスクパターン２Ｂとを決定するので、丸み形状を有する主マスクパターン２Ａと補助マスクパターン２Ｂとについての判定データを容易にかつ短時間で読み出し、決定することができる。 - 特許庁

In the exposure method where a mask formed with a desired pattern and an auxiliary pattern having dimensions smaller than those of the desired pattern is illuminated and light passed through the masks are projected to a body exposed through a projection optical system, the body is exposed at a position shifted from a best image focusing position when the auxiliary pattern is resolved.例文帳に追加

所望のパターンと、当該所望のパターンよりも寸法が小さな補助パターンとを有するマスクを照明して当該マスクを経た光を投影光学系を介して被露光体に投影し露光する露光方法において、前記補助パターンが解像されてしまう場合に、最良結像フォーカス位置からずれた位置で前記被露光体を露光することを特徴とする露光方法を提供する。 - 特許庁

After elapse of a detection timing delay time td1 corresponding to the predetermined section from the point of the auxiliary sync pattern detection, detection of the sync pattern 301 is executed over a period of a sync pattern detection extent TS1 determined to correspond to a sync pattern length.例文帳に追加

シンク補助パターン検出時点から所定区間に対応した検出タイミング遅延時間ｔｄ１が経過した後に、シンクパターン長に対応して設定したシンクパターン検出範囲ＴＳ１の期間に亘ってシンクパターン３０１の検出を行なう。 - 特許庁

The CS signal determination section 7 receives a pattern of the CS signal pre-provided to an auxiliary capacitance by a CS signal generation section 8, by receiving for instance, information related to the pattern of the CS signal from a user via a reception section 71, and determines the pattern as a pattern based on the received information.例文帳に追加

ＣＳ信号決定部７は、予めＣＳ信号生成部８が補助容量に与えるＣＳ信号のパターンを、例えば、受付部７１でユーザからＣＳ信号のパターンに係る情報を受け付け、受け付けた情報に基づくパターンに決定する。 - 特許庁

In the imprinting mold, an auxiliary pattern is provided outside an uneven pattern region and the distribution of the rough and dense regions of a pattern part is uniformized to uniformize the amount of the pattern material charged in a section.例文帳に追加

本発明のインプリントモールドは凹凸パターン領域外に、補助パターンが設けられていることを特徴とし、パターン部の疎領域と密領域の分布を均一化することで、区画内において充填されるパターン材料の量を均一化することが出来る。 - 特許庁

This mask M used in the proximity exposure device PE includes a mask pattern provided with a main pattern part 81 having a line-like opening, and a transmissive line-like auxiliary pattern part 83 formed in a side of the main pattern part 81 and not resolved after development processing.例文帳に追加

近接露光装置ＰＥで使用されるマスクＭには、ライン状の開口を有する主パターン部８１と、該主パターン部８１の側方に形成され、現像処理後に解像されない透過性でライン状の補助パターン部８３とを備えるマスクパターンが形成されている。 - 特許庁

To improve a visual recognition, by recognizing a part pattern of an embroidery pattern and various auxiliary information using a storage medium in which binary notation data of the embroidery pattern are recorded, and then displaying the embroidery pattern in color.例文帳に追加

刺繍模様の２値表示データが記録された記録媒体を用いて、刺繍模様の部分模様と各種補助情報を識別した上で、刺繍模様のカラー表示処理を行って視認性を高めることができる刺繍模様表示装置を提供する。 - 特許庁

In the pixel layout structure wherein each auxiliary capacitor 25B for B pixels is formed straddling the boundary between two pixels which are adjacent in a horizontal direction, an island-shaped metal pattern 26 is formed as a dummy pattern in a region between pixels of R and G where no auxiliary capacitor 25B is formed, i.e. at a position corresponding to the auxiliary capacitor 25B.例文帳に追加

Ｂ画素用の補助容量２５Ｂが水平方向において隣接する２つの画素間に跨って形成される画素レイアウト構造において、レーザーアニールによるＴＦＴ特性を一定にするために、補助容量２５Ｂが形成されないＲ，Ｇの画素間の領域、即ち補助容量２５Ｂと対応する部位に島状の金属パターン２６をダミーパターンとして形成する。 - 特許庁

