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diffraction lineの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 149件
A test light as a pulse signal outputted from an OTDR unit 12 is transmitted through an optical line 30 via a photocoupler 13, reaches an optical waveguide type diffraction grating 23, where the light is reflected, the reflected light returns to the optical line 30 and reaches the OTDR unit 12 via the photocoupler 13.例文帳に追加
OTDR装置12からパルス出力された試験光は光カプラ13を経て光線路30を伝送され光導波路型回折格子23に到達して反射され、その反射光は光線路30を戻り光カプラ13を経てOTDR装置12に到達する。 - 特許庁
The hydraulic alumina has a broad peak top at 2θ=25±5° in a powder X-ray diffraction spectrum at 1.5405Å wave length, and 10-20° half-value width measured by using the base line of the broad peak as a standard.例文帳に追加
この水硬性アルミナは、波長1.5405Åにおける粉末X線回折スペクトルが、2θ=25±5°にブロードなピークの頂点を有し、ブロードなピークのベースラインを基準とした半値幅が10°〜20°である。 - 特許庁
The first rising part of the light intensity distribution on the light receiving face of a line sensor by the Fresnel diffraction of a monochromatic parallel light by an edge of a shielding matter, is approximated by a hyperbolic second function sech(x).例文帳に追加
遮蔽物のエッジによる単色平行光のフレネル回折によるラインセンサの受光面上での光強度分布の最初の立ち上がり部分をハイパボリックセカンド関数sech(x)により近似する。 - 特許庁
The negative collector uses copper or copper alloy wherein the ratio (200)/(111) of the X-ray diffraction intensity on the (200) face of a XRD device having a CuKα line as a ray source to that on the (111) face is from 0.3 to 4.0.例文帳に追加
負極集電体として、CuKα線を線源とするXRD装置による(200)と(111)面のX線回折強度比(200)/(111)が0.3以上、4.0以下の銅または銅合金を用いる。 - 特許庁
The signal processing unit 21 performs cylindrical surface conversion processing 26 and time delay integration processing 27 on the large amount of transmitted diffraction data, and transmits image data of a processing result to a bus 23 by each line data.例文帳に追加
信号処理部21は送られてきた大量の回折線データに対して円筒面変換処理26及び時間遅延積分処理27を行い、処理結果の画像データを1ラインの行データごとにバス23へ伝送する。 - 特許庁
The edge position determined from a light quantity distribution pattern of fresnel diffraction detected by a line sensor is corrected according to the thickness δ of the object in the optical axis direction of monochrome parallel light and detection distance (z).例文帳に追加
ラインセンサにて検出されたフレネル回折の光量分布パターンから求められるエッジ位置を、単色平行光の光軸方向における物体の厚みδ、およびその検出距離zに応じて補正する。 - 特許庁
In order to optimize the energy density distribution, a temporally and spatially uniform distribution having symmetry on both sides of the scribe line direction and avoiding excess energy density is achieved using a diffraction grating type optical element.例文帳に追加
この実現のために前者では回折格子型光学素子を使用してスクライブ線方向の両側で対称性を持つ時間的にも空間的にも一様で過剰なエネルギー密度を避けた分布を実現した。 - 特許庁
A light emitting element 12, a convex lens 14 and a diffraction grating 15 are arranged on a straight line in the horizontal direction relative to an optical recording medium 18, and an imaging device 19 is arranged in the vertical direction relative to the optical recording medium 18 and moreover in the direction orthogonal to the arrangement direction of the light emitting element 12, the convex lens 14 and the diffraction grating 15.例文帳に追加
発光素子12、凸レンズ14及び回折格子15は、光記録媒体18に対して水平方向の一直線上に配置されており、撮像素子19は光記録媒体18に対して垂直方向でかつ、発光素子12、凸レンズ14及び回折格子15の配置方向とは直角方向に配置されている。 - 特許庁
