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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > auxiliary patternに関連した英語例文

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auxiliary patternの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 401



例文

A basic pattern 8 being a light-transmitting region where a projection image by an exposure device is formed in the size corresponding to the resolution limit is combined with an auxiliary pattern 10 that shields part of the light-transmitting region against light and divides the residual light-transmitting region into a plurality of partial light-transmitting regions 16.例文帳に追加

露光装置による投影像が解像限界に応じた大きさに形成される透光領域である基本パターン8に、透光領域内の一部を遮光して残りの透光領域を複数の部分透光領域16に分割する補助パターン10を合成する。 - 特許庁

This method for imparting letters or a pattern to an incense stick comprises mixing an incense stick material with a colorant having a bright color, forming an incense stick having the bright color, and then adding high heat to the surface of the incense stick to burn organic base materials such as a binder, a burning auxiliary, etc., thus imparting black letters or pattern to the incense stick.例文帳に追加

線香材料に明るい色の着色料を混入して明るい色の線香を形成し、該線香の表面に高熱を加えて線香に含まれる結合材や支燃材などの有機基材を燃焼させることにより、黒い文字又は模様を付することを特徴とする線香に文字や模様を付する。 - 特許庁

Next, the insulation film 110 is removed; in a second etching step, a hard mask pattern is formed by using the first and second auxiliary patterns as an etching mask; and in a third etching step, the etching target film 101 is formed, by using the hard mask pattern as an etching mask.例文帳に追加

続いて絶縁膜110を除去し、第2のエッチング工程で第1,第2補助パターンをエッチングマスクとしてハードマスクパターンを形成し、それをエッチングマスクとして第3のエッチング工程でエッチング対象膜101をエッチングする。 - 特許庁

A third auxiliary reflection surface 18 for forming a part P4 except for the part P2 in a periphery of a lower horizontal cutoff line CL3 of the light distribution pattern LP 3 is provided in an area 15 of the first reflection surface 11 for mainly forming the part P2 in the periphery of the lower horizontal cutoff line CL3 of the light distribution pattern LP3.例文帳に追加

また、配光パターンLP3の下水平カットオフラインCL3付近の部分P2を主に形成する第1反射面11のエリア15に、配光パターンLP3の下水平カットオフラインCL3付近の部分P2以外の部分P4を形成する第3補助反射面18を設ける。 - 特許庁

例文

In a circuit board 2 arranged with circuit components and a circuit pattern, an auxiliary circuit pattern 4 for absorbing static electricity is provided over a specified region, while being earthed, between a circuit component 5 to be protected and the outer part possibly generating static electricity.例文帳に追加

回路部品及び回路パターンを配置してなる回路基板2において、保護しようとする回路部品5と静電気を発生し得る外部との間に、静電気吸収用の補助回路パターン4を所定領域にわたり設け、補助回路パターン4をアースに接続した。 - 特許庁


例文

The method for forming the electrode pattern comprises the steps of mixing the coating sintering auxiliary material 10 with coating electrode particles 22 obtained by coating the metal or the alloy particles with the thermoplastic resin layer to form a developer, and printing a predetermined pattern on the board 20 by using the developer by the electrophotography.例文帳に追加

この被覆焼結助材10と、金属又は合金粒子を熱可塑性樹脂層で被覆した被覆電極粒子22を混ぜて現像剤を作成し、この現像剤を用いてガラス基板20上に所定のパターンを電子写真法で印刷する。 - 特許庁

An auxiliary electrode layer 6 is formed on a lower electrode 3a of a circuit pattern 3 by using conductive paste containing gold, silver or silver-palladium alloy.例文帳に追加

回路パターン3の下部電極3a上に金,銀または銀−パラジウム合金を含有する導電性ペーストを用いて補助電極層6を形成する。 - 特許庁

The conversion circuit 144 converts image data into a lighting pattern for performing the lighting/extinction of the laser per auxiliary pixel into which the pixel of image component was partitioned.例文帳に追加

