「auxiliary pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

The photomask has a glass substrate 15, an isolated line pattern 11c disposed on the substrate 15 and an auxiliary pattern 13 of a phase shifter formed near the isolated line pattern 11c.例文帳に追加

本発明に係るフォトマスクは、ガラス基板１５と、該基板１５の上に配置された孤立ラインパターン１１ｃと、該孤立ラインパターン１１ｃの近傍に形成された位相シフタの補助パターン１３と、を具備するものである。 - 特許庁

This auxiliary pattern 301 is a pattern for adjusting an exposure amount when transferring the aperture pattern 204 to a photoresist film on a wafer.例文帳に追加

この補助パターン３０１は、ウエハ上のフォトレジスト膜に開口パターン２０４を転写する際の露光光量を調整するためのパターンである。 - 特許庁

This manufacturing technique forms an auxiliary pattern 301 having a more detailed aperture diameter than an aperture pattern 204 on an absorption layer 203 adjacent to the aperture pattern 204 where a phase failure 211 occurs.例文帳に追加

位相欠陥２１１が生じている開口パターン２０４の近傍の吸収層２０３に、開口パターン２０４よりも微細な開口径を有する補助パターン３０１を形成する。 - 特許庁

The auxiliary pattern 13 comprises a pattern for correcting the optical proximity effect by engraving a specified region of the reticle 11 in such a manner that the pattern is parallel to at least a specified line part.例文帳に追加

ここでは、補助パターン１３は、少なくとも所定ライン部と並行するようにレチクル１１を所定領域掘り込んだ光学近接効果補正用のパターン部である。 - 特許庁

Instead of the use of the pattern A, an etching mask film is first formed and an auxiliary pattern composed of a pattern L and having a relatively large line width is transferred to the mask film.例文帳に追加

その代わりに、まず、エッチングマスク膜を形成し、そして、パターンＬからなる線幅の比較的大きい補助パターンをその膜に転写する。 - 特許庁

It is preferred to change a distance between the pattern 3' corresponding to the line pattern 3 and the auxiliary line patterns 4 in accordance with a line width of the line pattern 3.例文帳に追加

ラインパターン３の線幅に応じて、ラインパターン３に対応するパターン３’と補助ラインパターン４との距離を変えることが好ましい。 - 特許庁

A latent image formed by exposing a resist film 2 is removed through development to form a pattern 3' corresponding to a line pattern 3 and a set of auxiliary line patterns 4 which are parallel to each other on both sides of the pattern 3'.例文帳に追加

レジスト膜２を露光して形成された潜像を現像により除去して、ラインパターン３に対応するパターン３’と、パターン３’の両側に並列する１組の補助ラインパターン４とを形成する。 - 特許庁

A lower limit of an interval between the auxiliary pattern 13 and the isolated line pattern 11c corresponds to a minimum space of a design rule and an upper limit is three times the width of the isolated line pattern 11c.例文帳に追加

また、上記補助パターン１３と上記孤立ラインパターン１１ｃとの間隔は、その下限がデザインルールの最小スペース分であり、その上限が該孤立ラインパターン１１ｃの幅の３倍である。 - 特許庁

By this reflected light L5, an auxiliary light distribution pattern SP1 is distributed between a low beam light distribution pattern LP and an overhead sign light distribution pattern SP2.例文帳に追加

この反射光Ｌ５により、補助配光パターンＳＰ１がすれ違い用配光パターンＬＰとオーバーヘッドサイン用の配光パターンＳＰ２との間に配光される。 - 特許庁

While the second main pattern 12 is stationarily displayed, a second auxiliary pattern 22 is dropped from the upper level part in the display part 124 and passed over the second main pattern 12 to be displayed in the lower level part of the display part 124 (C).例文帳に追加

さらに、第２主図柄１２を停止表示すると共に、第２副図柄２２を、表示部１２４の上段部から落下させ第２主図柄１２上を通過させて、表示部１２４の下段部にて表示する（（Ｃ）参照）。 - 特許庁

As a result, it makes possible that for the recording medium 14 no conventional auxiliary servo pattern is needed at the time of head-positioning with respect to the SSW intermediate pattern 55 such as a multi spiral pattern etc.例文帳に追加

