「etching process」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

ETCHING PROCESS AND ETCHING LIQUID OF SEMICONDUCTOR例文帳に追加

半導体のエッチング方法およびエッチング液 - 特許庁

In the etching process, a first etching process employs dry etching in which etching gas is used and a second etching process employs wet etching in which etching liquid is used.例文帳に追加

エッチング工程において、第１のエッチング工程は、エッチングガスによるドライエッチングを用い、第２のエッチング工程はエッチング液によるウエットエッチングを用いる。 - 特許庁

METHOD FOR MONITORING ETCHING PROCESS例文帳に追加

エッチング工程のモニター方法 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING AMOUNT OF ETCHING IN DRY ETCHING PROCESS AND DRY ETCHING APPARATUS例文帳に追加

ドライエッチングのエッチング量制御方法及びドライエッチング装置 - 特許庁

PLASMA-ETCHING SYSTEM AND ETCHING PROCESS MANAGING METHOD例文帳に追加

プラズマエッチングシステム及びエッチング工程管理方法 - 特許庁

POST-ETCHING PROCESSING METHOD FOR DIELECTRIC ETCHING PROCESS例文帳に追加

誘電エッチングプロセスのためのエッチング後処理方法 - 特許庁

As the etching process, the wet etching or dry etching using the hydrofluoric acid is performed.例文帳に追加

エッチングとしては、フッ酸を用いたウエットエッチング、又はドライエッチングである。 - 特許庁

a process of a copperplate etching called aquatint 例文帳に追加

アクワチントという,銅版画の技法 - EDR日英対訳辞書

GENERAL POST-ETCHING PROCESSING METHOD FOR DIELECTRIC ETCHING PROCESS例文帳に追加

誘電エッチングプロセスのための総合エッチング後処理方法 - 特許庁

ETCHING PROCESS AND MANUFACTURING PROCESS OF MICROSTRUCTURE例文帳に追加

エッチング方法及び微細構造体の製造方法 - 特許庁

ETCHING TREATMENT METHOD FOR DUAL DAMASCENE PROCESS例文帳に追加

デュアルダマシン用のエッチング処理方法 - 特許庁

AUXILIARY APPARATUS FOR PROCESS ETCHING APPARATUS例文帳に追加

製版用エッチング装置の補助装置 - 特許庁

ETCHING PROCESS FOR EPOXY RESIN CURED PRODUCT例文帳に追加

エポキシ樹脂硬化物のエッチング方法 - 特許庁

MULTIPLE MASK PROCESS USING ETCHING MASK STACK例文帳に追加

エッチングマスクスタックを用いたマルチマスクプロセス - 特許庁

DEVICE MANUFACTURING PROCESS INCLUDING DRY ETCHING例文帳に追加

ドライエッチングを含むデバイスの製作プロセス - 特許庁

This characteristic constitution includes a first etching process 13a wherein acid etching is performed in the etching process and a second etching process 13b wherein alkaline etching is performed after the first etching process, and includes a back light polishing process 14 for polishing the uneven part of the back of the wafer which is formed by the first etching process, between the first etching process and the second etching process.例文帳に追加

この特徴ある構成は、エッチング工程が酸エッチングする第１エッチング工程１３ａとこの第１エッチング工程の後にアルカリエッチングする第２エッチング工程１３ｂとを含み、第１エッチング工程と第２エッチング工程との間に第１エッチング工程で形成されたウェーハ裏面の凹凸の一部を研磨する裏面軽研磨工程１４を含む。 - 特許庁

In the first recess etching process, anisotropic etching is performed, and in the second recess etching process, etching free from anisotropy is performed.例文帳に追加

第１のリセスエッチング工程では、異方性エッチングを実施し、第２のリセスエッチング工程では、異方性のないエッチングを実施する。 - 特許庁

ETCHING METHOD AND PROCESS FOR FABRICATING DEVICE例文帳に追加

エッチング方法及びデバイスの製造方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS IN WHICH METROLOGY PROCESS AND ETCHING PROCESS ARE INTEGRATED例文帳に追加

計測法とエッチング処理を統合する方法及び装置 - 特許庁

CIRCUIT FORMATION ETCHING LIQUID FOR SEMIADDITIVE PROCESS例文帳に追加

セミアディティブ工法用回路形成エッチング液 - 特許庁

MASK ETCHING PLASMA REACTOR WITH VARIABLE PROCESS GAS DISTRIBUTION例文帳に追加

可変処理ガス分布マスクエッチングプラズマリアクタ - 特許庁

After etching the silicon substrate 2 by the base etching process, etching of the quartz substrate 1 is performed by the quartz etching process, or after etching the quartz substrate 1 by the quartz etching process, etching of the silicon substrate 2 is performed by the base etching process.例文帳に追加

ベースエッチング工程によりシリコン基板２のエッチングを行った後、水晶エッチング工程により水晶基板１のエッチングを行ったり、或いは、水晶エッチング工程により水晶基板１のエッチングを行った後、ベースエッチング工程によりシリコン基板２のエッチングを行ったりするようにした。 - 特許庁

Moreover, successively to the etching process (1A), an etching solution substituting process (2B) using an etching solution of ferrous chloride is passed.例文帳に追加