The laser beam machining apparatus includes: a laser beam source 1 for emitting a laser beam LB; an optical element 3 that utilizes diffraction for diffracting the laser beam LB in a direction parallel to a planned cutting line SL; and a condensing lens 4 that condenses, inside a workpiece 10, the laser beam LB diffracted by the optical element 3 utilizing diffraction.例文帳に追加
レーザ光LBを出射するレーザ光源1と、レーザ光LBを割断予定ラインSLに平行な方向に回折させる回折を利用した光学素子3と、回折を利用した光学素子3で回折されたレーザ光LBを加工対象物10の内部に集光する集光レンズ4と、を有することを特徴とするレーザ加工装置。 - 特許庁
A straight line which is made inclined only by a tilt angle β from a tangential direction can be irradiated with a main beam MB and sub-beam SB on optical disk 100 by setting up a reference line SL in a diffraction grating DL in a state inclined only by a tilt angle β from a radial direction.例文帳に追加
回折格子DLにおける基準線SLをラジアル方向から傾斜角度βだけ傾斜させた状態で設置することにより、光ディスク100上においてタンジェンシャル方向から傾斜角度βだけ傾斜させた直線上にメインビームMBとサブビームSBとを照射することができる。 - 特許庁
Irradiated near infrared rays transmit the oleaginous confectionery (or dough for producing it) A and is focused on a line sensor 17 through a condensing lens 14, a slit 15, a diffraction grating 16 to measure optical spectrum date, followed by feeding the optical spectrum data measured to a computer 18 coupled with the sensor 17 to conduct arithmetic processing.例文帳に追加
照射された近赤外線は、油脂性菓子(又は、油脂性菓子生地)Aを透過し、集光レンズ14、スリット15、回折格子16を介してラインセンサ17上に焦点を結ばせ、分光スペクトルデータが計測される。 - 特許庁
A hologram 13 formed on the 1st area and a hologram formed on the 2nd area are formed so as to have different focal points in the plane including the optical axis 9 and the straight line 12, and have different diffraction angles from each other.例文帳に追加
第1領域に形成されたホログラム13と第2領域に形成されたホログラム14は、光軸9と直線12を含む平面内に異なる集光点を有し、各々回折角が異なるように構成されている。 - 特許庁
Especially, the object is considered as two knife edges disposed separately by distance δ in the optical axis direction, multiple fresnel diffraction is considered to occur in these knife edges, the light quantity distribution pattern detected by the line sensor is analyzed.例文帳に追加
特に物体を光軸方向に距離δを隔てて設けられた2枚のナイフエッジと看做し、これらのナイフエッジにおいてフレネル回折が多重に生じたとしてラインセンサにて検出された光量分布パターンを解析する。 - 特許庁
An objective lens 5, an optical element 8 which is a 1/4 wavelength plate, an optical element 7 provided with a polarization diffraction grating 9 including a virtual division line of a track direction of a disk 6 can be driven integrally.例文帳に追加
対物レンズ5と、1/4波長板である光学素子8と、ディスク6のトラック方向の仮想分割線を含む偏光性回折格子9を一部に備える光学素子7とが一体的に駆動できるようになっている。 - 特許庁
The medicine comprises as an effective ingredient a crystal composed of the 1-methylcarbapenem compound represented by formula (I) having a specific main peak in the powder X-ray diffraction obtained by irradiation with the Cu K_α-line.例文帳に追加
銅のK_α線の照射で得られる粉末X線回折において、特定の主ピークを示すことを特徴とする式(I)で表される1−メチルカルバペネム化合物からなる結晶を有効成分として含有する医薬。 - 特許庁
To provide an aligner device that can firstly reduce variation of edge formation positions of patterns formed on an exposure object substrate by suppressing swing of waveform patterns of diffraction images generated in a vicinity of an edge of a mask pattern, and secondly suppress variation of pattern line widths by making sharp of the slopes of waveform patterns of the diffraction images in the vicinity of the edge of the mask pattern.例文帳に追加
