「auxiliary pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

Pattern position error which occurs in formation of the through hole of a pattern in the membrane 2 is reduced by controlling the length of the long side of the membrane 2 by the second auxiliary reinforcing part 5.例文帳に追加

第２の補助補強部５によりメンブレン２の長辺の長さを制御することにより、メンブレン２にパターンの貫通孔を形成した場合のパターン位置誤差が緩和される。 - 特許庁

The first pattern is projected to an object to be measured T by a projecting device 11, and the second pattern is projected to the object to be measured T by an auxiliary projecting device 12 comprised of a light source 121 of a laser or the like and a half mirror 122.例文帳に追加

第１パターンは投影装置１１により計測対象Ｔに投影され、また第２パターンはレーザーなどの光源１２１およびハーフミラー１２２により成る補助投影装置１２により計測対象Ｔに投影される。 - 特許庁

To provide a projector type headlight can prevent dazzle to an opposite lane and form an auxiliary light distribution pattern at a suitable height against a main light distribution pattern.例文帳に追加

対向車線での眩惑を防止しつつ主配光パターンに対する適切な高さ位置に補助配光パターンを形成することができるプロジェクタ型ヘッドランプを提供する。 - 特許庁

By such a configuration, the next special pattern variable display is started quickly at a special pattern display device 121a after the lapse of the auxiliary game execution time.例文帳に追加

このように構成することで、補助遊技実行時間の経過後、特別図柄表示装置１２１ａにて次回の特別図柄の変動表示を早々に開始することができる。 - 特許庁

The first light-shielding pattern 6 includes a first semi-light-shielding portion 2A and an auxiliary pattern 3 which is arranged within the first semi-light-shielding portion 2A and allows the exposing light to pass through in an opposite phase.例文帳に追加

第１の遮光パターン６は、第１の半遮光部２Ａと、第１の半遮光部２Ａ内に配置され且つ露光光を反対位相で透過させる補助パターン３とを有する。 - 特許庁

For example, strip-like light-shielding regions 14v, 14h are disposed along the center axes 12v, 12h of the rectangular basic pattern 8, respectively, so as to dispose a cross-shaped auxiliary pattern 10.例文帳に追加

例えば、矩形の基本パターン８の中心軸１２ｖ，１２ｈに沿って帯状の遮光領域１４ｖ，１４ｈを配置して、十字型の補助パターン１０を設ける。 - 特許庁

The auxiliary capacitance is provided by a first transparent conductive pattern 39 on a gate insulating film 15 in a lower side of the thick type resin film 5, and a second transparent pattern 19 in a lower layer than the gate insulating film 15.例文帳に追加

補助容量が、厚型樹脂膜５より下層側で、ゲート絶縁膜１５上の第１透明導電パターン３９と、ゲート絶縁膜１５より下層の第２透明導電パターン１９とにより設けられる。 - 特許庁

The pattern film deposition apparatus 100 deposits a film on one side of a substrate 1 by the vacuum vapor deposition by a plurality of times to a predetermined pattern shape, and comprises a main mask 21 and an auxiliary mask 22.例文帳に追加

パターン成膜装置１００は、真空蒸着により基板１の一面に複数回に分けて所定のパターン形状に膜を成膜するものであり、主マスク２１と補助マスク２２を備える。 - 特許庁

To provide a game machine which enables the installation of a large pattern display device and an auxiliary performance device while accomplishing the work of loading or unloading the pattern display device easily and quickly.例文帳に追加

図柄表示装置の着脱作業を容易かつ迅速に行ない得ると共に、大型の図柄表示装置および補助演出装置を設置し得る遊技機を提供する。 - 特許庁

An auxiliary pattern 402 which diffracts exposure light and is not transferred by exposure is provided by the main pattern 401 on the transmissive substrate 400 across a light transmission part.例文帳に追加

透過性基板４００上における主パターン４０１の側方には、露光光を回折させ且つ露光により転写されない補助パターン４０２が、主パターン４０１との間に透光部を挟むように設けられている。 - 特許庁

