1153万例文収録!

「diffraction line」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索


小窓モード

プレミアム

ログイン
設定

設定

Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > diffraction lineに関連した英語例文

セーフサーチ:オン

不適切な検索結果を除外する

不適切な検索結果を除外しない

セーフサーチについて

diffraction lineの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 149



例文

A filler 3 is filled between the line electrodes 6 and reduces diffraction of the line electrodes 6.例文帳に追加

充填材3は、ライン電極6間に充填され、ライン電極6の回折を低減する。 - 特許庁

The diffraction optical system satisfies the conditional expression 0.005<(ΔNgNs)/2<0.45, where ΔNg is the refraction difference in the diffraction optical surface DM on a g line, and ΔNs is the refraction difference in the diffraction optical surface DM on an s line.例文帳に追加

ΔNgはg線に対する回折光学面DMにおける屈折率差であり、ΔNsはs線に対する回折光学面DMにおける屈折率差である。 - 特許庁

A center line average roughness Ra_a of a diffraction surface 14c of the diffraction grating 14 is set in a predetermined range.例文帳に追加

第1回折格子14の回折面14cの中心線平均粗さRa_aは、所定の範囲に設定されている。 - 特許庁

Beams emitted by a laser array 14 pass through a diffraction grating 12, thereby, are separated into the zero-order diffraction light (real line), the +first-order and -first-order diffraction light (broken line) and form an image on a polygon mirror 20.例文帳に追加

レーザアレイ14にて射出されたビームは回折格子12を通過することによって0次回折光(実線)と+1次および−1次回折光(破線)とに分離されて、ポリゴンミラー20上に結像する。 - 特許庁

例文

That is, the beams which are separated into the zero-order diffraction light (real line), the +first-order and -first-order diffraction light (broken line) by the diffraction grating 12 form an image as a spot of p4 having a diameter larger than that of the spot image-formed by the zero-order diffraction light (real line) on the photoreceptor 28.例文帳に追加

すなわち、回折格子12によって0次回折光(実線)と+1次および−1次回折光(破線)とに分離されたビームが感光体28上で、0次回折光(実線)によって結像するスポットよりも径の大きなp4のスポットとして結像することになる。 - 特許庁


例文

The measured spectra of higher-order diffraction line are converted into the values of the first-order line and are displayed on a display device 13.例文帳に追加

測定された高次回折線のスペクトルを1次線の値に換算し、表示装置13に表示する。 - 特許庁

The lithography device includes a reference diffraction grating set 14 provided in the substrate, the reference diffraction grating set includes two reference diffraction gratings having a first directional line element and one reference diffraction grating having a second directional line element.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、基板中に設けられた基準回折格子セット14を含み、この基準回折格子セットは、第1の方向のラインエレメントを有する2つの基準回折格子および第2の垂直な方向のラインエレメントを有する1つの基準回折格子を含む。 - 特許庁

Light from the document is separated into spectral components by the diffraction grating 421, and they are simultaneously made incident on the R line 51, the G line 52, and the B line 53.例文帳に追加

また、原稿2からの光は回折格子421により分光され、同時にRライン51、Gライン52およびBライン53へ入射する。 - 特許庁

In the quantitative analyzing method of asbestos, the diffraction line intensity of asbestos contained in a sample S to be inspected is calculated and the weight of asbestos is calculated from the diffraction line intensity on the basis of a calibration curve.例文帳に追加

被検試料Sに含まれるアスベストの回折線強度を求め、検量線に基づいてその回折線強度からアスベストの重量を求める定量分析方法である。 - 特許庁

例文

The diffraction grating 8 is formed on a substrate 39 consisting of a rectangular transmission raw material, cutting of the diffraction grating 8 is performed so that at least one side of the substrate and a virtual straight line being a symmetric axis line forming the diffraction grating 8 so as to be line symmetry are made in parallel, and it is manufactured.例文帳に追加

前記回折格子8は、矩形の透光性素材からなる基板39上に形成され、基板の少なくとも1辺と、回折格子8を線対称になるように形成する対称軸線である仮想直線とが、平行になるように切出し製作される。 - 特許庁

例文

To provide an X-ray diffraction device capable of acquiring sufficient diffraction line intensity in ahigh angle domain where the diffraction line intensity is weakened, when the sample quantity is small, and maintaining accurately relative X-ray intensity of a diffraction peak in amiddle angle domain and in alow angle domain where the X-ray irradiation width is widened.例文帳に追加