第1に、マスクパターンのエッジ付近で生じる回折像の波形パターンのスイングを抑制し、露光対象基板上に形成されるパターンのエッジ形成位置のばらつきを低減することができ、第2に、マスクパターンのエッジ付近における回折像の波形パターンのスロープを急峻化することで、パターン線幅のばらつきを抑えることができるアライナ装置を提供する。 - 特許庁
This nickel electrode for the alkaline storage battery includes a positive electrode containing a positive electrode active material mainly composed of nickel hydroxide, and a compound including at least one of elements among erbium(Er), thulium(Tm), ytterbium(Yb) and ruthenium(Lu), having a diffraction peak with d=88 nm, d=84 nm and d=76 nm in the X-ray diffraction pattern by Kα line of Co.例文帳に追加
正極を水酸化ニッケルを主成分とする正極活物質と、CoのKα線によるX線回折図において、d=88nm、d=84nmおよびd=76nmに回折ピークを有するエルビウム(Er)、ツリウム(Tm)、イッテルビウム(Yb)およびルテチウム(Lu)の中少なくとも一種の元素を含む化合物を含有することを特徴とするアルカリ蓄電池用ニッケル電極とする。 - 特許庁
In the method of forming an image which uses at least a photoreceptor and a toner, the electrophotographic photoreceptor has a photosensitive layer containing oxytitanium phthalocyanine, having the maximum diffraction peak at the Bragg angle (2θ±0.2) 27.3° in X-ray diffraction by CuKα line, and the toner has 3 to 8 μm volume average particle size and 20 mm or lower fluidity index.例文帳に追加
少なくとも感光体及びトナーを用いる画像形成方法において、該電子写真感光体が、CuKα線によるX線回折においてブラッグ角(2θ±0.2)27.3゜に最大回折ピークを有するオキシチタニウムフタロシアニンを含有する感光層を有し、該トナーが体積平均粒径が3〜8μmであり且つ流動性指数が20mm以下であることを特徴とする画像形成方法。 - 特許庁
A hologram element 306a provided in the optical integrated unit having the tracking error detecting function by three beam method is sectioned into first and second regions 601 and 602 having diffraction directions in a direction that the sub-beams 202, 202b are separated, and diffraction grating patterns using respectively one side and the other side of a circular columns being symmetry respect to a boundary line 603 are provided in respective regions.例文帳に追加
3ビーム法によるトラッキング誤差検出機能を有する光集積ユニットに設けられるホログラム素子306aは、サブビーム202a、202bが離間する方向に、回折方向が異なる第1領域601、第2領域602に区分され、各領域には境界線603に関して対称な円弧列のそれぞれ一方及び他方を用いた回折格子パタンが設けられる。 - 特許庁
A straight line waveguide 2 is placed on the plate surface of a substrate 1 and optical axis deflective elements 3 (30, 31) for equivalently changing the optical path length by diffraction to bias a light traveling path toward one side in the traveling direction are placed within the plane of the waveguide 2.例文帳に追加
直線状の導波路2を基板1の板面に設けると共に、光路長を回折作用により等価的に変化させて光の進路を進行方向片側に偏せる光軸偏向要素3(30,31)を導波路2の面内に設ける。 - 特許庁
To provide an optical pickup device with which stable tracking error signals can be obtained without being affected by deviation of a dividing line which occurs when a diffraction grating divided into at least two in the disk tangential direction is mounted.例文帳に追加
ディスク接線方向に対して少なくとも2分割されている回折格子を搭載する場合に発生する分割線ずれの影響を受けず、安定したトラッキング誤差信号を得ることが出来る光ピックアップ装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a technique capable of shortening a processing time when the lattice constant or lattice strain quantity of a crystal is measured and analyzed on the basis of a high-order Laue zone (HOLZ) line appearing in a converged electron beam diffraction (CBED) image.例文帳に追加
収束電子線回折(CBED)像に現れる高次ラウエゾーン(HOLZ)線に基づいて結晶の格子定数又は格子歪み量の測定・解析を行う場合において、処理時間を短縮することができる技術を提供する。 - 特許庁
