| 例文 |
interlayer temperatureの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 130件
The heating process is performed by elevating the temperature of the interlayer compound.例文帳に追加
加熱工程は、層間化合物を昇温することにより実施される。 - 特許庁
In the heating process, the temperature of the interlayer compound is elevated up to a temperature exceeding any of the boiling temperature, sublimation temperature and thermal decomposition temperature of the organic compound.例文帳に追加
加熱工程では、層間化合物は、有機化合物の沸騰温度、昇華温度及び熱分解温度のいずれかの温度を超える温度になるまで昇温される。 - 特許庁
After the second-layer wire is formed, the component is treated with heat applied at a temperature lower than a metamorphic temperature of the interlayer insulation film.例文帳に追加
二層目配線を形成した後、上記層間絶縁膜の変成温度未満にて加熱処理する。 - 特許庁
To suppress deformation of an interlayer insulating film due to temperature rise in a hollow structure.例文帳に追加
中空構造において温度上昇による層間絶縁膜の変形を抑制する。 - 特許庁
To provide a laminated tube superior in chemical permeation prevention effect, interlayer adhesion and durability of interlayer adhesive strength, particularly in a high temperature atmosphere.例文帳に追加
薬液透過防止性、層間接着性、特に、高温雰囲気下における層間接着強度の耐久性に優れる積層チューブを得ること。 - 特許庁
To provide a laminated tube excellent in chemical liquid impermeability, interlayer adhesion, and particularly, durability of interlayer adhesion under the high-temperature atmosphere.例文帳に追加
薬液透過防止性、層間接着性、特に、高温雰囲気下における層間接着強度の耐久性に優れた積層チューブを提供する。 - 特許庁
To prevent exfoliation between a conductor layer and an interlayer resin insulating layer and cracks in the interlayer resin insulating layer under heat cycle condition and high temperature, high pressure and high humidity condition.例文帳に追加
ヒートサイクル条件や高温、高圧、多湿条件で導体層と層間樹脂絶縁層との剥離および層間樹脂絶縁層のクラックを防止する。 - 特許庁
To provide a laminated hose superior in chemical permeation preventive performance, an interlayer adhesive property and durability of interlayer adhesive strength particularly in a high temperature atmosphere.例文帳に追加
薬液透過防止性、層間接着性、特に、高温雰囲気下における層間接着強度の耐久性に優れた積層ホースを提供する。 - 特許庁
To prevent a conductor layer and an interlayer resin insulating layer from peeling off and the interlayer resin insulating layer from cracking under heat cycle conditions and high temperature, high pressure, and high humidity conditions.例文帳に追加
ヒートサイクル条件や高温、高圧、多湿条件で導体層と層間樹脂絶縁層との剥離および層間樹脂絶縁層のクラックを防止する。 - 特許庁
To provide a polyethylene-based resin composition having excellent environmental stress-crack resistance(ESCR), high temperature fuel oil resistance, low temperature impact resistance and interlayer adhesion strength.例文帳に追加
ESCR、高温での耐燃料油性、低温での耐衝撃性、層間接着強度に優れたポリエチレン系樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide an interlayer for laminated glass, excellent in damping property at a high temperature and in sound insulating property in a wide temperature range and excellent in heat insulating property.例文帳に追加
高温下の制振性や幅広い温度範囲における遮音性に優れ、遮熱性にも優れる合わせガラス用中間膜を提供する。 - 特許庁
To provide a tube for fuel having excellent alcohol and gasoline permeation preventing property, interlayer adhesiveness, and low temperature impact resistance.例文帳に追加
アルコールガソリン透過防止性、層間接着性、低温耐衝撃性に優れた燃料用チューブを提供する。 - 特許庁
To provide a thermoplastic resin sheet usable as the interlayer of a glass laminate having superior resisting performance to penetration ranging over from a low-temperature region to a high-temperature region.例文帳に追加
低温域から高温域に渡り、優れた耐貫通性能を有する合わせガラスの中間膜として用い得る熱可塑性樹脂シートを提供する。 - 特許庁
At this time, the reflow treatment is executed at a temperature lower than the transition temp. of the substrate, thereby flattening the interlayer insulating film 20.例文帳に追加
この際、基板1の転移温度よりも低い温度でリフロー処理を行い、層間絶縁膜20を平坦化する。 - 特許庁
The interlayer 14 is epitaxially formed at a growth temperature lower than those of the group III-nitride layers 13 and 15, more specifically, at a temperature of 350°C or more and 1,000°C or below.例文帳に追加