変換回路144は、画像データを画像構成要素の画素が分割された補助画素単位でレーザの点灯/消灯を行う点灯パターンに変換する。 - 特許庁

The auxiliary pattern is a metal layer formed on the substrate, made of one of an indium tin oxide and molybdenum, and comprises a metal layer formed on the substrate and an insulating film formed on the metal layer.例文帳に追加

補助パターンは、基板上に形成された金属層であり、インジウムスズ酸化物及びモリブデン中の一つからなり、また基板上に形成された金属層及び金属層上に形成された絶縁膜からなる。 - 特許庁

例文

To provide an auxiliary lamp for a headlamp capable of illuminating a wider area than a low-beam distribution pattern without changing an existing headlamp for a vehicle.例文帳に追加

既存の自動車のヘッドランプを変更することなくロービーム配光パターンよりも広い領域を照明することを可能にした前照灯補助ランプを提供する。 - 特許庁

例文

A Gray code pattern 46 is exposed by using a master disk exposure device having a main exposure beam and an auxiliary exposure beam after a photoresist is coated on the master disk.例文帳に追加

原盤上にフォトレジストを塗布した後、主露光ビーム及び補助露光ビームを有する原盤露光装置を用いて、グレーコードパターン46を露光する。 - 特許庁

In a split gate type memory cell utilizing a side wall structure with a silicided gate electrode, an isolated auxiliary pattern 22 is disposed adjacently to a selection gate electrode 12.例文帳に追加

サイドウォール構造を利用し、ゲート電極がシリサイド化されたスプリットゲート型メモリセルにおいて、選択ゲート電極12に隣接して、孤立した補助パターン22を配置する。 - 特許庁

Anisotropic etching is performed on the first gate conductive film to form a selection gate electrode 125 and an auxiliary floating gate electrode on the side wall of the support pattern.例文帳に追加

第1ゲート導電膜を異方性エッチングしてサポートパターンの側壁に選択ゲート電極125及び予備フローティングゲート電極を形成する。 - 特許庁

When connecting the connecting member 77 to the right reel 14 by operating the solenoid 80, when the right reel 74 rotates, the connecting member 77 and the right auxiliary pattern reel 78 rotate by interlocking with rotation of the right reel 14.例文帳に追加

そして、ソレノイド80を作動させ、接続用部材77を右リール74に接続すると、右リール74が回転する際に、右リール74の回転と連動して接続用部材77及び右補助図柄リール78が回転する。 - 特許庁

To sufficiently reduce a probability of pathological pattern generation and to enable a reception apparatus to reproduce auxiliary data as they are when serially transmitting a parallel/digital video signal.例文帳に追加

パラレル・デジタルビデオ信号をシリアル伝送する際に、パソロジカルパターンの発生の確率を十分に下げるとともに、受信装置がそのまま補助データを再生できるようにする。 - 特許庁

When puncturing a skin, the auxiliary pattern comes into contact with the skin in prior to the needle so as to correct the entry direction of the needle to the skin.例文帳に追加

本発明の構成によれば、皮膚に穿刺するとき、針に先立って補助パターンが皮膚に接触するため、補助パターンにより、皮膚に対する針の進入方向を補正することが出来る。 - 特許庁

A plurality of dummy tungsten plug 15D are provided on the auxiliary pattern 11S spaced apart from the tungsten plug 15 and connected with the lower layer wiring 11 but it is electrically open on the upper layer.例文帳に追加

ダミーのタングステンプラグ15Dは、タングステンプラグ15から離れた補助パターン11S上に複数設けられ、下層配線11と結合されるが上層において電気的にはオープンになっている。 - 特許庁

To provide a photographing device detecting a noticed part satisfying a prescribed picture pattern condition from a main picture and photographing an auxiliary picture where the noticed part is contained with an optimum photographing condition.例文帳に追加