これにより、マルチスパイラルパターン等のＳＳＷ用中間パターン５５に対しヘッド位置決めする際に、記録媒体１４には従来の補助サーボパターンを不要とすることが可能になる。 - 特許庁

While the third main pattern 14 is stationarily displayed, a third auxiliary pattern 24 is dropped from the upper level part of the display part 124 and passed over the third main pattern 14 to be displayed in the lower level part of the display part 124 (D).例文帳に追加

さらに、第３主図柄１４を停止表示すると共に、第３副図柄２４を、表示部１２４の上段部から落下させ第３主図柄１４上を通過させて、表示部１２４の下段部にて表示する（（Ｄ）参照）。 - 特許庁

After the lapse of a predetermined time, the first main pattern 10 is stationarily displayed while a first auxiliary pattern 20 is dropped from an upper level part of the display part 124 and passed over the first main pattern 10 to be displayed in the lower level part of the display part 124 (B).例文帳に追加

所定時間経過後、第1主図柄１０を停止表示すると共に、第1副図柄２０を、表示部１２４の上段部から落下させ第１主図柄１０上を通過させて、表示部１２４の下段部にて表示する（（Ｂ）参照）。 - 特許庁

To provide a vehicle head lamp capable of obtaining an auxiliary light distribution pattern as a spot light distribution pattern overlapping with a predefined basic light distribution pattern unlike conventional vehicle head lamps.例文帳に追加

従来の車両用前照灯は、所定の基本配光パターンに重畳するスポット配光パターンとしての補助配光パターンが得られない。 - 特許庁

An auxiliary pattern board 33 formed with a slit pattern 36 and a pattern 37 for difference in level is set at a position adjacent to a scanning direction to the holding face of a reticle R of a reticle stage 31 of a scanning type exposure device.例文帳に追加

走査型露光装置のレチクルステージ３１のレチクルＲの保持面に対して走査方向に隣接する位置に、スリットパターン３６及び段差用パターン３７が形成された補助パターン板３３を設置する。 - 特許庁

Thereby, the auxiliary pattern which does not electrically affect an area adjacent to the fine pattern is formed in order to prevent the misalignment when forming a contact hole or via hole to make the fine pattern open.例文帳に追加

これにより、微細パターンをオープンさせるためのコンタクトホールまたはビアホールの形成時、ミスアラインメントを防止するために、微細パターンの隣接地域に電気的に影響を及ぼさない補助パターンを形成する。 - 特許庁

Subsequently, the absorption layer 105 is processed in the shape of a main pattern 107 being transferred onto the transferred surface, and an auxiliary pattern 108 not transferred to the transferred surface is formed near the main pattern 107.例文帳に追加

次いで、吸収層１０５を、転写対象面に転写される主パターン１０７の形状に加工した後、主パターン１０７の近傍に、転写対象面に転写されない補助パターン１０８を形成する。 - 特許庁

To provide a design method for mask pattern in which an auxiliary pattern for improving a focal depth of an isolated pattern is arranged, with respect to a mask of performing exposure by using a light source having a direction dependence for resolution.例文帳に追加

解像特性に方向依存性を有する光源を用いて露光を行うマスクについて、孤立パターンの焦点深度を向上させる補助パターンを配置するマスクの設計方法を提供する。 - 特許庁

In the case that a prescribed winning condition is established, a united display control part 113 unites the auxiliary pattern and the incomplete pattern in the middle of movement, changes them to the complete pattern and forms the state of winning.例文帳に追加

合体表示制御部１１３は、所定の当選条件が成立している場合には、移動途中で補助図柄と未完成図柄とを合体させて完成図柄に変化させて、当たりの状態を形成する。 - 特許庁

To enlarge a depth of focus by considering a method for disposing an auxiliary pattern according to the pattern possession density, relating to an exposure mask, a mask pattern correction method and a semiconductor device.例文帳に追加