また、中間層14は、III族窒化物層13および15よりも低い成長温度、より具体的には350℃以上1000℃以下でエピタキシャル形成されている。 - 特許庁
To provide an adhesive sheet with mold release films for an interlayer, with which a transparent laminate is produced at room temperature without necessitating a high temperature/high pressure treatment by an autoclave.例文帳に追加
オートクレーブによる高温・高圧処理を必要とすることなく、室温で透明積層体の製造が可能な離型フィルム付中間膜用粘着シートを提供する。 - 特許庁
To provide a positive photosensitive resin composition for an interlayer insulating film which is excellent in insulation and retains high transparency even when baked at a high temperature, an interlayer insulating film using the same, and an organic EL display and a liquid crystal display including the interlayer insulating film.例文帳に追加
絶縁性に優れ、高温でベークされた場合においても高い透明性を有する層間絶縁膜用ポジ型感光性樹脂組成物、それを用いた層間絶縁膜、該層間絶縁膜を具備する有機EL表示装置、及び液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
The conductor layer is brought into contact with the interlayer resin insulating layer across the roughening layer, so that conductor layer and interlayer resin insulating layer never peel off each other, even under the heat cycle conditions and high temperature, high pressure, and high humidity conditions.例文帳に追加
また、導体層は粗化層を介して層間樹脂絶縁層と密着するため、ヒートサイクル条件や高温、高圧、高湿度条件でも導体層と層間樹脂絶縁層との剥離が生じない。 - 特許庁
Since the conductor layer is closely in contact with the interlayer resin insulating layer via the roughened layer, exfoliation between the conductor layer and the interlayer resin insulating layer is not generated under heat cycle condition and high temperature, high pressure and high humidity condition.例文帳に追加
また、導体層は粗化層を介して層間樹脂絶縁層と密着するため、ヒートサイクル条件や高温、高圧、高湿度条件でも導体層と層間樹脂絶縁層との剥離が生じない。 - 特許庁
To provide a semiconductor device which has a Low-k film as an interlayer insulating film, the semiconductor device having superior reliability by preventing the interlayer insulating film from peeling in a temperature cycle test.例文帳に追加
層間絶縁膜としてLow−k膜を有する半導体装置において、温度サイクル試験時における層間絶縁膜の剥離を防止し、信頼性に優れた半導体装置を提供する。 - 特許庁
By the laser light irradiation, a high-temperature region 6 is formed extending widely while overlapping on the interlayer insulation film 3a and the like around the trimming element T and the crack inducing body G and the rigidity of the interlayer insulation film 3a and the like having high temperature is deteriorated.例文帳に追加
レーザー光を照射すると、トリミング素子Tの周辺及びクラック誘導体Gの周辺の層間絶縁膜3a等に重畳して広く延在する高温領域6が形成され、該高温化した層間絶縁膜3a等の剛性が低下する。 - 特許庁
To provide an abrasive which can be preserved even at low ambient temperature relating to a CMP compound for planarization of an interlayer insulation film.例文帳に追加
層間絶縁膜を平坦化するCMP剤において、低温の雰囲気下においても保存することができる研磨剤を提供する。 - 特許庁
To provide a heat treatment method and heat treatment equipment capable of obtaining an interlayer insulating film of low permittivity at a low heat treatment temperature.例文帳に追加
低い熱処理温度で低誘電率の層間絶縁膜を得ることができる熱処理方法及び熱処理装置を提供する。 - 特許庁
To provide an interlayer for laminated glass which has superior moisture resistance and where foaming at an end part is hardly caused even when being placed under a high temperature state.例文帳に追加
耐湿性に優れ、高温下に置かれたときにでも端部発泡の生じにくい合わせガラス用中間膜を提供する。 - 特許庁
To provide an interlayer for laminated glass excellent in comprehensive sound insulation performance over a wide temperature range of 10-60°C.例文帳に追加
10〜60℃の広い温度範囲の総合的な遮音性能に優れた合わせガラス用中間膜を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide an interlayer film 10 for laminated glass which hardly causes surface contamination, can be manufactured inexpensively with a fewer processes and can perform lamination processing for glass 101 at a room temperature and to provide a method for manufacturing the interlayer film for laminated glass.例文帳に追加
表面汚染が少なく、製造工程数が少なく低コストで製造でき、かつ、ガラス101へ室温で合わせ加工ができきる合わせガラス用中間膜10及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