主画像から所定の画像パターン条件を満たした注目部位を検出し、注目部位が含まれる副画像を最適な撮影条件で撮影する撮影装置を提供する。 - 特許庁

The electrode layer includes: (i) an earth electrode formed so as to be corresponding to at least one frame region of the substrate; and (ii) an auxiliary electrode formed on the substrate so as to be connected to the earth electrode and having mesh or stripe pattern.例文帳に追加

電極層は、i)基材の少なくとも一枠領域に対応して形成された接地電極と、ii)接地電極と連結するように基材上に形成され、メッシュまたはストライプパターンを有する補助電極とを含む。 - 特許庁

To provide an auxiliary light projector with a simple configuration for projecting an automatic focus detecting pattern of various shapes having a high contrast over a wide range.例文帳に追加

簡単な構成で、広い範囲に高いコントラストを有する種々の形状の自動焦点検出用パターンを投影する補助投影装置を提供すること。 - 特許庁

When a synchronous pattern detecting part 10 detects a unique word included in a data stream outputted from a stream generator 1, the part 10 transmits a detection signal to the effect that the unique word is detected to an auxiliary signal generating part 11.例文帳に追加

同期パターン検出部10は、ストリームジェネレータ1から出力されたデータ列に含まれるユニークワードを検出すると、これを検出した旨を示す検出信号を補助信号生成部11に送る。 - 特許庁

To provide a polymerizable resin composition having sufficient sensitivity to light close to 436 nm, to 408 nm and to 365 nm, capable of forming a film or a pattern having high transmittance, and comprising an auxiliary initiator having low sublimability.例文帳に追加

436nm付近、408nm付近、365nm付近の光に十分な感度をもち、かつ透過率の高い塗膜またはパターンを形成でき、さらに、昇華性の低い開始助剤を含む重合性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

An auxiliary pattern 103 comprising a phase shifter part that transmits exposure light in an inverted phase to the exposure light transmitting the light-transmitting part is formed between the main patterns 111, 112.例文帳に追加

主パターン111及び112間に、透光部を透過する露光光に対して反転位相で露光光を透過させる位相シフター部よりなる補助パターン103が形成されている。 - 特許庁

The computer 12 uses pattern matching to determine whether the face area exists within the set search area or the auxiliary search area.例文帳に追加

コンピュータ12は、設定された探索領域内又は補助探索領域内に顔領域が存在するか否かをパターンマッチングを用いて判定する。 - 特許庁

To provide a method of efficiently determining a position of an auxiliary pattern so that lithography tolerance becomes large, a manufacturing method of a photomask, and a manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

リソグラフィ裕度が大きくなるような補助パターンの位置を効率的に決定することができる方法、フォトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The capacity Cgd between the gate and the drain is adjusted by transistor size and a gate pattern, the auxiliary capacity Ccs is adjusted by Cs area and insulation film thickness and the liquid crystal capacity Clc is adjusted by an electrode area.例文帳に追加

ゲート−ドレイン間容量Cgdはトランジスタサイズやゲートパターンで調整され、補助容量CcsはCs面積や絶縁膜厚で調整され、液晶容量Clcは電極面積で調整される。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory device such as a NAND type flash-memory device or the like capable of preventing occurrence of a short circuit failure between gate electrodes SG even though a dummy contact is formed by an auxiliary pattern.例文帳に追加

補助パターンでダミーコンタクトが形成されてもゲート電極SGとの間で短絡不良が発生するのを防止できるNAND型フラッシュメモリ装置等の半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

Then a resist layer is formed, and a resist pattern is formed inside the outline patterned on the hard mask layer in a shape corresponding to the outline of a main magnetic pole auxiliary layer.例文帳に追加

次に、レジスト層を形成し、ハードマスク層にパターンニングした主磁極の外郭よりも内側に主磁極補助層の外郭に対応した形状にレジストパターンを形成する。 - 特許庁

In another embodiment, an alkali metal oxide is added to the basic glaze as a coloring auxiliary agent, and applying the yo-hen nucleation decorating agent containing titanium dioxide on the surface of the glaze to generate the pattern with lustering nuclei.例文帳に追加