露光用マスク、マスクパターン補正方法、及び、半導体装置に関し、パターンの占有密度等に応じて補助パターン配置方法を考慮し、焦点深度を拡大する。 - 特許庁

In the touch panel device, linearly formed auxiliary electrodes 5A-5D parallel to respective sides of peripheral electrodes 4A-4D are disposed apart from each other at prescribed distances such that the auxiliary electrodes do not short-circuit, and the peripheral electrodes 4A-4D and the auxiliary electrodes 5A-5D are connected by an ITO pattern 3.例文帳に追加

タッチパネル装置において、周囲電極４Ａ〜４Ｄの各辺に平行で直線状に形成された補助電極５Ａ〜５Ｄを補助電極同士が短絡しないように互いに一定の距離を置いて配置し、前記周囲電極４Ａ〜４Ｄと前記補助電極５Ａ〜５ＤとをＩＴＯパターン３で接続する。 - 特許庁

Further, a housing part 25 is provided at the decoration member 27 to house the auxiliary game apparatus 20 for presenting the game as the auxiliary apparatus of the pattern display device and to house a unit case 21 where the display part 37 of the auxiliary game apparatus 20 is seen from a viewing part 21b from a front side.例文帳に追加

また、前記装飾部材２７に収納部２５を設け、前記図柄表示装置の補助としての遊技演出を行なう補助遊技装置２０を収容すると共に、該補助遊技装置２０の表示部３７を視認部２１ｂから臨ませたユニットケース２１を、該収納部２５に前側から収納する。 - 特許庁

A second wiring pattern for auxiliary detection of X, Y axes is arranged between X, Y-axis detection electrodes and X, Y-axis vibration electrodes.例文帳に追加

Ｘ，Ｙ軸検出電極とＸ，Ｙ軸加振電極との間に、Ｘ，Ｙ軸の補助検出用の第２配線パターンを配置する。 - 特許庁

ELEMENT FOR ELECTROCHROMIC DIMMING GLASS AND ITS MANUFACTURING METHOD, AND AUXILIARY ELECTRODE PATTERN FORMING PAINT COMPOSITION例文帳に追加

エレクトロクロミック調光ガラス用素子、その製造方法ならびに補助電極パターン形成塗料組成物 - 特許庁

The shape of the source and drain electrodes can be adjusted to an optional shape by adjusting the shape of the auxiliary pattern AP2.例文帳に追加

補助パターンＡＰ２の形状を調整することで、ソース・ドレイン電極の形状を任意形状に調整できる。 - 特許庁

An auxiliary pattern 39 softer than a sealing portion 16 after cured is formed along a scheduled cutting line on a large glass substrate.例文帳に追加

大判ガラス基板上に硬化後のシール部16よりも軟質の補助パターン39を割断予定線に沿って形成する。 - 特許庁

A conductive auxiliary plate element 3 is fitted to an antenna element wherein an electrode pattern 2 is formed to a dielectric body 1.例文帳に追加

誘電体１に電極パターン２を形成したアンテナ素子に、導電性の板状補助エレメント３を取り付ける。 - 特許庁

Additionally, near the X-axis vibration electrode and/or Y-axis vibration electrode, the second wiring pattern for auxiliary detection of the Z axis is arranged.例文帳に追加

また、Ｘ軸加振電極および／またはＹ軸加振電極の近傍に、Ｚ軸の補助検出用の第２配線パターンを配置する。 - 特許庁

The auxiliary beam pattern is arranged to perform sidelobe suppression, null steering, null addition, or null-fill.例文帳に追加

補助ビームパターンは、サイドローブの抑制、ヌルステアリング、ヌル付加、又はヌルフィルを実行するように配列される。 - 特許庁

When the pattern is formed on the back surface of the main substrate 1, the auxiliary substrate 9 is separated form the main substrate 1.例文帳に追加

そして、本体基板１の裏面側にパターンが形成されると、本体基板１から補助基板９を剥離する。 - 特許庁

The vehicular headlight device 10 includes a light distribution varying shade 34, an auxiliary shade 36, and a pattern change mechanism 40.例文帳に追加

車両用前照灯装置１０は、配光可変シェード３４と補助シェード３６と、パターン変更機構４０を含む。 - 特許庁

An electrode pattern 70 and an auxiliary layer 60 by ceramic paint are printed on one surface of a ceramic paint layer 51.例文帳に追加