試料の量が少ない場合に、回折線強度が弱くなる2θ高角度領域で十分な回折線強度を獲得でき、X線照射幅が広くなる2θ中角度領域及び2θ低角度領域において回折ピークの相対X線強度を正しく維持できるX線回折装置を提供する。 - 特許庁

The carbon material is insoluble in an organic solvent and has the highest peak at diffraction angles of 10 to 18° in a range of diffraction angle of 3 to 30° in X-ray diffraction measurement results using the CuKα-line.例文帳に追加

有機溶媒に不溶であり、かつ、CuKα線を使用したX線回折測定結果における回折角3〜30°の範囲内で、最も強いピークが回折角10〜18°の範囲に存在する炭素材料。 - 特許庁

To provide a phase type diffraction element with high quality causing no lattice fringe by irregularity or a disclination line.例文帳に追加

凹凸やディスクリネーションラインによる格子縞のない高品質な位相型回折格子を提供する。 - 特許庁

In most of diffraction grating cells constituting an information recording part, the direction of a line segment defining the outer shape of the cell is differentiated from the direction of an internal diffraction grating.例文帳に追加

情報記録部を構成する殆どの回折格子セルでは、セルの外形を規定する線分の方向と、内部の回折格子の方向が異なるようにする。 - 特許庁

The light receiver comprises: a first line sensor 16_1 that is arranged at a position for receiving a + first-order diffracted light from the diffraction element; and a second line sensor 16_2 that is arranged at a position for receiving a zero-order light from the diffraction element.例文帳に追加

受光器は、回折素子からの+1次回折光を受光する位置に配置された第1ラインセンサ16_1、及び回折素子からの0次光を受光する位置に配置された第2ラインセンサ16_2を有している。 - 特許庁

An intensity component of a diffraction line generated by a specific crystal phase and a specific lattice plane index is separated from other background intensity components by numerical processing by using numerical data of the azimuth distribution of the diffraction line intensity acquired by the measurement processing or a diffraction pattern.例文帳に追加

この測定処理によって得られた回折線強度の方位分布又は回折パターンの数値化データを用い、特定の結晶相と特定の格子面指数によって生じている回折線の強度成分を、数値処理によってそれ以外の背景強度成分から分離する。 - 特許庁

Further, the optimum designed value D of the height of the groove of the diffraction optical element is decided so as to satisfy the achromatic condition with the d-line and g-line.例文帳に追加

更に、回折光学素子の溝の高さの最適設計値Dを、d線とg線とで色消し条件を満足するように決定するようにする。 - 特許庁

Since an image is formed on the surface 15 of the amorphous semiconductor film with line beams 12 of different length, fluctuation in the intensity distribution due to diffraction of a plurality of line beams is eliminated.例文帳に追加

これにより、長さの異なるラインビーム12を非晶質半導体膜面15で結像させ、複数のラインビーム12の回折による強度分布むらを解消する。 - 特許庁

The carrier is characterized by developing one or two main diffraction lines in the ranges ofof 2-14° and 2θ of 14-50° and providing a characteristic diffraction line of anhydrous α-MgCl2 in the X-ray powder diffraction spectrum.例文帳に追加

この担体のX線粉末回折スペクトルには、1つあるいは2つの主要な回折ラインが2〜14°の2θ、及び14〜50の2θの範囲に現れ、無水α−MgCl_2の特徴的な回折ラインが存在することを特徴とする担体。 - 特許庁

A laser beam is adjusted by a diffraction optical element, and the semiconductor layer near a separating schedule line is removed by the laser beam whose diameter is about 30 μm (B).例文帳に追加

回折光学素子でレーザビームを調整しビーム径約30μmで分離予定線付近の半導体層を除去した(B)。 - 特許庁

To constitute a diffraction element having a condensing function line a lens in an optical element which uses an acoustooptic material.例文帳に追加

音響光学材料を用いた光学素子において、レンズのような集光作用を有する回折素子を構成する。 - 特許庁

Furthermore, the grooves of diffraction grating are nonuniform so that the diffracted light in meridian plane is focused substantially on a straight line.例文帳に追加