The hologram element 17 has a plurality of diffraction regions and the light receiving elements (18 to 23) are arranged along an extension line connecting light outgoing positions of the two first and second semiconductor lasers (11, 14) while being separated from the lasers (11, 14) to both sides of the lasers.例文帳に追加
ホログラム素子17は複数の回折領域を有し、受光素子(18〜23)は、第1,第2の半導体レーザ(11,14)と離間して両側に、2つの半導体レーザ(11,14)の光出射位置を結ぶ延長線に沿って配列されている。 - 特許庁
A line sensor 6 detects the component of a P-polarization beam to the surface of the substrate 1 to be inspected in reflection light, scattered light, and diffraction light in the optical axis, where a light reception angle β1 is an acute angle and a difference angle from the beam is less than 30°.例文帳に追加
ラインセンサ6は、受光角β1が鋭角で、かつ、前記ビームとの差角が30°以内となる光軸にて、反射光、散乱光、および回折光中の被検査基板1の表面に対してP偏光の成分を検出する。 - 特許庁
The lithium secondary battery uses a negative electrode carbon material whose degree P1 of graphitization obtained from 11 diffraction line intensity as measured with Cukα rays is 0.3≤P1≤0.8.例文帳に追加
炭素材料で構成されている負極炭素材であって、CuKα線を用いて測定される11回折線強度から求められる黒鉛化度P_1が、0.3≦P_1≦0.8である炭素材料で構成された負極炭素材でリチウム二次電池を構成する。 - 特許庁
An array waveguide diffraction grating element 61C comprises three chips which are a 1st AWG chip 121_1, a 2nd AWG chip 121_2 bonded to the 1st AWG chip 121_1 through a cutting line 63, and a 3rd AWG chip 121_3 bonded to the 2nd AWG chip 121_2 through another cutting line 102.例文帳に追加
アレイ導波路回折格子素子61Cは、第1のAWGチップ121_1と、この第1のAWGチップ121_1と切断線63を介して接着された第2のAWGチップ121_2と、第2のAWGチップ121_2と他の切断線102を介して接着された第3のAWGチップ121_3との3つのチップから構成されている。 - 特許庁
An array waveguide diffraction grating element 61C comprises three chips of; a first AWG chip 121_1; a second AWG chip 121_2 made to adhere to the fist AWG chip 121_1 through a cut line 63; and a third AWG chip 121_3 made to adhere to the second AWG chip 121_2 through another cut line 102.例文帳に追加
アレイ導波路回折格子素子61Cは、第1のAWGチップ121_1と、この第1のAWGチップ121_1と切断線63を介して接着された第2のAWGチップ121_2と、第2のAWGチップ121_2と他の切断線102を介して接着された第3のAWGチップ121_3との3つのチップから構成されている。 - 特許庁
The diffraction grating element for the arrayed waveguide 61C comprises three chips which are a first arrayed waveguide grating chip 121_1, a second arrayed waveguide grating chip 121_2 adhered through the first arrayed waveguide grating chip 121_1 and a cutting line 63, and a third arrayed waveguide grating chip 121_3 adhered through the second arrayed waveguide grating chip 121_2 and other cutting line 102.例文帳に追加
アレイ導波路回折格子素子61Cは、第1のAWGチップ121_1と、この第1のAWGチップ121_1と切断線63を介して接着された第2のAWGチップ121_2と、第2のAWGチップ121_2と他の切断線102を介して接着された第3のAWGチップ121_3との3つのチップから構成されている。 - 特許庁
When measuring the ice concentration in the ice water slurry under a flowing condition in a pipe, ultrasonic oscillators 6, 7 are attached to one side or both sides on a pipe line side face to transmit the ultrasonic waves toward the ice water slurry S by the ultrasonic oscillators, frontward diffraction or rearward diffraction is received, and reception signals thereof are computation-processed to calculate the ice concentration.例文帳に追加
管内を流動状態にある氷水スラリー中の氷濃度をリアルタイムに測定するに際し、超音波振動子6,7を管路側面の一方又は両方に取り付けて、同超音波振動子により氷水スラリーSに向けて超音波を送信するとともに、氷粒による超音波の前方散乱又は後方散乱を受信し、同受信信号を演算処理して氷濃度を算出する。 - 特許庁