セラミック塗料層５１の一面上に、電極パターン７０と、セラミック塗料による補助層６０とを印刷する。 - 特許庁

The lower part electrode 18 and the thinner auxiliary wiring 20 in film thickness than this are pattern-formed on a flat face of the substrate 10.例文帳に追加

基板１０の平坦面上に、下部電極１８とこれよりも膜厚の薄い補助配線２０とをパターン形成する。 - 特許庁

The side lobe of the major antenna 3 is reduced by subtracting the auxiliary beam obtained as above from the antenna pattern of the major antenna.例文帳に追加

これにより得られた補助ビームを主アンテナのアンテナパターンから減算することにより、主アンテナ３のサイドローブを低減させるようにした。 - 特許庁

The auxiliary display part 49 reports beforehand that a prescribed pattern combination can be established when the reels 11, 12 and 13 stop.例文帳に追加

補助表示部４９はリール１１，１２，１３の停止時に所定の図柄の組合せが成立し得ることを前もって報知するものである。 - 特許庁

To provide an auxiliary agent for forming a fine pattern having preferable filtering property and excellent in avoiding coating defects, development defects and stability over time.例文帳に追加

ろ過性が良好で、塗布欠陥、現像欠陥、経時安定性に優れた微細パターン形成補助剤を提供する。 - 特許庁

Then, between the housings 4A, 4B of the parts and the auxiliary metallic pattern portions 8A, 8B, solders for reinforcements are provided for reinforcing their couplings.例文帳に追加

そして、部品筐体４Ａ、４Ｂと補助金属パターン部８Ａ、８Ｂとの間に補強用の半田を設け、補強する。 - 特許庁

The auxiliary performance means 31A and 31B are controlled with a control signal parallel transmitted from a pattern control means 27.例文帳に追加

補助演出手段３１Ａ，３１Ｂは、図柄制御手段２７からパラレル伝送される制御信号によって制御される。 - 特許庁

The arrangement pitch of the auxiliary patterns 13 is larger than the size thereof, and is smaller than the pitch of the main pattern 11.例文帳に追加

補助パターン１３の配列ピッチが自身のサイズよりも大きく主パターン１１のピッチよりも小さい。 - 特許庁

Large glass substrates are laminated opposing to each other in the sealing portion 16 formed by applying and curing a liquid adhesive in a region including the auxiliary pattern 39.例文帳に追加

補助パターン39を含む領域に液状の接着剤を塗布して硬化させたシール部16にて大判ガラス基板を互いに対向させて貼り合わせる。 - 特許庁

To provide a rotating display body of an auxiliary display device by which positioning and fixing operation of a display body displaying a pattern, etc. can easily be performed.例文帳に追加

図柄等を表示した表示体の位置決めおよび固定作業を容易に行ない得る補助表示装置の回転表示体を提供する。 - 特許庁

To provide an auxiliary tool that can make simple and accurate folding work for paper-cutting, paper-folding and folding a paper pattern of Hawaiian quilt in six and ten.例文帳に追加

切り紙、折り紙、ハワイアンキルトの型紙の、６つ折り、１０折りの折り曲げ作業を簡単、正確にすることを可能にする補助具。 - 特許庁

The imaging apparatus emits light from the auxiliary light source for imaging, according to the light emitting pattern, and obtains a photographic image and information on blur at the time of imaging.例文帳に追加

そして、該発光パターンに従って補助光源を発光させて撮影を行い、その撮影画像および該撮影時のぶれ情報を取得する。 - 特許庁

The detection part detects brightness of the surface of the object to be measured including components of the pattern light and components of illumination due to the auxiliary illumination part.例文帳に追加

検出部は、パターン光の成分と補助照明部による照明の成分とを含む測定対象物の表面の明るさを検出する。 - 特許庁

The development is further carried out to completely remove the auxiliary line patterns 4 to thereby form the line pattern 3.例文帳に追加

現像をさらに進めることにより、補助ラインパターン４を完全に除去してラインパターン３を形成する。 - 特許庁