また、子午面内の回折光がほぼ直線上に結像するように回折格子溝を不等間隔溝とする。 - 特許庁

The carbon electrode includes carbon powder having a wood tar as a raw material and a diffraction line near 2θ=26° and 2θ=44° in a powder X-ray diffraction pattern using CuK_α for a line source as a claim 1.例文帳に追加

本発明の炭素電極は、請求項1として、木タールを原料とし、線源にCuKαを用いた粉末X線回折パターンにおいて、2θ=26°付近と2θ=44°付近に回折線を有する炭素粉末を含有することを特徴とする。 - 特許庁

The diffraction grating is divided into at least four regions by a division line passing approximately the center of the grating and in a tangential direction of the optical disk and by a division line in the radial direction.例文帳に追加

回折格子の略中心を通る光ディスク接線方向の分割線と半径方向の分割線によって、少なくとも4つの領域に分ける。 - 特許庁

In the optical low pass filter 1 as the diffractive optical element having a diffraction grating face 3, at least one side line in the periphery of the optical low pass filter 1 having the diffraction grating has a straight line portion 2 and at least one grating direction of the diffraction grating face makes a certain inclination angle from the above side line.例文帳に追加

本発明は、回折格子面3を有する回折光学素子である光学ローパスフィルタ1において、前記回折格子面を有する光学ローパスフィルタ1の外周の少なくとも1辺に直線形状部2を持ち、前記回折格子面あの少なくとも一方向の格子方向が、その1辺に対してある一定の傾斜角をを有することを特徴とするものである。 - 特許庁

In the case of this plane optical waveguide, the plane optical waveguide is arranged on the position of the optical fiber 1, so that the face thereof becomes parallel to the diffraction grating 2, and the diffraction grating 2 is formed on a straight line part of the core.例文帳に追加

また、平面光導波路の場合は、上記光ファイバの位置に平面光導波路を回折格子と面が平行になるように配置して、そのコアの直線部に回折格子を形成する。 - 特許庁

A mark-off line 2 is provided to the substrate 1 in parallel to a crystal azimuth for performing an OF process by use of an X-ray diffraction instrument.例文帳に追加

この基板1に対し、X線回折装置を用いてOF加工を施す結晶方位に平行なケガキ線2を付ける。 - 特許庁

Stepped surfaces 12a between adjoining ring belts of the diffraction lens structure are so formed as to be inclined with respect to the normal line of the adjoining ring belts.例文帳に追加

回折レンズ構造の輪帯間の段差面12aは、隣接する輪帯の法線に対して傾くよう形成されている。 - 特許庁

To provide diffraction grating for hologram recording which can prevent damage and deterioration of a shielding line and has high durability.例文帳に追加

遮光ラインの損傷や劣化を防止することができ、高い耐久性を備えるホログラム記録用回折格子を提供する。 - 特許庁

In the diffraction grating pattern having a plurality of minute cells each consisting of a diffraction grating composed of grating fringes of curved lines on the surface of a substrate, the profile line which defines the outer form of the cell does not include a horizontal profile line.例文帳に追加

曲線の格子縞により構成される回折格子からなる微小なセルが基板表面に複数配置されて構成される回折格子パターンにおいて、前記セルの外形を規定する輪郭線として、水平な輪郭線を含まないことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an injection molding mold for diffraction optical elements for optical communication which improves shape transferability by smoothing the resin flow in manufacturing the diffraction optical elements for optical communication composed of a resin on which a straight line diffraction gating is formed by injection molding.例文帳に追加

直線状の回折格子が形成された樹脂からなる光通信用の回折光学素子を射出成形により製造する際に、樹脂材の流れを円滑にして形状転写性を向上させる光通信用の回折光学素子の射出成形金型を提供すること。 - 特許庁

This is a catalyst for the fuel cell which contains RuTe_2 as an active component, and the half width of a maximum diffraction peak in a region of diffraction angle 2θ (±0.3) 27° or more and 29° or less by X-ray diffraction method (Cu-Kα line) of RuTe_2 is 1.80° or less.例文帳に追加

活性成分としてRuTe_2を含む触媒であって、RuTe_2のX線回折法(Cu−K_α線)による回折角2θ(±0.3゜)が27゜以上29゜以下の領域における最大回折ピークの半値幅が、1.80゜以下である燃料電池用触媒。 - 特許庁