The photomask includes: a hole pattern group comprising of a plurality of hole patterns which are densely arranged; and an auxiliary pattern arranged near the hole pattern group and correcting an optical proximity effect in two or more of the hole patterns.例文帳に追加

本発明のフォトマスクは、密集して配置された複数のホールパターンからなるホールパターン群と、ホールパターン群に近接して配置され、前記ホールパターンのうち２つ以上の光近接効果を補正する補助パターンを備える。 - 特許庁

A reticle 11 as a photomask is provided with a mask pattern 12 relating to fabrication of elements on a semiconductor wafer as well as with an auxiliary pattern 13 to correct the line degeneration due to at least the influences of exposure, which effectively functions for the pattern resolution for microfabrication of elements.例文帳に追加

フォトマスクとしてのレチクル１１において、半導体ウェハ上への素子形成に関するマスクパターン１２と共に、少なくとも露光時の影響によるライン縮退を補正する補助パターン１３が付加されており、微細な素子形成のためのパターン解像に有効に働く。 - 特許庁

The performance pattern contains the voice based performance pattern which accomplishes the performance for the progress of the games and the results of the games only by the vocal performance and the display based performance pattern in which the vocal performance plays an auxiliary role for the display performance with the weight of the performance on the display performance.例文帳に追加

演出パターンには、音声演出のみで遊技経過や遊技結果の演出が可能な音声主体演出パターンと、表示演出に演出の比重を置き、音声演出が表示演出の補助的な役割を果たす表示主体演出パターンとが含まれる。 - 特許庁

On a first mask 10, a main pattern 11 corresponding to a circuit 31 and a sub-pattern 12 formed of a plurality of auxiliary patterns 13 continuously arranged and having sizes to receive influences of aberration the same as that of the main pattern 11 at the time of exposure are formed.例文帳に追加

第１のマスク１０に、回路部３１に対応の主パターン１１と、露光時に主パターン１１が受ける収差と同じ収差の影響を受けるサイズを各々が有し、連なって配列された複数の補助パターン１３より成る副パターン１２とが形成されている。 - 特許庁

To provide a phase shift mask which suppresses decrease in the intensity of the main peak or generation of a side peak and makes pattern transfer with high accuracy possible while relaxing the dimensional limitation as an auxiliary pattern, and to provide a method for forming a pattern by using the above phase shift mask.例文帳に追加

補助パターンとしての寸法的な制限を緩和しつつ、メインピークの強度低下やサイドピークの発生を抑制して、より高い精度でのパターン転写を可能とする位相シフトマスクおよび該位相シフトマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for correcting data for drawing a mask pattern, which can be generally and practically used by determining the correction amount of an auxiliary pattern as the drawing data so as to improve the squareness of a mask pattern in the manufacture of a photomask employing a drawing apparatus using a charged beam such as an electron beam.例文帳に追加

電子線等の荷電ビームによる描画装置を用いたフォトマスクの製造において、マスクパターンの矩形性を向上させるため、描画データとしての補助パターンの補正量を決定し、汎用性があり実用的なマスクパターンの描画用データ補正方法を提供する。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern is carried out by using a mask having an auxiliary pattern 5 on each side of a butting part 11 of a pair of patterns 2 adjacent to each other and forming a resist pattern having two dissolved patterns in a butted state from the pair of patterns 2.例文帳に追加

隣合う一対のパターン２の突き合わせ部１１の両側に補助パターン５を有するマスクを用いて、一対のパターン２により２つの抜きパターンを突き合わせ状態のレジストパターンを形成するレジストパターン形成方法である。 - 特許庁

Thus, on condition that the variable display control of the special pattern is in a holding state, a long time lag is not generated before starting the next special pattern variable display at the special pattern display device 121a after the lapse of the auxiliary game execution time, and the decline of the savor of the game is suppressed.例文帳に追加

従って、特別図柄の変動表示制御が保留の状態にあることを条件に、補助遊技実行時間の経過後、特別図柄表示装置１２１ａにて次回の特別図柄の変動表示を開始するまでに長いタイムラグが発生することがなく、遊技の興趣の低下を抑制することができる。 - 特許庁