An auxiliary light projection part 302 includes a telephoto lens projection member projecting the auxiliary light pattern for focusing on the object at a prescribed magnification and a wide-angle lens projection member projecting the auxiliary light pattern for focusing on the object at a projection magnification higher than that of the telephoto lens projection member.例文帳に追加

補助光投影部３０２は、所定の投影倍率で被写体に焦点検出用の補助光パターンを投影する望遠レンズ用投影部材と、望遠レンズ用投影部材よりも高い投影倍率で被写体に焦点検出用の補助光パターンを投影する広角レンズ用投影部材とを備える。 - 特許庁

Of the transparent auxiliary electrode film having a conductive structure on a transparent film base material, the conductive structure includes a first auxiliary electrode made of a metal pattern having an opening, and a second auxiliary electrode formed at the opening of the first auxiliary electrode.例文帳に追加

透明フィルム基材上に導電性構造を有する透明補助電極フィルムにおいて、該導電性構造が、開口部を有する金属パターンから構成される第１の補助電極と、該第１の補助電極の開口部に形成された第２の補助電極から構成されていることを特徴とする透明補助電極フィルム。 - 特許庁

A wiring structure comprises a wiring pattern 11 (first wiring pattern) formed on the surface of an insulating board 1, and an auxiliary wiring pattern 12 (second wiring pattern) that is formed inside the insulating board 1, corresponding to the portion in which the width of the wiring pattern 11 changes and is electrically connected to the wiring pattern 11 in parallel.例文帳に追加

本発明は、絶縁基板１の表面に形成される配線パターン１１（第１の配線パターン）と、配線パターン１１の幅が変化する部分に対応して絶縁基板１の内部に形成され、配線パターン１１と電気的に並列接続される補助配線パターン１２（第２の配線パターン）とを備える配線構造である。 - 特許庁

The auxiliary pattern 12 is formed into a shape and dimension in such a manner that when the objective pattern 11 is transferred onto a wafer to form a circuit pattern, the circuit pattern can keep its essential functions, as well as the pattern 12 is formed in a position to allow the circuit pattern to keep its essential functions.例文帳に追加

補助パターン１２は、測定対象パターン１１が転写されてウェーハ上に回路パターンが形成されたときに、その回路パターンの本来有すべき機能を維持させるような形状と寸法で形成されるとともに、その回路パターンの本来有すべき機能を維持させるような位置に形成される。 - 特許庁

In a method for making a photomask, a mask pattern 5 is divided into two in the scanning direction of a scanner, and a first division pattern portion 10, consisting of a Levenson type phase shift mask pattern, is formed in one divided region whereas a second division pattern portion 20 consisting of an auxiliary pattern type phase shift mask pattern is formed in the other divided region, thus forming a photomask 1.例文帳に追加

フォトマスク製作工程において、マスクパターン５がスキャナの走査方向で二分割され一方の分割領域にはレベンソン形位相シフトマスクパターンからなる第一分割パターン部１０が、他方の分割領域には補助パターン形位相シフトマスクパターンからなる第二分割パターン部２０が形成されたフォトマスク１が製作される。 - 特許庁

An exposure mask provided with a diffraction grating pattern or an auxiliary pattern comprising a translucent film with a light intensity reducing function is used as an exposure mask.例文帳に追加

露光マスクとして、回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置した露光マスクを用いる。 - 特許庁

An auxiliary film is formed on a side wall of the pattern and etched to form a second etching mask pattern 121a between first etching mask patterns in an automatic alignment manner.例文帳に追加

このパターンの側壁に補助膜を形成し、これをエッチングすることにより、第１のエッチングマスクパターン間に第２のエッチングマスクパターン１２１ａを自動整列方式で形成する。 - 特許庁

A plurality of light emitting diode dies (LED) in which auxiliary optical elements generating a different light distribution pattern, are coupled to generate an effective light source having a desired illuminance pattern.例文帳に追加

異なる光分布パターンを生成する補助光学素子を結合された複数の発光ダイオード・ダイ（ＬＥＤ）が、所望の照度パターンを有する効果的な光源を生成するために組み合せられる。 - 特許庁

The game medium lending device 2 recognizes an image pattern displayed on the display part 12 using the image from the CCD camera, and carries out auxiliary performance corresponding to the pattern.例文帳に追加

遊技媒体貸出装置２は、ＣＣＤカメラからの画像を用いて表示部１２に表示されている画像パターンを認識し、そのパターンに対応する補助的な演出を実行する。 - 特許庁