To microtize an optical transmission line without being subjected to diffraction limit of light and to prevent interference between signals at an intersection.例文帳に追加

光の回折限界に支配されることなく微小化することができ、交差部で信号間の干渉が生じることを防止する。 - 特許庁

The analyzer 23 scans and rotates about the 2θ axis, and the diffraction line divided by the analyzer is detected by the detector 7.例文帳に追加

アナライザ23は2θ軸線を中心として走査回転し、アナライザで分光された回折線が検出器7によって検出される。 - 特許庁

In the diffraction light beam Lc, a focal line L1 is positioned between the hologram element 3 and the light receiving element 5, and a focal line L2 is positioned at a position further than the light receiving element 5 with respect to the hologram element 3.例文帳に追加

回折光Lcはホログラム素子3と受光素子5との間に焦線L1が位置し、かつホログラム素子3に対して受光素子5よりも離れた位置に焦線L2が位置する。 - 特許庁

A division line that divides the diffraction grating into two areas has a step in the direction almost vertical to a groove period structure, the part of the division line in the step has a staircase shape.例文帳に追加

そして、2つの領域に分割する分割線は溝周期構造に対して略垂直な方向に段差があり、その段差間の分割線は階段形状となっている。 - 特許庁

The inclusion of the TiC-based compound is confirmed by that a finding the diffraction line peaks at 2θ=36.2°, 42.3°, and 61.6° by X-ray diffraction method of the obtained Ti-C-based material correspond to (111), (200), and (220) in TiC.例文帳に追加

TiC系化合物の含有は、得られたTi−C系材料のX線回折法による、2θ=36.2°、42.3°、および61.6°の回折線ピークがTiCにおける(111)、(200)、および(220)に対応することにより確認された。 - 特許庁

To provide an excimer laser annealing system for forming a polycrystalline semiconductor film with high uniformity by eliminating beam intensity distribution due to diffraction of line beam.例文帳に追加

ラインビームの回折によるビーム強度分布をなくし、均一性の良い多結晶半導体膜を形成できるエキシマレーザアニール装置を提供する。 - 特許庁

In the diffraction element 2 having a diffraction grating formed on a substrate having a curved surface, the curved surface 3 has an anamorphic shape formed by turning a curved line (I) in a plane about a straight line (II) in the same plane serving as a rotating axis, and gratings 10a of the diffraction grating 10 exist in cross sections orthogonal to the rotation axis.例文帳に追加

曲面の基板に回折格子が形成されている回折素子2において、曲面3は、一平面上に存在する曲線(I) を、同一の一平面上に存在する直線(II)を回転軸として回動させたときに形成されるアナモフィック形状より成り、回折格子10を構成する各々の格子10aは、回転軸と直交する各々の断面内に存在すること。 - 特許庁

In a spectrum analyzer comprising a diffraction grating 7 diffracting incident light and an order dispersing element 4 further dispersing the diffracted light by the grating 7 every diffraction order, the grating 7 is placed in a diffraction face 14 and rotatably with a straight line 16 vertical to an inscribing line of the channel of the grating 7 as an axis.例文帳に追加

入射した光を回折する回折格子7と、回折格子7により回折された光をさらに回折次数毎に分散する次数分散素子4とからなる分光分析装置において、回折格子7は、回折格子7の回折面14内にあり、かつ、回折格子7の溝の刻線に垂直な直線16を軸として、回転可能に設けられている。 - 特許庁

In this X-ray diffraction device, an X-ray radiated from an X-ray source F is regulated by a divergence slit 2 and irradiated to the sample S, and a diffraction line R_2 emitted from the sample S is detected by an X-ray detector 10.例文帳に追加

X線源Fから放射されたX線を発散スリット2によって規制して試料Sに照射し、試料Sから出た回折線R_2をX線検出器10によって検出するX線回折装置である。 - 特許庁

At least one of specified diffraction grating line which is formed by arranging prescribed information as the hidden information into a column of rugged shape is set to have the same L/S ratio as that of the other diffraction grating group and, thereby, a diffractive image without fluctuation or irregularity is obtained.例文帳に追加

隠し情報である所定の情報を一列の凹凸形状としてなる少なくとも一本の特定回折格子線を、他の回折格子線群と同一のL/Sとすることで、そのバラツキやムラのない回折画像を得る。 - 特許庁