また、エッチング工程（１Ａ）に引き続き塩化第一鉄のエッチング液を用いたエッチング液置換工程（２Ｂ）を経ること。 - 特許庁

To remove a film formed at dry etching process by cleaning in every dry etching process.例文帳に追加

ドライエッチング処理毎にクリーニング処理を実施して、ドライエッチング処理時に形成された膜を除去する。 - 特許庁

In an etching processing process in a process (3), the mask layer 3 is removed by selection etching.例文帳に追加

その後、工程（３）のエッチング処理工程にて、マスク層３を選択エッチング処理にて除去する。 - 特許庁

PROCESS OF ETCHING ALUMINUM-NEODYMIUM USING HYDROGEN IODIDE例文帳に追加

ヨウ化水素によるアルミニウム−ネオジム・エッチングプロセス - 特許庁

ETCHING METHOD OF NITRIDING FILM, AND DUAL DAMASCENE PROCESS例文帳に追加

窒化膜のエッチング方法およびデュアルダマシンプロセス - 特許庁

VIA STRUCTURE AND VIA ETCHING PROCESS OF FORMING THE SAME例文帳に追加

ビア構造とそれを形成するビアエッチングプロセス - 特許庁

The patterning process includes a first etching process for etching the processed film in a first etching condition and a second etching process for etching further the processed film in a second etching condition different from the first etching condition.例文帳に追加

このパターニング工程は、第１のエッチング条件で前記被処理膜のエッチングを行なう第１エッチング工程、および、第１のエッチング条件とは異なる第２エッチング条件で前記被処理膜のエッチングを更に行なう第２エッチング工程を含む。 - 特許庁

METHOD FOR DISPLAYING PROGRESS OF ETCHING AND MONITORING DEVICE OF ETCHING PROCESS例文帳に追加

エッチング工程の進行状況表示方法およびエッチング工程モニタ装置 - 特許庁

LIQUID ETCHANT FOR WET-ETCHING RESIN MEMBRANE AND ETCHING PROCESS USING THE SAME例文帳に追加

樹脂膜のウエットエッチング用エッチング液及びそれを用いて成るエッチング方法 - 特許庁

Gas of a fluorine system is used as etching gas in this first etching process step.例文帳に追加

この第１エッチング工程では、エッチングガスとしてフッ素系のガスを用いる。 - 特許庁

FLATTENING FINISH ETCHING LIQUID FOR COPPER AND COPPER ALLOY, AND ETCHING PROCESS THEREFOR例文帳に追加

銅および銅合金の平面仕上げエッチング液およびそのエッチング工法 - 特許庁

To provide an etching method in which etching process controllability is improved.例文帳に追加

エッチング工程の制御可能性を改善したエッチング方法を提供する。 - 特許庁

Acid etching is carried out following to alkaline etching in the etching process while setting a larger etching margin for the alkaline etching than for the acid etching thus obtaining an improved chemically etched wafer.例文帳に追加

改良ケミカルエッチウェーハ：エッチング工程において、アルカリエッチングのあと酸エッチングを行い、その際、アルカリエッチングのエッチング代を酸エッチングのエッチング代よりも大きくしたウェーハ。 - 特許庁

STABILIZED PHOTORESIST STRUCTURE FOR ETCHING PROCESS例文帳に追加

エッチングプロセスのための安定化したフォトレジスト構成 - 特許庁

CLEANING METHOD OF SUBSTRATE SURFACES AFTER ETCHING PROCESS例文帳に追加

エッチング処理した基板表面の洗浄方法 - 特許庁

In addition, the barrier layer forming process includes a selective film-forming process and a sputter etching process.例文帳に追加

また、バリア層形成工程は、選択成膜工程と、スパッタエッチング工程を有する。 - 特許庁

Further, in a ridge forming process, the second p-type clad layer 6 is removed partially by a first etching process through dry etching and a second etching process through wet etching.例文帳に追加

また、リッジ形成工程において、第２のｐ型クラッド層６を、ドライエッチングによる第１のエッチング工程と、ウェットエッチングによる第２のエッチング工程とにより、部分的に除去する。 - 特許庁

The method can be carried out in a direct plasma etching process or in a remote plasma etching process.例文帳に追加

本方法は直接プラズマエッチング法又は遠隔プラズマエッチング法によって実行することが可能である。 - 特許庁

SELECTIVE ISOTROPIC ETCHING PROCESS FOR TITANIUM-BASED MATERIAL例文帳に追加

チタンベース材料の選択的等方性エッチングプロセス - 特許庁

To suppress abnormality in the etching process or changes in the etching rate in RIE.例文帳に追加

ＲＩＥにおいて、エッチング加工の異常や、エッチング速度の変化を抑制する。 - 特許庁

To provide a plasma etching process capable of effectively etching aluminum-neodymium alloy.例文帳に追加

アルミニウム−ネオジム合金を効果的にエッチングするプラズマエッチングプロセスを提供する。 - 特許庁

Further, the process to carry out the hole etching or the trench etching is carried out once again.例文帳に追加

さらに、前述のホールエッチング又はトレンチエッチングをする工程を再度行う。 - 特許庁

FABRICATION PROCESS OF SEMICONDUCTOR DEVICE, WET-ETCHING TREATMENT APPARATUS, AND WET-ETCHING METHOD例文帳に追加

半導体装置の製造方法、ウエットエッチング処理装置及び、ウエットエッチング方法 - 特許庁