「etching process」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

METHOD FOR PRODUCING NON-ORIENTED ELECTRICAL STEEL SHEET FOR ETCHING-PROCESS, AND METHOD FOR MANUFACTURING MOTOR CORE例文帳に追加

エッチング加工用無方向性電磁鋼板とモータコアの製造方法 - 特許庁

CONTROL METHOD OF PLASMA ETCHING PROCESS DEVICE AND TRIMMING AMOUNT CONTROL SYSTEM例文帳に追加

プラズマエッチング処理装置の制御方法およびトリミング量制御システム - 特許庁

INTEGRATED CHIP DUMMY TRENCH PATTERN FACILITATING DEVELOPMENT OF TRENCH ETCHING PROCESS例文帳に追加

トレンチ・エッチング・プロセスの開発を容易にする集積チップ・ダミ—・トレンチ・パタ—ン - 特許庁

A step-difference is formed on the alignment mark 21 through the etching process.例文帳に追加

このエッチング工程を通して、アライメントマーク２１に段差を形成する。 - 特許庁

The etching method includes a first process (S1) for etching the zinc oxide-based material by a solution containing oxalic acid and a second process (S2) for removing etching residues generated in the first process by using an alkaline solution.例文帳に追加

蓚酸を含有する溶液で酸化亜鉛系材料をエッチングする第１の工程（Ｓ１）と、アルカリ性溶液を用いて、前記第１の工程におけるエッチング残渣を除去する第２の工程（Ｓ２）を有している。 - 特許庁

The method for manufacturing the noncontact data carrier is provided with a process for executing etching by injecting an etching solution and a process for executing the etching processing over the whole surface.例文帳に追加

このような非接触データキャリアの製造は、エッチング液を噴射してエッチングする工程の後に、全面のエッチング処理を行う工程を設けることにより製造することができる。 - 特許庁

To provide a dry etcher which is equipped with an etching portion where a cleaning process is added to the dry etcher to expand the applicability of the dry etching to a metal film etching process and a cleaning portion.例文帳に追加

ドライエッチャに洗浄工程を付加してドライエッチャの適用範囲をメタル膜エッチング工程まで拡大させるエッチング部と洗浄部とを兼備したドライエッチャを提供する。 - 特許庁

To provide an etching processor which can simplify maintenance operations to enhance the efficiency of an etching process.例文帳に追加

保守作業を簡易化してエッチング処理の効率を向上させることが可能なエッチング処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an etching method capable of widening the frontage of a pattern of an etching mask even in a dry process.例文帳に追加

ドライプロセスにおいてもエッチングマスクのパターンの間口を広くすることができるエッチング方法を提供すること。 - 特許庁

A hybrid porous tube body 100 is obtained by putting the base material 3 under an etching removal process by a wet etching method (d).例文帳に追加

基材３をウエットエッチング法によりエッチング除去して混成型多孔質管体１００を得る〔（ｄ）〕。 - 特許庁

The method remarkably improves etching homogeneity of the wet etching process which selectively eliminates the oxidized film.例文帳に追加

又、酸化膜を選択的に除去するウエットエッチング工程のエッチング均一性を大きく向上させることができる。 - 特許庁

The nitride silicon film 9 functions as an etching stopper during the etching process of a BPSG film 11 formed on it.例文帳に追加

窒化シリコン膜９は、その上に形成したＢＰＳＧ膜１１をエッチングする際にエッチング・ストッパとして機能する。 - 特許庁

METHOD FOR PRODUCING MULTILAYER FILM UTILIZING PRODUCTION PROCESS USING ETCHING TECHNIQUE AND ETCHING FILM PRODUCTION DEVICE THEREFOR例文帳に追加

エッチング技術を使った製造工程を利用した多層膜の製造方法及びそのエッチング膜製造装置 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer etching apparatus which can improve an etching rate better than that of a prior art, can perform every etching process by a wet etching method with higher accuracy and can further include a chemical solution collecting system.例文帳に追加

従来よりもエッチング速度を向上させ、全てのエッチングをウェットエッチングで高精度に行ない、さらに薬液の回収システムを含めた半導体ウェハエッチング装置を得る。 - 特許庁

A plurality of etching holes are arranged at a position where a etching front of the sacrifice layer with the adjacent etching hole as a center does not cross in the region in which the vibrating membrane exists in the etching process.例文帳に追加

複数のエッチング孔は、エッチング工程で、隣接するエッチング孔を中心とする犠牲層のエッチングの前線が振動膜の存在する領域で交わることが無い位置に配置される。 - 特許庁