A portion of a dividing line defining the focusing diffraction region 33 is formed in a shape which is convex toward the inside from the outside with respect to the center 62 of an incident range on the diffraction element 31 which return light enters.例文帳に追加

フォーカス用回折領域33を規定する分割線の一部は、復路光が入射する回折素子31上の入射範囲の中心62に対して、外方から内方に向けて凸を成す形状に形成される。 - 特許庁

Lithium manganate of which the variation of a half-value width of an essential diffraction line by the X-ray diffraction under a charging condition of 0%-100%, is 25% or less, is used in a positive electrode active material, and amorphous carbon is used in a negative electrode active material.例文帳に追加

正極活物質に充電状態0%乃至100%間のX線回折による主要回折線の半値幅変化を25%以下としたマンガン酸リチウムを用い、負極活物質に非晶質炭素を用いた。 - 特許庁

To provide a mold for injection-molding a diffraction optical element in which the deformation of the edge of a molding by the interference with the diffraction edge of a mold is suppressed even when the molding is cooled and contracted during mold opening in the production of the diffraction optical element made of a resin with a straight line-shaped lattice formed by injection molding.例文帳に追加

直線状の格子が形成された樹脂からなる回折光学素子を射出成形により製造する際に、型開き時に成型品が冷却収縮しても、成型品のエッジが金型の回折エッジと干渉して変形することが抑制される回折光学素子の射出成形金型を提供すること。 - 特許庁

In the Blaze type and transmission type diffraction optical element 101, the normal line of a side wall 131 adjacent to a diffraction surface 132 through which the incident light of the Blase 121 is passed has an inclination so as to be vertical to the center or the center of the gravity of luminous flux which enters into the diffraction surface 132 of the Blaze 121.例文帳に追加

ブレーズ型かつ透過型の回折光学素子101において、ブレーズ121の入射光が通過する回折面132に隣接した側壁131の法線が、当該ブレーズ121の回折面132に入射する光束の中心または重心の方向に対して垂直になるような傾きを有する。 - 特許庁

In this hologram diffraction grating 30 in which a relief diffraction grating 2" is provided in a detailed pattern area in a plane where interference fringes 9" of relief hologram are formed, the diameter of a dot and line width in the detailed pattern area with the relief diffraction grating 2" provided are ≤0. 1 mm and cannot be seen at a normal observation position.例文帳に追加

レリーフホログラムのレリーフ干渉縞9”が形成されている面中の微細パターン領域にレリーフ回折格子2”が設けられてなるホログラム回折格子複合体30であって、レリーフ回折格子2”が設けられている微細パターン領域のドット径及びライン幅が0.1mm以下であり、通常の観察位置では見えない。 - 特許庁

It is more preferable that the center line average roughness Ra75 in the surface of the plating layer is ≤0.8 μm, and the ratio of the diffraction intensityof a ζ phase to the diffraction intensity Iδ_1 of a δ1 phase in the plating layer measured using an X-ray diffraction method is ≤0.1.例文帳に追加

めっき層表面の中心線平均粗さRa75が0.8μm以下であり、X線回折法を用いて測定されためっき層中のζ相の回折強度Iζとδ1相の回折強度Iδ_1との比であるIζ/Iδ_1が0.1以下であることはより好ましい実施態様である。 - 特許庁

Then, detection results obtained by the line sensors 6, 8 are computed and the influence of the diffraction light from the pattern is eliminated for judging the presence of the foreign object.例文帳に追加

そして、ラインセンサ6および8より得た検出結果を演算し、パターンからの回折光の影響を除去して異物の存在を判定する。 - 特許庁

例文

A diffraction line image is provided in the stimulable phophor 2 by omitting a conventional χ-axial rotation to conduct only ϕ-axial rotation, i.e., in-plane rotation of the sample S.例文帳に追加

従来のχ軸回転を省略して、φ軸回転すなわち試料Sの面内回転だけで輝尽性蛍光体2に回折線像が得られる。 - 特許庁




  
Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する
英→日 日→英
こんにちは ゲスト さん

ログイン

Weblio会員(無料)になると

会員登録のメリット検索履歴を保存できる!

会員登録のメリット語彙力診断の実施回数増加!

無料会員に登録する

©2026 GRAS Group, Inc.RSS