An interlayer resin-insulating layer 50α is dried to such an extent that exposing and developing steps can be performed at an adjusted drying temperature of 70-90°C, in order to prevent an interlayer resin insulating layer 50 from being crosslinked excessively.例文帳に追加
層間樹脂絶縁層50αの乾燥温度を70℃〜90℃に調整することで、層間樹脂絶縁層50の架橋が進行し過ぎないように、露光、現像を行い得る状態まで乾燥させる。 - 特許庁
Furthermore, when second and third interlayer insulation films 20, 30 are formed, the film formation temperature of plasma TEOS layers 23, 33 and the temperature of HDP layers 22, 32 at that time are made the same.例文帳に追加
さらに、第2および第3の層間絶縁膜20,30形成の際に、プラズマTEOS層23,33の成膜温度とそのときのHDP層22,32の温度とを同一にする。 - 特許庁
An interlayer insulation film 22, of the same material provided on a base film 21, is then pressed against the insulation material 20 for adhesion, while being heated at a low temperature.例文帳に追加
次に、ベースフィルム21に設けた同一材料の層間絶縁材22を低温度で加熱しながら密着用絶縁材20に押圧する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device, in which voids can be completely eliminated from an interlayer insulating film at a heat treatment temperature lower than those in conventional methods, and furthermore pores generated in the interlayer insulating film can be filled.例文帳に追加
従来よりも低い熱処理温度で、かつ、完全に層間絶縁膜のボイドを消滅させることができ、さらに、層間絶縁膜に生じた開気孔を埋め込むことができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide an interlayer for laminated glass which is excellent in sound insulation property in a wide range of temperature and has a colored layer for intercepting solar light.例文帳に追加
幅広い温度範囲における遮音性に優れており、かつ、太陽光を遮るための着色層を有する合わせガラス用中間膜を提供する。 - 特許庁
And the method for manufacturing the sputtering target material for Ni-W based interlayer, which is characterized in that the solidifying/forming temperature is 900-1050°C, is also provided.例文帳に追加
また、上記固化成形温度を900〜1050℃とすることを特徴とするNi−W系中間層用スパッタリングターゲット材の製造方法。 - 特許庁
To provide a heat treatment method and heat treatment equipment capable of obtaining an interlayer insulating film of low permittivity at a low heat treatment temperature.例文帳に追加
熱処理温度の低い熱処理により低誘電率の層間絶縁膜を得ることができる熱処理方法及び熱処理装置を提供する。 - 特許庁
Thus, a barrier layer 15 which is chemically stable even in a high-temperature usage environment at a temperature exceeding 200°C and effectively works as a barrier layer can be interposed between Cu interconnections 18 and the interlayer insulation film 12, and thereby diffusion of Cu, which is a material of the interconnections, into the interlayer insulation film 12 can be prevented.例文帳に追加
これにより、200℃を超える高温使用環境においても化学的に安定であり、バリア層として効果的に作用するバリア層15をCu配線18と層間絶縁膜12との間に介在させることができるので、配線材料たるCuの層間絶縁膜12への拡散を防止することができる。 - 特許庁
A first interlayer dielectric is formed on a semiconductor substrate having a semiconductor element formed thereon, and a tantalum nitride film is formed on the first interlayer dielectric by first sputtering at a substrate temperature from a normal temperature to 400°C with a nitride gas partial pressure ratio of 3-10% in a reaction gas.例文帳に追加
半導体素子が形成された半導体基板上に第1層間絶縁膜を形成し、基板温度を常温から400℃までの温度に設定し、反応ガス中の窒素ガス分圧比を3乃至10%として、第1スパッタリングにより、前記第1層間絶縁膜上に窒化タンタル膜を形成する。 - 特許庁
This laminated glass is provided with a couple of glass plates 1a and 1b, a plastic-made interlayer film 2 sandwiched between the glass plates 1a and 1b, and a temperature sensor 5 sandwiched between at least one of the glass plates and the plastic-made interlayer film.例文帳に追加
2枚のガラス板1a、1bと、該2枚のガラス板の間に挟持されたプラスチック製中間膜2と、該2枚のガラス板の少なくとも一方と該プラスチック製中間膜の間に挟持された温度センサ5とを備えた温度センサ付合わせガラス。 - 特許庁
To provide an interlayer film for a transparent laminate superior in adhesiveness to a transparent glass plate and transparent resin sheet, and, superior in noise insulation property at approximately normal temperature and a tranparent laminate made by using the interlayer film for the tranparent laminate.例文帳に追加
