「diffraction」に関連した英語例文の一覧と使い方(35ページ目) - Weblio英語例文検索

In the diffraction optical element, in which at least two diffraction grids having a lens work are laminated recessed parts or projected parts at positions without influence on optical performance in each diffraction grid so as to be fittable by the projected parts or the recessed parts.例文帳に追加

レンズ作用を有する少なくとも２つの回折格子が積層された回折光学素子において、前記回折格子の各々の光学性能に影響のない位置に、凸部または凹部が設けられ、前記凸部または凹部で嵌合可能に構成する。 - 特許庁

The objective lens 1 has a diffraction pattern at least on one surface, and in converging light beams from the light sources having different wavelengths onto an information recording surface, the primary diffraction light from the diffraction pattern is used for the reproduction of a plurality of recording media.例文帳に追加

また、対物レンズは少なくとも１つの面に回折パターンを有し、異なる波長の光源からの光束を情報記録面に集光させるとき、複数の記録媒体の再生において、共に前記回折パターンからの１次回折光を用いる。 - 特許庁

The device has a diffractive part where the optical path is bent by diffraction and a non-diffractive part where the optical path is bent by an effect except for diffraction in different regions on one face of the device.例文帳に追加

同一面上の相異なる領域に回折によって光路を曲げる回折部と回折以外の作用で光路を曲げる非回折部を有すること。 - 特許庁

(Co.fcc)≤0.1, where I(Co.hcp) denotes the X-ray diffraction intensity in the (101) face of Co with an hcp structure, and I(Co.fcc) denotes the X-ray diffraction intensity in the (111) face of Co with an fcc structure.例文帳に追加

０≦Ｉ(Co・hcp)／Ｉ(Co・fcc)≦０．１ ここで、Ｉ(Co・hcp)はhcp 構造のＣｏの(101) 面におけるＸ線回折強度で、Ｉ(Co・fcc)はfcc 構造のＣｏの(111) 面におけるＸ線回折強度である。 - 特許庁

When the integrated intensity of X-ray diffraction of a (220) plane on the inner surface of the electrode is I(220) and the integrated intensity of X-ray diffraction of a (111) plane is I(111), the electrode satisfies I(220)/I(111)≥0.41.例文帳に追加

この電極の内面における(220)面のX線回折の積分強度をI(220)、(111)面のX線回折の積分強度をI(111)とするとき、この電極は、I(220)/I(111)≧0.41を満たす。 - 特許庁

As oscillation wavelength of the semiconductor laser 12 shifts toward the long-wavelength side because of the temperature rise, diffraction power of a diffraction structure 13d changes to be increased.例文帳に追加

又、温度上昇により半導体レーザ１２の発振波長が長波長側にシフトするので、回折構造１３ｄの回折パワーが増大するように変化する。 - 特許庁

To suppress variation in oscillation wavelength or coupling constant of diffraction grating in a semiconductor laser device having a diffraction grating without being influenced by variation in carrier concentration of a substrate.例文帳に追加

回折格子を有する半導体レーザ装置において、基板のキャリア濃度のばらつきに左右されることなく、発振波長や回折格子の結合定数の変動を抑える。 - 特許庁

To provide a diffraction optical element which can increase diffraction efficiency and in which coloring can be felt closely to natural light (white) even in the generation of flare light.例文帳に追加

回折効率を上げるとともに、フレア光が発生してもその色合いが自然光（白色）に近く感じることができるようにする回折光学素子を提案する。 - 特許庁

To suppress occurrence of a measurement error when an angle of a light beam irradiated to a diffraction grating changes by facilitating adjustment of an optical system when the diffraction grating is used.例文帳に追加

回折格子を用いる場合に、光学系の調整を容易にして、回折格子に照射される光ビームの角度が変化したときの計測誤差の発生を抑制する。 - 特許庁

A coupling optical system and an objective lens optical system are provided to the optical system for an optical pickup, and a diffraction surface is formed to a diffraction integrated collimator 13 as a coupling optical system.例文帳に追加

光ピックアップ用光学系にカップリング光学系と対物レンズ光学系とを設け、カップリング光学系としての回折一体型コリメータ１３に回折面を形成する。 - 特許庁

Before starting length measurement, a diffraction pattern is obtained from a single crystal part of the specimen to offset the inclined angle of the specimen against a charged particle beam based on the obtained diffraction pattern.例文帳に追加