The performance pattern contains the voice based performance pattern which enables the performance for the progress of the games and the results of the games only by the vocal performance and the display based performance pattern in which the vocal performance plays an auxiliary role for the display performance with the weight of the performance on the display performance.例文帳に追加

演出パターンには、音声演出のみで遊技経過や遊技結果の演出が可能な音声主体演出パターンと、表示演出に演出の比重を置き、音声演出が表示演出の補助的な役割を果たす表示主体演出パターンとが含まれる。 - 特許庁

In an area where the second transparent conductive pattern 19 overlaps with the auxiliary capacitance line 12, contact holes 41 and 51 through which the pixel electrode 61 and the first transparent conductive pattern 39 are made conductive are provided and an island shape pattern 35 including a semiconductor layer is provided on the gate insulating film 15.例文帳に追加

第２透明導電パターン１９が補助容量線１２と重なる個所には、画素電極６１と第１透明導電パターン３９とを導通させるコンタクトホール４１，５１が設けられるとともに、ゲート絶縁膜１５上に、半導体層を含む島状パターン３５が設けられる。 - 特許庁

The first auxiliary control part controls a decorative pattern display device 208 to ensure that the period or the amplitude of a swing of the moving image A displayed in the performance display area 208d of the decorative pattern display device 208 differs from the period or the amplitude of the swing mode of a "decoration 7" in the pattern varying and stopping display.例文帳に追加

第１副制御部は、装飾図柄表示装置２０８の演出表示領域２０８ｄに表示される動画像Ａの揺動の周期や振幅が、図柄変動停止表示における「装飾７」の揺動態様の周期や振幅と異なるように、装飾図柄表示装置２０８を制御する。 - 特許庁

The semiconductor testing apparatus 1 has auxiliary pattern generating sections 12a-12d for temporarily storing the test pattern P1 generated by the pattern generation section 11, reading the stored test pattern according to individual test states of the devices to be tested 20a-20d, and outputting it as a test pattern used for the test of the devices to be tested 20a-20d.例文帳に追加

この半導体試験装置１は、パターン発生部１１で発生した試験パターンＰ１を一時的に記憶し、被試験デバイス２０ａ〜２０ｄの個別の試験状況に応じて、記憶した試験パターンを読み出して被試験デバイス２０ａ〜２０ｄの試験に用いる試験パターンとして出力する補助パターン発生部１２ａ〜１２ｄを備えている。 - 特許庁

The photomask includes a reticle 202 formed of a first material through which exposure light can transmit, a first pattern formed on the reticle and formed of a material through which light cannot transmit, a second pattern having a size smaller than the first pattern, and an auxiliary pattern 204 formed to come in contact with the first pattern and formed of a second material different from the first material of the reticle.例文帳に追加

露光が透過し得る第１の物質で形成されたレチクルと、前記レチクル上に形成され、露光が透過し得ない物質で形成された第１のパターン及び前記第１のパターンよりもサイズが小さい第２のパターン及び前記第１のパターンと接するように形成され、前記レチクルの前記第１の物質と異なる第２の物質で形成される補助パターンとを含むことを特徴とする。 - 特許庁

Auxiliary ceramic sheets 112 and 112' are laminated on the ceramic substrate, to cover the respective heat radiation holes and an upper ceramic sheet 117 is laminated so that the part of the pattern electrode and the whole or part of the auxiliary ceramic sheet are exposed.例文帳に追加

セラミック基板上に補助セラミックシート１１２、１１２'を積層して各々の放熱穴を覆い、パターン電極の一部と補助セラミックシートの全部または一部とが露出されるよう上部セラミックシート１１７を積層する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display device allowing a pattern of an auxiliary capacity counter voltage (CS signal) to be changed, in the device providing an auxiliary capacitance corresponding to a pixel with a CS signal that has plural levels of output values and vibrates.例文帳に追加