The manufacturing process is simplified and the quantity of the material to be used is reduced by dispensing with the lithography process and the etching process.例文帳に追加

リソグラフィ工程及びエッチング工程の省略による製造工程の簡略化と使用材料の量の削減とを図る。 - 特許庁

The manufacturing method of a thin film magnetic head is provided with a process for forming materials for a head, an etching process, and a head forming process.例文帳に追加

薄膜磁気ヘッドの製造方法は、ヘッド用素材形成工程と、エッチング工程と、ヘッド形成工程とを備えている。 - 特許庁

The contact of the metal with the azole compound is preferably performed in a cleaning process or an etching process after the cleaning process.例文帳に追加

該金属とアゾール化合物との接触は、清浄化浴工程、あるいは、清浄化後のエッチング工程での適用が好適である。 - 特許庁

To provide an etching device easy in process control and controllable under a fixed condition about etching performance with a small amount of a chemical, and an etching solution management method.例文帳に追加

プロセス管理が容易で、少量の薬液でエッチング性能を一定条件下に制御可能なエッチング装置及びエッチング液管理方法を提供する。 - 特許庁

The separated water is used as water for controlling the concentration of the regenerated etching solution, and the etching solution freed of the metal to be etched is recycled to an etching process.例文帳に追加

分離した水は再生されたエッチング液の濃度調整用水として用いられ、被エッチング金属を取り除かれたエッチング液はエッチングプロセスにリサイクルされる。 - 特許庁

The unevenness of an aperture dimensionality by etching is suppressed by preventing the etching rate from becoming quick as the etching step progresses, and a process efficiency is improved.例文帳に追加

エッチング工程が進むにつれてエッチングレートが速くなるのを防ぐことで、エッチングによる開口寸法のバラつきを抑えて、加工精度を向上させる。 - 特許庁

An etching device 3 is used in a manufacturing process of a circuit board, and an etching liquid is jetted to a plated substrate material A which is transported horizontally for etching.例文帳に追加

このエッチング装置３は、回路基板の製造工程で使用され、水平搬送されるメッキされた基板材Ａに対し、エッチング液を噴射してエッチングする。 - 特許庁

To provide an etching method capable of etching with good controllability without lengthening a process time, and to provide an etching device for performing the method.例文帳に追加

プロセス時間を長くすることなく、制御性良好にエッチングを行うことが可能なエッチング方法およびこの方法を行うためのエッチング装置を提供する。 - 特許庁

The method of controlling dimensions of structures formed on the substrate using the etching process includes a step 204 of measuring pre-etching dimensions of the respective elements of a patterned etching mask, a step 206 of adjusting the process recipe of the etching process using the results of the pre-etch measurements, and a step 208 of adjusting the process recipe of the etching process, using the patterned etch mask.例文帳に追加

エッチングプロセスを用いて基板上に形成された構造物の寸法を制御する方法がパターン化されたエッチングマスクのそれぞれの素子のエッチング前の寸法を測定するステップ２０４、前記エッチング前の測定結果を用いてエッチングプロセスのプロセスレシピを調整するステップ２０６及びパターン化されたエッチングマスクを用いてエッチングプロセスを行い、プロセスレシピを調整するステップ２０８を有する。 - 特許庁

The pre-cleaning process includes a wet etching cleaning process, before reactive plasma treatment is performed.例文帳に追加

事前クリーニング工程には、反応性プラズマ処理が行われる前のウェットエッチング洗浄工程も含まれる。 - 特許庁

To decrease the number of steps in a photolithographic process and an etching process, leading to reduction in manufacturing time and cost.例文帳に追加

フォトリソグラフィー工程とエッチング工程の回数を減らし、製造時間の短縮化と低コスト化を図る。 - 特許庁

To protect an antireflection film against thinning or process damage due to an etching step during a wafer process.例文帳に追加

反射防止膜のウエハ工程中のエッチング工程による膜減り、プロセスダメージを低減することができる。 - 特許庁

To correct size variation of an isolated pattern resulting from an etching process.例文帳に追加

孤立したパターンにおけるエッチングプロセスに起因する寸法変化を補正する。 - 特許庁

To form self-align contacts which are higher in reliability in an easy etching process.例文帳に追加

容易なエッチングプロセスで信頼性の高い自己整合コンタクトを形成する。 - 特許庁

In addition, wet or dry etching is applied for the process to form the irregularity structure.例文帳に追加

凹凸構造を形成する工程がウエットエッチングまたはドライエッチングである。 - 特許庁

Thereafter, the resist 2 is dissolved and eliminated and wet etching of the substrate 1 is performed (process (c)).例文帳に追加