測長前に、試料の単結晶部分から回折パターンを取得し、取得された回折パターンに基づいて荷電粒子線に対する試料の傾斜角を補正する。 - 特許庁

This micro spectrometer is provided with a light entering part 2, a diffraction grating part 3 for diffracting light from the light entering part 2, and a light receiving part 5 for receiving diffracted light diffracted by the diffraction grating part 3.例文帳に追加

入光部２と、入光部２からの光を回折させる回折格子部３と、回折格子部３による回折光を受光する受光部５とを備える。 - 特許庁

To provide a diffraction element of a low cost having high light utilization efficiency using an isotropic material of a low material cost and an easy manufacturing process and to provide an inexpensive optical pickup device using the diffraction element and having high light utilization efficiency.例文帳に追加

材料コストの安い等方性材料と容易な製造プロセスを用いて、低コストかつ高い光利用効率を有する回折素子を提供する。 - 特許庁

This X-ray imaging element 11 is arranged on a position separated from a diffraction grating for a talbot approximately as long as a talbot distance L, and images an X-ray diffracted by the diffraction grating for the talbot.例文帳に追加

Ｘ線撮像素子１１は、タルボ用回折格子から略タルボ距離Ｌ離れた位置に配置され、タルボ用回折格子によって回折されたＸ線を撮像する。 - 特許庁

To provide an optical element in which diffraction efficiency is high even when it is arranged in a tilt shape to an optical axis and dependence of the diffraction efficiency on a degree of tilt angle is small.例文帳に追加

光軸に対して傾斜状に配置しても回折効率が高くしかも回折効率の傾斜角度に対する依存性の少ない光学素子を提供する。 - 特許庁

The diffraction pitch of the diffraction element 151 is set in such a way as to have approximately the same length as that of the pitch of the interference fringes F1 when the vibrating membrane 14 is in a stationary state.例文帳に追加

また、回折素子１５１の回折ピッチが、振動膜１４が静止状態のときの干渉縞Ｆ１のピッチと略同一の長さとなるように設定する。 - 特許庁

The method of manufacturing the diffraction optical device is performed by calculating an interference fringes pattern using a computer and recording the interference fringes pattern on a recording medium surface to form a master diffraction optical device 10.例文帳に追加

計算機を用いて干渉縞パターンを算出し、この干渉縞パターンを記録媒体面に記録することでマスター回折光学素子１０を形成する。 - 特許庁

To provide a diffraction grating capable of varying the light quantity ratio of zero order diffracted light and higher order diffracted light and to provide a recording and reproducing device using this diffraction grating.例文帳に追加

０次回折光と高次回折光との光量比率が可変できる回折格子の提供および前記回折格子を用いた記録再生装置の提供。 - 特許庁

In the resultant cubical boron nitride sintered compact, the ratio I_220/I_111 of X-ray diffraction intensity I_220 in (220) plane to X-ray diffraction intensity I_111 in (111) plane is ≥0.1.例文帳に追加

得られた立方晶窒化ホウ素焼結体の（２２０）面のＸ線回折強度Ｉ_220と、（１１１）面のＸ線回折強度Ｉ_111との比Ｉ_220／Ｉ_111は０．１以上である。 - 特許庁

To provide an X-ray diffraction measuring instrument equipped with a Debye-Scherrer optical system eliminating the shading due to a conventional analyzer and excellent in resolving power, and a X-ray diffraction measuring method therefor.例文帳に追加

従来のナライザによるけられ（遮蔽）を解消し、分解能に優れたデバイシェラー光学系を備えたＸ線回折測定装置とそのための方法を提供する。 - 特許庁

A fiber formed product has a crystallization peak in the vicinity of an angle (2θ) of diffraction of 6-10° as a result of analysis by X-ray diffraction method and the formed product is composed of a crystallized single-wall carbon nanotube.例文帳に追加

Ｘ線回折法による解析結果、回折角２θ＝６〜１０°付近に結晶化ピークを有する、結晶化した単層カーボンナノチューブからなる繊維成型体。 - 特許庁

A half- width ratio ΔD of a X-ray diffraction peak of Al in the dendrite region, is preferably 0.70 times or less of a half-width ratio ΔD_0 of a X-ray diffraction for a standard sample.例文帳に追加