A biaxially oriented polyester film comprises a polyester (A) and a polyether imide (B) and has a single glass transition temperature, wherein the diffraction peak of the crystal face in the main chain direction of the biaxially oriented polyester has a half-width in the range of 55-85 degrees in the circumference direction when the film is rotated about its normal line in crystal orientation analysis by diffractometry of wide angle X-ray diffraction.例文帳に追加
ポリエステル(A)とポリエーテルイミド(B)とを含んでなる単一のガラス転移温度を有する二軸配向ポリエステルフィルムであって、広角X線回折のディフラクトメータ法による結晶配向解析で該フィルムをその法線を軸として回転した時に得られる該二軸配向ポリエステル主鎖方向の結晶面の回折ピークの円周方向の半値幅が55〜85度の範囲であることを特徴とする二軸配向ポリエステルフィルム。 - 特許庁
The lithium secondary battery is formed of the negative electrode carbon material, which is formed of carbon material of which a graphitization degree P_1 obtained from 11 diffraction line intensity measured by using a CuKα ray is 0.3≤P_1≤0.8.例文帳に追加
炭素材料で構成されている負極炭素材であって、CuKα線を用いて測定される11回折線強度から求められる黒鉛化度P_1が、0.3≦P_1≦0.8である炭素材料で構成された負極炭素材でリチウム二次電池を構成する。 - 特許庁
The inorganic material is composed of a multiple oxide containing at least cerium and niobium having the maximum peak height originating from niobium oxide which is ≤1/10 of the maximum peak height originating cerium oxide in the X-ray diffraction using CuKα line.例文帳に追加
少なくともセリウムとニオブとを含有する複合酸化物からなり、CuKα線を用いたX線回折分析による酸化ニオブ由来の最高ピーク高さが、酸化セリウム由来の最高ピーク高さの10分の1以下であることを特徴とする無機材料である。 - 特許庁
By having an external resonator mode group moves almost, as it is, within the variation of a minute wavelength which is of about a filter width, by appropriately choosing the spacing between the optical deflecting portion and the diffraction grating, and 60% or more is synchronized, thereby scanning wavelength at high speed can be performed, while maintaining a narrow line width.例文帳に追加
光偏向部と回折格子との間隔を適宜選択することによって外部共振器モード群がフィルタ幅程度の微小な波長の変化内でほぼそのまま移動し、60%以上同期させることによって狭線幅を保ちながら高速で波長を走査できるようにしている。 - 特許庁
Thus, the diffraction grating having a high grating line frequency (e.g. grating lines exceeding 900 per 1 mm for a signal within a wavelength range of 1,550 nm) can be used to diffract the polarized component of the optical signal in both the incidence direction and projection direction.例文帳に追加
こうして、高い格子線周波数(例えば、1550nmの波長範囲内の信号に対して1mm当たり900を超える格子線)を有する回折格子を、入射方向及び出射方向の両方における光信号の偏光成分を回折させるために使用することができる。 - 特許庁
The separation angle of the mirror 51 is 10° and the element 40 is arranged to be inclined by 7.5° by setting a state where incident light is aligned with the normal of a diffraction surface as reference in order to compensate the curve of the beam line on the plotting surface by the separation angle.例文帳に追加
第5の曲面ミラー51の分離角度は10゜であり、この分離角度による描画面上でのビーム列の湾曲を打ち消すため、回折分岐素子40は入射光と回折面の法線とが一致する状態を基準に7.5゜傾いて配置されている。 - 特許庁
The incident angle θ of the X rays R_1 entering a sample S is changed at a predetermined angular velocity at the time measurement and the detected angle 2θ of the diffraction line due to the X-ray detector 10 is changed in the direction reverse to a θ-direction at an angular velocity twice the incident angle θ of X rays.例文帳に追加
試料Sへ入射するX線R_1の入射角度θは測定に際して所定角速度で変化し、X線検出器10による回折線検出角度2θはX線入射角θの2倍の角速度でθ方向と逆方向に変化する。 - 特許庁
When the diffraction angle is at a certain value or above, the angle formed against the normal line of the solar cell increases and the light is totally reflected on the above surface of a silicon thin-film layer (solar cell element 10) or the surface of a transparent plastic film substrate 13 and returns the solar cell element 10.例文帳に追加