画素に対応する補助容量に複数のレベルの出力値を有して振動する補助容量対向電圧（ＣＳ信号）を与える液晶表示装置において、ＣＳ信号のパターンを変更することができる液晶表示装置の提供。 - 特許庁

To deposit a stable amount of polishing particles on an auxiliary electrifying means 6 at any time, irrespective of a printed image pattern, regarding a cleanerless system image forming apparatus wherein the polishing particles are deposited on the auxiliary charging means 6 so as to polish an image carrier 2.例文帳に追加

クリーナレスシステムであり、帯電補助手段６に研磨粒子を付着させて像担持体２の研磨を行なわせる画像形成装置において、印字された画像パターンによらず、常に安定した量の研磨粒子を帯電補助手段６に付着させる。 - 特許庁

When the reel is stopped, the auxiliary pattern displaying element 30 is covering the specified symbol Z1 of the reel, and when the reel starts rotating, the auxiliary symbol displaying element 30 moves in the opposite direction from the rotating direction of the reel by its own inertial force, and covers a symbol which is adjacent to the specified symbol Z1.例文帳に追加

リールの停止時では、補助図柄表示体３０はリールの特定の図柄Ｚ１を覆っており、リールが回転を開始すると、自身の慣性力により、リールの回転方向と逆方向へ移動し、特定の図柄Ｚ１に隣接する図柄を覆う。 - 特許庁

It is possible to change flux distribution patterns LP, RP of an auxiliary lamp unit 7 without changing light distribution patterns of main lamp units 5, 6, 22 (for example, flux distribution pattern P for low beam) as it is a device to rotate the auxiliary lamp unit 7 which is different from the main lamp units 5, 6, 22.例文帳に追加

主用ランプユニット５、６、２２と別個の補助用ランプユニット７を回転させるものであるから、主用ランプユニット５、６、２２の配光パターン（たとえば、すれ違い用配光パターンＰ）を変化させずに補助用ランプユニット７の配光パターンＬＰ、ＲＰを変化させることができる。 - 特許庁

The pachinko game machine is provided with a judgment auxiliary area 14, extracts a winning special random number K whenever a game ball passes through this judgment auxiliary area 14 three times, and carries out a pattern generation process once on the basis of the winning special random number K.例文帳に追加

本発明にかかるパチンコ遊技機は、判定補助領域１４を備え、この判定補助領域１４へ遊技球が、三回通過する毎に、当り特別乱数Ｋを抽出し、かかる当り特別乱数Ｋに基づき図柄生成行程を一回実行する構成とした。 - 特許庁

To provide a game machine capable of making visually excellent presentation or the like with a main display means and an auxiliary display means by displaying the relevant information related to the fluctuating display of the prescribed pattern of the main display means on the external auxiliary display means.例文帳に追加

主表示手段の所定図柄の変動表示に関連する関連情報を外部の副表示手段に表示できるようにして、主表示手段と副表示手段とによって視覚的に優れた演出等を行うことができる遊技機を提供する。 - 特許庁

A display controlling means changes patterns for an auxiliary display being displayed on a pattern display device, and at the same time, performs a display-control in such a manner that variation configurations of the patterns for the auxiliary display may be differed depending on the winning/missing by a lottery means (A43 to A44, and A43 to A47).例文帳に追加

表示制御手段は、操作入力手段による操作入力に応じて、図柄表示装置に表示される補助表示用図柄を変化させると共に、抽選手段の当り外れの別に応じて、補助表示用図柄の変化態様を異ならせるように表示制御する（Ａ４３〜Ａ４４、Ａ４３〜Ａ４７）。 - 特許庁

A mushroom structure composed of: a plurality of conductor pieces; and a plurality of through-holes for connecting the respective conductor pieces to a ground conductor formed on the rear surface thereof, is formed on an antenna structure between the main antenna and the auxiliary antenna, so that a coupling amount from the main antenna to the auxiliary antenna is reduced and a radiation pattern of the auxiliary antenna is improved.例文帳に追加