デンドライト領域のAlのＸ線回析ピーク半価幅率ΔＤが標準試料のＸ線回析ピーク半価幅率ΔＤ_0 の0.70倍以下であることが好ましい。 - 特許庁

To obtain an diffraction element for generating a plurality of beams which have approximately the same diffraction efficiency of ±1st and ±2nd diffracted light beams, and further to obtain an optical head device with which a high speed processing is available.例文帳に追加

±１次および±２次回折光の回折効率がほぼ等しい複数ビーム発生用の回折素子を得て、さらに高速処理の光ヘッド装置を得る。 - 特許庁

To provide a method of producing a diffraction device by which a specified three-dimensional diffraction grating can be formed even in a material having a high melting point (softening point) such as quartz in a short time.例文帳に追加

短時間で石英等の融点（軟化点）の高い材料にも所定の３次元形状の回折格子を形成できる回折素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, a ratio of an X-ray diffraction peak on the surface (001) of fluorocarbon with respect to the X-ray diffraction peak of a surface (002) of the non-fluoride carbon component is 30 or larger and 50 or smaller.例文帳に追加

かつ、フッ化炭素の（００１）面のＸ線回折ピークの、未フッ化の炭素成分の（００２）面のＸ線回折ピークに対する比が３０以上、５０以下である。 - 特許庁

An emission surface 112b of the collimator lens 112 has an integrally formed optical diffraction section 112c converting the laser beam into the laser beam having a dot pattern by diffraction.例文帳に追加

コリメータレンズ１１２の出射面１１２ｂに、レーザ光を回折によりドットパターンを持つレーザ光に変換する光回折部１１２ｃが一体的に形成されている。 - 特許庁

The obtained silicon oxide becomes noncrystalline SiO_x (x<1) which does not show a diffraction peak derived from metal silicon and silicon dioxide in X-ray diffraction measurement.例文帳に追加

得られた珪素酸化物は、Ｘ線回折測定において金属珪素および二酸化珪素に由来する回折ピークを示さない、非結晶質のＳｉＯ_x（ｘ＜１）となる。 - 特許庁

The hologram element has a third diffraction area 3c to generate focusing error signals, and a first and second diffraction areas 3a, 3b to generate tracking error signals.例文帳に追加

ホログラム素子は、フォーカスエラー信号を生成するための第３回折領域３ｃと、トラッキングエラー信号を生成するための第１，第２回折領域３ａ，３ｂとを有する。 - 特許庁

The diffraction lattice surface 6 can produce surface plasmon resonance on the metal film 4 by the incident light diffracted by the diffraction lattice surface 6.例文帳に追加

回折格子面６は、回折格子面６で回折された入射光によって、金属膜４上において、表面プラズモン共鳴を発生させることが可能となっている。 - 特許庁

To provide a method to determine grating parameters by comparing similarity of a measured diffraction spectrum and a plurality of simulated diffraction spectrums in a characteristic region.例文帳に追加

計測された回折スペクトルと特性領域における複数のシミュレートされた回折スペクトルとの類似性を比較して、格子構造パラメータを決定する方法を提供する。 - 特許庁

The diffraction grating has a spatially varying diffraction efficiency which increases or decreases as a function of distance from a reference location (220) at which an incident light beam is received at the grating.例文帳に追加

回折格子は、入射光ビーム（２０１）が格子で受け取られる基準位置（２２０）からの距離の関数として増減する、空間的に変化する回折効率を有する。 - 特許庁

OPTICAL CHIP OF ARRAY WAVEGUIDE DIFFRACTION GRATING TYPE OPTICAL MULTIPLEXING/DEMULTIPLEXING CIRCUIT, WAVEGUIDE SUBSTRATE, AND METHOD OF MANUFACTURING THE OPTICAL CHIP OF ARRAY WAVEGUIDE DIFFRACTION GRATING TYPE OPTICAL MULTIPLEXING/DEMULTIPLEXING CIRCUIT例文帳に追加

アレイ導波路回折格子型光合分波回路の光チップ、導波路基板及びアレイ導波路回折格子型光合分波回路の光チップの製造方法 - 特許庁

To obtain a measuring instrument for array waveguide diffraction grating which can measure the accurate optical path length of an array waveguide diffraction grating to light of 1.5 μm in wavelength.例文帳に追加

アレイ導波回折格子の波長１．５μｍの光に対する正確な光路長を測定することができるアレイ導波回折格子の測定装置を提供する。 - 特許庁

A diffraction type lens surface is formed on a plurality of surfaces of the fθ lens, so that the wavelength dependency of a refraction type lens is cancelled by the wavelength dependency of a diffraction type lens.例文帳に追加