透明ガラス板及び透明樹脂板に対する接着性に優れるとともに、常温付近で優れた遮音性能を有する透明積層体用中間膜、及び、該透明積層体用中間膜を用いてなる透明積層体を提供する。 - 特許庁
The temperature sensor and heater 8 has an adhesion layer 4, a diffusion prevention layer 5, an electric heating layer 6 and a diffusion prevention and adhesion layer 7 from the lowest layer, and the temperature sensor and heater 8 is covered with an interlayer insulation film 9.例文帳に追加
温度センサ兼ヒータ8は、下層から順に密着層4、拡散防止層5、電熱層6及び拡散防止兼密着層7を有し、温度センサ兼ヒータ8が層間絶縁膜9によって被覆されている。 - 特許庁
To provide a multilayer type optical recording medium in which a temperature is efficiently increased by irradiation of a laser beam, and interlayer crosstalk and FES interlayer interference from recording layers other than a desired recording layer are reduced, and which has higher density as compared with the conventional one.例文帳に追加
レーザ光の照射による温度上昇を効率的に行うことができ、所望の記録層以外からの層間クロストーク及びFESの層間干渉を低減し、従来のものに比して高密度な多層型光情報記録媒体を提供する。 - 特許庁
To surely protect an apparatus by quickly detecting the interlayer short of a linkage reactor or a step-up reactor, with a low-cost configuration which uses no multiple temperature sensors.例文帳に追加
複数の温度センサを用いない安価な構成でありながら、連系リアクトル又は昇圧リアクトルのレアショートを迅速且つ正確に検出し、装置の保護を確実に図ること。 - 特許庁
The interlayer insulation films 13-15 and 17 each consist of an insulation film having a relative permittivity larger than 3.0, and are formed at a temperature of 300°C or lower (not lower than 200°C or around).例文帳に追加
層間絶縁膜13〜15および17は、比誘電率が3.0より大きな絶縁膜で構成され、300℃以下(下限は200℃程度)の温度で形成される。 - 特許庁
To provide a modified polyolefin composition for bonding having a high interlayer bonding strength especially in a high temperature atmosphere, and a laminate using the same.例文帳に追加
特に高温雰囲気下での層間接着力が高い、接着用変性ポリオレフィン組成物ならびにそれを用いた積層物を提供することを目的としている。 - 特許庁
To provide a fuel hose which is light in weight, excellent in fuel-low-permeability, inexpensive and excellent also in interlayer adhesion, flexibility, low-temperature impact resistance and heat resistance.例文帳に追加
軽量で、燃料低透過性に優れるとともに、低コストで、層間接着性、柔軟性、低温衝撃性、耐熱性にも優れた燃料用ホースを提供する。 - 特許庁
The interlayer insulation material for a printed wiring board is composed of a thermoplastic resin whose glass transition temperature or melting point is 260°C or above which is added with 1-50 mass% of hydrogenated fullerene.例文帳に追加
ガラス転移温度または融点が260℃以上である熱可塑性樹脂に水素化フラーレンを1〜50質量%含むプリント配線基板用層間絶縁材料。 - 特許庁
To provide a container for packaging food or medical care comprising a gas barrier laminate excellent in quality preserving property and transparent and in which interlayer delamination is suppressed even under high temperature and high pressure condition.例文帳に追加
品質保存性に優れ透明で、高温高圧でも層間剥離の抑制されたガスバリア性積層体からなる食品または医療用包装用容器を提供する。 - 特許庁
To provide a heat-shrinkable laminated film excelling in heat shrinking performance, transparency and interlayer adhesion at an ordinary temperature, hardly peeled off even if treated at a high temperature and restrained from whitening that occurs when bending the film during processing or the like.例文帳に追加
熱収縮特性、透明性、常温における層間接着に優れ、高温で処理しても剥離しにくく、かつ加工時等にフィルムを折り曲げた際に生じる白化を抑制した熱収縮性積層フィルムの提供。 - 特許庁
To provide an interlayer film for laminated glass which prevents the deterioration of sound insulation properties with a temperature rise due to sunlight irradiation or the like, and is also excellent in light shielding properties, and to provide laminated glass.例文帳に追加
太陽光の照射等による温度上昇に伴う遮音性の低下を防止するともに、遮光性にも優れた合わせガラス用中間膜および合わせガラスを提供する。 - 特許庁
The interlayer insulation films 4-6 each consist of an SiOC film having a relative permittivity of 3.0 or below formed by plasma CVD method, and are formed at a temperature of 300°C or higher (not exceeding 450°C or around).例文帳に追加
層間絶縁膜4〜6は、プラズマCVD法で形成された比誘電率3.0以下のSiOC膜で構成され、300℃以上(上限は450℃程度)の温度で形成される。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|