この回折角度がある値以上に大きいときには、太陽電池の法線に対する角度が増大し、シリコン薄膜層(太陽電池素子10)の上面あるいは透明プラスチックフィルム基板13の表面において全反射されて太陽電池素子10に戻る。 - 特許庁
The photoelectric conversion element comprises a semiconductor film laminated on a conductive support, with the film having anatase titanium oxide, where a half-power band width of the X-ray diffraction peak of the face measured (101) by using a CuK_α line, is ≤0.39°.例文帳に追加
導電性支持体上に、半導体膜が積層されてなる光電変換素子であって、当該半導体膜がCuK_α線を用いて測定した(101)面のX線回折ピークの半価幅が0.39°以下であるアナターゼ型酸化チタンを含有することを特徴とする光電変換素子。 - 特許庁
An optical detector plane is divided into two with a vertical line in the direction of a recording track, return light from an optical disc 4 is focused on the detector plane so as to be divided into two, and resolution is enhanced as far as within diffraction limitation by taking the difference of light amount irradiated on both sides.例文帳に追加
光検出面を記録トラック方向に垂直な線で2分割し、光ディスク4からの戻り光を上記検出面で2分割されるように結像させ、両面にあたる光量の差をとることにより回折限界内にまでに分解能を向上させる。 - 特許庁
The diffraction grating pattern 5 is provided with: a first cell 10 in which a blazed grating 11 of diffracting incident light Li in the specified direction is formed on substrate surface; and a second cell 20 in which a blazed grating 21 having the grating line direction different from that of the blazed grating 11 of the first cell 10 by about 180° is formed.例文帳に追加
回折格子パターン5は、基材表面に、入射光Liを特定方向に回折するブレーズド格子11が形成された第1セル10と、第1セル10のブレーズド格子11とは、格子線方向が略180度異なるブレーズド格子21が形成された第2セル20とを備えている。 - 特許庁
Each of the rotation angle of the ϕ rotation mechanism 11, the θs rotation arm 42, the θd rotation arm 43 and the 2θχ rotation arm 45 is controlled, based on setups of a swing angle (α), an in-plane rotation (β), and a detection angle (2θ_B) of a diffraction line used in a residual stress measuring method.例文帳に追加
これらφ回転機構11、θs回転アーム42、θd回転アーム43、及び2θχ回転アーム45の各回転角度は、残留応力測定法で用いられるあおり角(α)、試料の面内回転角度(β)、及び回折線の検出角度(2θ_B)の設定に基づいて制御される。 - 特許庁
Each correlation between a normalized light quantity distribution acquired by normalizing an output from the line sensor and an approximate expression acquired by approximating a light quantity distribution pattern by Fresnel diffraction is calculated, respectively, by differentiating a reference position in the approximate expression, and a position where a correlation value is peaked is detected as the edge position of a detection object.例文帳に追加
ラインセンサの出力を正規化処理した正規化光量分布と、前記フレネル回折による光量分布パターンを近似した近似式との相関を該近似式における基準位置を異ならせてそれぞれ計算し、相関値がピークとなる位置を前記被検出体のエッジ位置として検出する。 - 特許庁
An objective lens is made of a material of with Abbe's number for d-line of 95.0 or less, and has a diffraction structure consisting of a plurality of zonal step on at least one surface, and satisfies P_1<P_0<P_2.例文帳に追加
この色収差補正用光学素子3は、550nm以下の波長の光を発生する光源と、d線のアッベ数が95.0以下である材料から形成された対物レンズとの間の光路中に配置される色収差補正用光学素子であって、少なくとも1つの面上に複数の輪帯段差からなる回折構造を有し、P_1<P_0<P_2を満たす。 - 特許庁
The diffractive optical elements 4 also have a diffraction grating pattern formed to provide a constant width of ultraviolet rays on each of an incident surface 41 and an outgoing surface 42 for ultraviolet rays radiated from the plurality of LED modules 1 such that ultraviolet rays radiated to the irradiation object 5 are in a line elongated in the direction of arrangement of the plurality of LED modules 1.例文帳に追加