ｆθレンズの複数の面に、回折型レンズ面を作製し、回折型レンズの波長依存性によって屈折型レンズの波長依存性を打ち消すようにした。 - 特許庁

METHOD AND DEVICE OF MANUFACTURING OPTICAL WAVEGUIDE TYPE DIFFRACTION GRATING ELEMENT, OPTICAL WAVEGUIDE TYPE DIFFRACTION GRATING ELEMENT, OPTICAL COMPONENT AND OPTICAL COMMUNICATION SYSTEM例文帳に追加

光導波路型回折格子素子製造方法、光導波路型回折格子素子製造装置、光導波路型回折格子素子、光部品および光通信システム - 特許庁

To provide a blazed concave diffraction grating capable of forming a diffraction grating on the whole groove forming surface (upper surface) and easily confirming the direction of the groove.例文帳に追加

溝形成面（上面）全体に回折格子溝を形成することができ、且つ溝の方向を容易に確認することができるブレーズド型凹面回折格子を提供する。 - 特許庁

The diffraction lens structure of the diffraction optical device has a level difference to give the difference of optical path length macroscopically being the integral multiple of wavelength in order to utilize the high-order diffracted light.例文帳に追加

回折光学素子の回折レンズ構造は、高次の回折光を利用するために巨視的には波長の整数倍の光路長差を与える段差を有する。 - 特許庁

The two-dimensional diffraction grating 7 includes an epitaxial layer 2a formed of GaN and a plurality of diffraction grating points 2b having the refractive index lower than that of the epitaxial layer 2a.例文帳に追加

２次元回折格子７は、ＧａＮよりなるエピタキシャル層２ａと、エピタキシャル層２ａよりも低屈折率である複数の回折格子点２ｂとを含んでいる。 - 特許庁

The retinal scanning image display device includes a diffraction element which is disposed on an optical path of the light from the light source part and diffracts this light in a prescribed diffraction direction.例文帳に追加

網膜走査型ディスプレイは、光源部からの光の光路上に配置され、その光源部からの光を所定の回折方向に回折する回折素子を備えている。 - 特許庁

Therefore, a first optical confinement layer 30 covering the diffraction grating 22 can be formed by overgrowth without removing the etching mask 30b after forming the diffraction grating 22.例文帳に追加

そのため、回折格子２２の形成後にエッチングマスク３０ｂを除去することなく、回折格子２２を覆う第１の光閉じ込め層３０をオーバーグロース形成することができる。 - 特許庁

Further, loss of light quantity can be reduced by using primary diffraction light beams as diffraction light beams of light beams from the light sources 11, 12, 13 having three wavelengths.例文帳に追加

また、３つの波長の光源１１、１２、１３からの光について回折光として１次回折光を用いることにより、光量の損失を少なくすることができる。 - 特許庁

To condense light beams of different wavelengths on proper positions respectively, by correcting aberration of each condensing position, increasing diffraction efficiency of each light beam, and applying a proper diffraction angle.例文帳に追加

異なる波長の光をそれぞれ適切な位置に集光させる上で、各集光位置の収差を補正し、各光の回折効率を高め適切な回折角度を付与する。 - 特許庁

Diffraction grating patterns facing a 45° direction are formed at the subpixels of the motif A and the diffraction grating patterns facing a perpendicular direction are formed at the subpixels of the motif B.例文帳に追加

モチーフＡの副画素には、４５°方向を向いた回折格子パターンを形成し、モチーフＢの副画素には、垂直方向を向いた回折格子パターンを形成する。 - 特許庁

The following processes are performed on each acquired electronic diffraction pattern D_xy to obtain each one piece of magnetization distribution image data M_xy for each electronic diffraction pattern D_xy.例文帳に追加

取得した電子回折図形Ｄ_ｘｙ毎に次の処理が行われて、１つの電子回折図形Ｄ_ｘｙに対して１つの磁化分布像データＭ_ｘｙが求められる。 - 特許庁

One or more profile parameters and one or more process parameters related to the structure are determined based on the comparison of the measurement diffraction signal with the diffraction signal generated by simulation.例文帳に追加

構造に係る1つ以上のプロファイルパラメータ及び1つ以上のプロセスパラメータは、測定回折信号とシミュレーションによる回折信号との比較に基づいて決定される。 - 特許庁