また、基本となる釉薬に発色補助剤としてアルカリ金属酸化物を添加し、該釉薬を施釉した表面に、二酸化チタンを含む曜変核加飾剤を釉薬表面に塗布することにより光彩核の紋様を発生させる。 - 特許庁

A plurality of pattern grooves 7 crossing at right angles with the rear grooves 5 are cut to a depth from the surface of the decoration plate 6 to the rear groove 5 including a part where the intermediate auxiliary material 4 positions.例文帳に追加

裏溝5と直交する複数本の模様溝7を中板補助材4が位置する部分も含めて化粧板6の表面から裏溝5に至る深さまで穿設する。 - 特許庁

An alignment mark and a superposition inspection mark each include a main body mark part 5, and first and second auxiliary pattern parts 6 formed along two opposite side ends of the main body mark part 5.例文帳に追加

アライメントマーク及び重ね合わせ検査マークは各々、本体マーク部5と、この本体マーク部5の相対する2つの側端部それぞれに沿って形成された第1、第2の補助パターン部6とを含む。 - 特許庁

Besides, at AF, the plate 33 is moved in front of the panel 32b so as to perform an operation of emitting AF auxiliary light for illuminating the object OB with a pattern PT.例文帳に追加

また、AF時には、プレート32をパネル32bの前方に移動し、被写体OBをパターンPTで照明するAF補助光を発する動作を行う。 - 特許庁

A pair of auxiliary patterns 102, that diffracts the exposing light but is not transferred by exposure, is formed in both sides of the main pattern 101 on the transmissive substrate.例文帳に追加

透過性基板上における主パターン101の両側に、露光光を回折させ且つ露光により転写されない一対の補助パターン102が設けられている。 - 特許庁

To obtain a semiconductor integrated circuit device which is enhanced in degree of integration or lessened in chip size by a method wherein an upper and a lower auxiliary signal wire are laid out in accordance with a prescribed wiring pattern.例文帳に追加

上下2層の補助信号線を所定の配線パターンで配線することによって、高集積化またはチップサイズの縮小化を図ることができる半導体集積回路装置を提供する。 - 特許庁

In the step for forming the auxiliary pattern 108, a solid solution of the high transmittance/low reflection layer and the low transmittance/high reflection layer is formed by irradiating the reflective layer 102 with an electron beam 204.例文帳に追加

補助パターン108を形成する工程では、反射層102に電子ビーム204を照射して、高透過率・低反射層と低透過率・高反射層の固溶体を形成する。 - 特許庁

Printing data other than auxiliary (reading KANA) printing data is stored in the editing buffer as printing data (one-line printing data) where pattern data of a reduction character size having 16×16 dot constitution in the character generator part is expanded.例文帳に追加

また、補助(ルビ)印字データ以外の印字データはキャラクタジェネレータ部の16×16ドット構成の縮小文字サイズのパターンデータが展開された印字データ(1行印字データ)として編集バッファに格納される。 - 特許庁

The circuit 31 conforming to the main pattern 11 and the mark 32 continued conforming to the auxiliary patterns 13 are formed by photo-etching using the first mask 10.例文帳に追加

第1のマスク10による写真蝕刻を通じ、主パターン11に従う回路部31と、補助パターン13に従って繋がるマーク32とが形成される。 - 特許庁

A pair of auxiliary patterns 102 is provided at both sides of the main pattern 101 on the light transmissive base plate 100, diffracts the exposure light, but is not transferred by the exposure light.例文帳に追加

透過性基板100上における主パターン101の両側に、露光光を回折させ且つ露光により転写されない一対の補助パターン102が設けられている。 - 特許庁

At the non-pattern regions in the membrane region, the auxiliary struts are formed to divide the membrane region into two or more divided membrane regions.例文帳に追加