その後、レジスト２を溶解除去し、基板１のウェットエッチングを行う（ｃ）。 - 特許庁

A process chamber P performs dry etching of the carried wafer for a given time.例文帳に追加

プロセスチャンバーＰは、搬送されたウェーハを所与の時間だけドライエッチングする。 - 特許庁

A second etching process is performed to form an upper wiring structure.例文帳に追加

第２エッチングプロセスは、上部配線構造を形成するために実行される。 - 特許庁

PROCESS FOR ETCHING TUNGSTEN SILICIDE ON POLYSILICON PARTICULARLY IN FLASH MEMORY例文帳に追加

特にフラッシュメモリにおいてポリシリコンの上にある珪化タングステンをエッチングするプロセス - 特許庁

REGENERATION PROCESS OF ALKALINE PERMANGANATE ETCHING SOLUTION OR DESMEAR LIQUID AND UNIT THEREFOR例文帳に追加

アルカリ過マンガン酸エッチング溶液又はデスミア液の再生方法及び装置 - 特許庁

Subsequently, patterning is performed on the oxide film 14 by photolithography and an etching process.例文帳に追加

その後、フォトリソグラフィとエッチング工程により、酸化膜１４をパターニングする。 - 特許庁

To enable a mask etching process to be carried out at a lower cost by a method, where a heat distribution and a membrane mask are each enhanced in controllability and dimensional controllability respectively in a membrane mask etching process.例文帳に追加

メンブレンマスクのエッチングプロセス中の熱分布の制御性、および、メンブレンマスクの寸法制御性を高めて、マスクエッチングの低コスト化を図ること。 - 特許庁

When the discharge amount of carbon emitted during the etching process exceeds a peak, as well as, becomes not higher than a prescribed value, the etching process is terminated.例文帳に追加

更に、エッチング工程中に放出される炭素放出量がピークを超えて、かつ、所定値以下になった場合にエッチング工程を終了する。 - 特許庁

Grooves 4 are cut in an insulating base material 1 through a conductor layer 3 formed on the one surface of the insulating base material 1 as a mask through a laser process, a plasma etching process, or a wet etching process.例文帳に追加

絶縁べ−ス材１の一方面の導体層３をマスク層としてレ−ザ−加工、プラズマエッチング加工又はウエットエッチング加工で絶縁べ−ス材１に溝４を形成する。 - 特許庁

The control part 43 changes the chuck voltage according to each process of plasma processing composed of a plurality of processes including an etching process, and in the etching process, applies a high voltage to the electrode plate 25d.例文帳に追加

制御部４３は、エッチング工程を含む複数の工程からなるプラズマ処理の各工程に応じてチャック電圧を変更し、エッチング工程では高電圧を電極２５ｄに印加する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a display by which a photolithographic process is eliminated by changing a wet etching process to a dry etching process using laser and high productivity is realized.例文帳に追加

ウェットエッチングプロセスを、レーザを用いたドライエッチングプロセスにすることにより、フォトリソグラフィー工程を削減でき、高生産性を実現するディスプレイの製造方法を提案することを目的とする。 - 特許庁

This method includes a process of forming a reflection preventing film on the base substrate, a process of forming a photoresist having a prescribed pattern on this reflection preventing film, a first etching process for etching the reflection preventing film with this photoresist as a mask, and a second etching process for etching the base substrate with the reflection preventing film as a mask.例文帳に追加

下地基板上に反射防止膜を形成する工程と、この反射防止膜上に所定パターンを有するフォトレジストを形成する工程と、このフォトレジストをマスクとして反射防止膜をエッチングする第１のエッチング工程と、反射防止膜をマスクとして下地基板をエッチングする第２のエッチング工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method for producing a multilayer film utilizing a production process using an etching technique, and to provide an etching film production device therefor.例文帳に追加

エッチング技術を使った製造工程を利用した多層膜の製造方法及びそのエッチング膜製造装置。 - 特許庁

Thus, the etching of the layer 21 from the side face is prevented in a second etching process.例文帳に追加

これによって、第２エッチング処理工程において、被処理層２１が前記側面からエッチングされることが防止される。 - 特許庁

In a process of forming the micro passage 12A in Fig. 1(c), wet etching may be used instead of anisotropic dry etching.例文帳に追加

なお、図１（ｃ）のマイクロ流路１２Ａを形成する工程では、異方性ドライエッチングに代えて、ウェットエッチングを用いてもよい。 - 特許庁