主アンテナと補助アンテナの間のアンテナ構体上に、複数の導体片と、それぞれの導体片と裏面の地導体を接続するスルーホールからなるマッシュルーム構造を形成することで、主アンテナから補助アンテナへの結合量を低減し、補助アンテナの放射パターンを改善する。 - 特許庁

When pieces of expense information of a manufacturing division manufacturing a product and auxiliary divisions providing auxiliary service in regard to manufacture of the product are respectively inputted from an input device 26, a cost calculating server determines a development pattern for developing expenses indicated by the expense information of an auxiliary division side into expenses of a manufacturing division side on the basis of expense information of one or a plurality of predetermined cost elements.例文帳に追加

製品を製造する製造部門及び前記製品の製造につき補助的なサービスを提供する補助部門の費用情報が複数の原価要素につき入力装置２６から夫々入力されると、原価計算サーバは、補助部門側の費用情報にて示される費用を製造部門側の費用に展開するための展開パターンを、所定の一又は複数の原価要素の費用情報に基づいて決定する。 - 特許庁

The coating controller 14 which controls the auxiliary devices 11 included in coating equipment comprising the manual spray gun 10 for coating includes a detecting means 13 for detecting the operation pattern of a trigger 15 of the manual spray gun 10 for coating and a control means 16 for controlling the auxiliary devices 11 based on the operation pattern detected by the detecting means 13.例文帳に追加

塗装用手吹きガン１０を備えて構成される塗装設備に含まれる付随装置１１を制御する塗装制御装置１４であって、塗装用手吹きガン１０のトリガ１５の操作パターンを検知する検知手段１３と、検知手段により検知された操作パターンに基づいて付随装置１１を制御する制御手段１６と、を備える。 - 特許庁

The driver's aid system includes a driver's aid device 5a which causes a display device 4a to display a travel speed pattern which a driver of a test vehicle 6 follows for driving, and a driver's aid auxiliary device 5b which causes an auxiliary display device 4b to display a travel route for performing travel test based on the data for generating a travel speed pattern.例文帳に追加

被試験車両６の運転者が追従して運転するための走行速度パターンを表示装置４ａに表示させるドライバーズエイド装置５ａと、走行速度パターンを作成するデータに基づいて走行試験を行う走行経路を補助表示装置４ｂに表示させるドライバーズエイド補助装置５ｂとを備える。 - 特許庁

A performance control means 180 selectively carries out either a first auxiliary performance helping the display of a first pattern combination or a second auxiliary performance helping the display of a second pattern combination in a specific game in accordance with whether the lottery condition where the special combination is won by the internal lottery is a second lottery condition or a third lottery condition.例文帳に追加

演出制御手段１８０は、内部抽選で特別役が当選した抽選状態が第２抽選状態と第３抽選状態のいずれであるかに応じて、特定遊技において第１図柄組合せが表示されることを補助する第１補助演出と第２図柄組合せが表示されることを補助する第２補助演出のいずれかを選択的に行う。 - 特許庁

In this information recording, updating and storing method for synthesizing recognizable image information 15 having a specific meaning by overlapping an image sheet 3 having an image itself which does not have to have a specific meaning and another auxiliary sheet 6 having an optical pattern, at least either the image of the image sheet or the optical pattern of the auxiliary sheet can be updated.例文帳に追加

それ自体では特定の意味を持たなくてよい画像を有する画像シート３と、他の光学的パターンを有する補助シート６とを重ね合わせることにより、認識可能な特定の意味ある画像情報１５が合成される情報記録保存方法であって、該画像シートの画像と該補助シートの光学的パターンのうち、少なくともいずれかが更新可能であることを特徴とする情報記録更新保存方法。 - 特許庁

A reticle 11 made of a glass substrate as a photomask is provided with a light shielding film pattern 12 relating to formation of elements and integrated circuits on a semiconductor wafer as well as with an auxiliary pattern 13 which corrects degeneracy of lines due to influences of the optical proximity effect during exposure in an isolated pattern P1 in at least a sparse pattern region, as shown in Figures (a) and (b).例文帳に追加