前記メンブレン領域内の非パターン領域には前記メンブレン領域が複数の分割メンブレン領域に分けられるように補助ストラットが形成されている。 - 特許庁

To provide a mask which has an auxiliary fixture formed at the periphery of the isolated edge of a feature constituting a pattern so as to correct optical proximity effect.例文帳に追加

光学近接効果を補正するために、パターンを構成するフィーチャーの孤立エッジ周辺に補助フィーチャーが形成されたマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a method for creating a mask layout for improving the arrangement accuracy when an auxiliary pattern is formed by using a coherence map method.例文帳に追加

コヒーレンスマップ法を使用して補助パターンを作成する場合に、その配置精度を向上させることが可能なマスクレイアウト作成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an imaging system capable of performing excellent photography even when arrangement of a stroboscope changes and pattern light projection can not be performed to a subject in photography using auxiliary light.例文帳に追加

補助光を使用した撮影に際して、ストロボの配置が変化して被写体にパターン投光をすることができなくなった場合でも、良好な撮影を行うことができる撮像システムを提供する。 - 特許庁

To provide an auxiliary table which can urge even a large processed fabric to move smoothly without increasing its own size and can sew an accurate embroidery pattern.例文帳に追加

大型の加工布であっても、自身の寸法を大型化することなく、加工布の円滑な移動を促し、精度の高い刺繍模様を縫製することができる補助テーブルを提供する。 - 特許庁

The driver's aid auxiliary 5b displays progression of the travel test by changing color of a travel route based on the command value of a travel speed pattern.例文帳に追加

そして、ドライバーズエイド補助装置5bは、走行速度パターンの指令値に基づいて走行経路の色を変化させる等により走行試験の経過状態を表示する。 - 特許庁

To provide an auxiliary cooling device which operates respective atomizer units in water supply equipment at the bare minimum without impairing an atomization pattern preset in each atomizer unit.例文帳に追加

各噴霧ユニットに設定されている噴霧パターンを損なうことなく、必要最小限の給水設備で各噴霧ユニットを稼動させることができる補助冷却装置を提供する。 - 特許庁

Even without any electrical tests (image inspections), conforming/non-conforming articles of the optical semiconductor device can be discriminated and inspected by verifying the amount of deviation between the conductor pattern 9 and an auxiliary conductor 13.例文帳に追加

電気テスト(画像検査)をしなくとも、導体パターン9と補助導体13とのずれ量を確認することにより、光半導体装置の良品・不良品の判別・検査をすることができる。 - 特許庁

At least a part of a position of the photomask which corresponds to the position of the extreme value on the imaging plane is determined as a formation position of the auxiliary pattern.例文帳に追加

前記結像面における前記極値をとる位置に対応する前記フォトマスクにおける位置の少なくとも一部を補助パターンの形成位置とする。 - 特許庁

In the absorptive article 1, the attaching position of the auxiliary absorption device 9 suited to the excretion tendency of the wearing person is easily specified on the basis of the positioning pattern 4.例文帳に追加

吸収性物品1では、着用者の排泄傾向に適合する補助吸収具9の取付位置を位置決めパターン4に基づいて容易に特定することができる。 - 特許庁

On the basis of the game state when starting the pattern combination game stored in the general RAM 37c, a general control CPU 37a selects the auxiliary performance contents from a performance distribution table stored in a general ROM 37b.例文帳に追加

統括制御CPU37aは、統括RAM37cに記憶されている図柄組み合わせゲーム開始時の遊技状態に基づいて、統括ROM37bに記憶されている演出振分テーブルから補助演出内容を選択する。 - 特許庁

例文

A controller 23 of the sharing machine 5 comprises an information input part 27, a mode selection part 63 which can select one pattern 59 out of patterns 59, an arithmetic input auxiliary part 65, and a driving control part 67.例文帳に追加

シャーリングマシン5の制御装置23は、情報入力部27と、複数のパターン59の中から1つのパターン59を選択可能なモード選択部63と、演算入力補助部65と、駆動制御部67と、からなる。 - 特許庁

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