さらに、回折光学素子4は、照射対象5に照射される紫外線が複数のLEDモジュール1が並んでいる方向に細長くライン状になるように、複数のLEDモジュール1から放射された紫外線の入射面41および出射面42の各面に紫外線の幅を一定にする回折格子パターンが形成されている。 - 特許庁
This is the alkoxylation catalyst containing an Al-Mg oxide complex having 30 amorphous degree or higher calculated by the equation: the amorphous degree =1/M×10-7 (wherein M is crystal grain size of the Al-Mg oxide complex calculated by a Scherrer equation from the diffraction line near 2θ=43° in the X-ray diffractometry).例文帳に追加
式(1):アモルファス化度=1/M×10^-7〔但し、Mは、X線回折分析において、2θ=43度付近の回折線から、Scherrerの式により算出されたAl−Mg酸化物複合体の結晶粒子径を表す〕により算出されたアモルファス化度が30以上の高アモルファス化を有するAl−Mg酸化物複合体を含むアルコキシル化触媒。 - 特許庁
When adjusting the transmission wavelength of the interference filter having a characteristic transmitting a wavelength near a bright line spectrum of a prescribed element, an optical filter 2 which is a measuring object is irradiated with measuring light from a discharge light source 1 using isotope gas of the element, and transmitted light is subjected to wavelength dispersion by a diffraction grating 33 and detected almost simultaneously by a photodetector 34.例文帳に追加
所定の元素の輝線スペクトル付近の波長を透過させる特性を有する干渉フィルタの透過波長を調整するに際し、その元素の同位体ガスを用いた放電光源1からの測定光を測定対象である光学フィルタ2に照射し、その透過光を回折格子33で波長分散させて光検出器34によりほぼ同時に検出する。 - 特許庁
To provide a position analyzing method which enhances the frame rate of an image reader and prevents the calculation precision of a position from decreasing when the position of fluorescent particles or the like smaller than a diffraction limit is calculated using the image data acquired by an optical microscope using an image data acquired by an optical microscope using the image reader for reading an image using a plurality of line sensors or area sensors subjected to binning operation.例文帳に追加
ビニング動作する複数のラインセンサ、あるいは、エリアセンサを用いて画像を読み取る画像読取装置を用いて、光学顕微鏡により取得された画像情報を使用して、回折限界より小さな蛍光粒子等の位置を計算する際に、画像読取装置のフレームレートを向上させ、さらに位置の計算精度を低下させることのない解析方法を提供する。 - 特許庁
The toner includes toner particles consisting of a binder resin and a colorant and fine powder of magnesium oxide, in which the fine powder exhibits an absorption moisture content of a specific range at relative humidity 95% in an adsorption process of its moisture adsorption/desorption isothermal line and has a peak in specific Bragg angle in its CuKα characteristic X-ray diffraction and the half width of the peak is below the specific value.例文帳に追加
結着樹脂および着色剤からなるトナー粒子と酸化マグネシウム微粉末とを含むトナーにおいて、該微粉末が、その水分吸・脱着等温線の吸着過程における相対湿度95%で特定の範囲の吸収水分量を示し、かつそのCuKα特性X線回折における特定のブラッグ角でピークを有し、該ピークの半値幅が特定の値以下である。 - 特許庁
A diffraction grating having a cross type parting line is arranged among a first light source and a second light source which have different wavelengths respectively, an object lens for condensing a luminous flux radiated from the first light source and the second light source onto various optical disks different in disk thickness or the like and recording material, and a photodetector which receives reflected light from the optical disk and detects an electric signal.例文帳に追加
各々波長が異なる第1の光源および第2の光源と第1の光源および第2の光源から放射された光束をディスク厚等や記録材質の異なる種々の光ディスクに集光するための対物レンズと光ディスクからの反射光を受光して電気信号を検出する光検出器の間に十文字型の分割線を有する回折格子を配置する。 - 特許庁
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