図１（ａ），（ｂ）において、フォトマスクとして、ガラス基板であるレチクル１１に、半導体ウェハ上への素子及び集積回路形成に関する遮光膜パターン１２と共に、少なくとも疎パターン領域における孤立パターンＰ１に、露光時の光近接効果の影響によるライン縮退を補正する補助パターン１３が付加されている。 - 特許庁

A subject to be exposed is exposed by lightning a mask having a pattern of contact holes and an auxiliary pattern smaller than the pattern of contact holes with a light that forms an effective light source having an empty center of non circular shape, and projecting the pattern of contact holes on the subject to be exposed using a projecting optical system.例文帳に追加

コンタクトホールパターンと当該コンタクトホールパターンよりも寸法が小さな補助パターンとを有するマスクを、中央が非円形形状に抜けた有効光源を形成する光で照明し、前記コンタクトホールパターンを投影光学系で被露光体に投影することにより、当該被露光体を露光することを特徴とする露光方法を提供する。 - 特許庁

A photo mask is formed where a diffraction grating pattern or an auxiliary pattern is arranged having a light intensity reduction function comprising a translucent film, or a complicated gate electrode is formed by applying a reticle to a photolithographic process for forming a gate electrode.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルをゲート電極形成用のフォトリソグラフィ工程に適用して複雑なゲート電極を形成する。 - 特許庁

When each character or image is constituted of a plurality of independent portions, respective electrodes formed correspondingly to these portions are electrically connected to form one electrode pattern and a first electrode 21 and an auxiliary electrode 22 are formed on the basis of the electrode pattern.例文帳に追加

文字や画像が各々独立する複数の部位から構成される場合には、それらの部位に対応して設けられるそれぞれの電極が電気的に一つに接続される電極パターンが生成され、その電極パターンに基づいて第一電極２１および補助電極２２が形成される。 - 特許庁

The auxiliary pattern 103 is provided to each channel pattern 101 so that a part apart from the edge 212 of the diffusion layer by a fixed distance of each channel part is expanded in the direction T2 orthogonal to the direction of extension of the channel part.例文帳に追加

補助パターン１０３は、各々のチャネル部の、拡散層の縁部２１２から一定の距離だけ離れた部分を、該チャネル部が延びている方向と直交する方向Ｔ２に広げるように、各々のチャネルパターン１０１に対して設けられている。 - 特許庁

Then, an auxiliary substrate 12 where a second coil pattern for accession of the number of turns of the first coil pattern is deployed at the upper or lower part of the main board 11 and the first and second coil patterns are connected so as to arrange the two coil patterns with the same winding direction serially to a peripheral circuit 10.例文帳に追加

そして、第１コイルパターンの巻数増加用の第２コイルパターンが配設された補助基板１２を主基板１１の上部または下部に配置し、第１、第２コイルパターンを、巻線方向が同じで、周辺回路１０に対して２つのコイルパターンが直列となるように接続する。 - 特許庁

The photomask 10 includes a long main pattern 11 having a dimension equal to or more than the resolution limit of exposure optical conditions and long shaped auxiliary patterns 12a, 12b having a dimension less than the resolution limit of the exposure conditions, extended parallel to the main pattern 11.例文帳に追加

フォトマスク１０は、露光光学条件の解像限界以上の寸法を有する長尺状の主パターン１１と、主パターン１１と平行に延在し、露光光学条件の解像限界未満の寸法を有する長尺状の補助パターン１２ａ，１２ｂとを有する。 - 特許庁

The write wiring pattern W2 and read wiring patterns R1, R2 are formed on a body region 51 of the base insulating layer 41, and the write wiring pattern W1 is formed on an auxiliary region 52 of the base insulating layer 41.例文帳に追加

書込用配線パターンＷ２および読取用配線パターンＲ１，Ｒ２は、ベース絶縁層４１の本体領域５１上に形成され、書込用配線パターンＷ１は、ベース絶縁層４１の補助領域５２上に形成されている。 - 特許庁