「jet etching」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To prevent generation of deflection in a vibration plate of an ink pressuring chamber at the time of anode-bonding a glass substrate to the surface of a silicon substrate with an ink channel pattern formed by etching for forming an ink channel of an ink-jet head.例文帳に追加

インクジェットヘッドのインク流路を形成するために、インク流路パターンがエッチング形成されたシリコン基板の表面にガラス基板を陽極接合する際に、インク圧力室の振動板に撓みが発生しないようにすること。 - 特許庁

To provide a thermal ink jet printer head having a protection film which is provided in each of a heating section and a circuit pattern and is superior in an electric insulation property, a cavitation resistance property, a dry etching resistance property, a heat resistance property, a thermal conductivity and an adhesion property.例文帳に追加

電気絶縁性、耐キャビテーション性、耐ドライエッチング性、耐熱性、熱伝導性及び密着性のいずれにおいても良い特性を有する保護膜を発熱部と配線電極に備えたサーマルインクジェットプリンタヘッドを提供する。 - 特許庁

To provide an ink jet recording head in which ejection openings can be densified without being influenced by diffraction of a laser beam even when ink channels and ejection openings are formed in a nozzle member by utilizing laser etching.例文帳に追加

レーザ融蝕を利用してノズル部材にインク流路及び吐出口等を形成する場合であっても、レーザ光の回折による影響を受けることなく吐出口の高密度化を図ることができるインクジェット記録ヘッド等を提供する。 - 特許庁

To provide a nozzle substrate for ink jet head which forms a nozzle hole of double stage type by connecting a cylindrical hole with an arc-shaped hole by an etching means in stead of an excimer laser treatment, utilizing a resin substrate in stead of a silicon single crystal substrate.例文帳に追加

シリコン単結晶基板に替わる樹脂基板を用い、エキシマレーザ加工に替わるエッチング手段により、円筒状孔と弧状孔とが連通してなる二段形状のノズル孔を形成した、インクジェットヘッド用のノズル基板を提供する。 - 特許庁

To show a selection criterion of a silicon mono crystal substrate material quantitatively so as to form the size of a member evenly at etching, and to obtain an ink jet head using a silicon mono crystal substrate and a recoding device such as a printer using the head.例文帳に追加

エッチング時に部材の寸法を均一に形成できるようなシリコン単結晶基板材料の選択基準を定量的に表し、そのシリコン単結晶基板を用いたインクジェットヘッド、さらに、そのヘッドを用いた印刷等の記録装置等を得る。 - 特許庁

In addition, a second orifice plate 39 is stuck on the first orifice plate 35, and a second mask film 42 is formed on the surface of the second orifice plate 39, and channels 43 which prevent mixing of colored inks are made by etching and are made to communicate with the jet nozzles 38.例文帳に追加

続いて上記第１のオリフィス板材３５の上に第２のオリフィス板材３９を積層し、この表面にエッチング用第２マスク膜４２を形成し、エッチングを行って混色防止溝４３を穿設し、吐出ノズル３８と連通させる。 - 特許庁

The manufacturing method of the liquid jet head includes a step of laminating a first metal layer 191 enhancing adhesion and a second metal layer 192 serving as wiring on one surface of a channel formation substrate 10 where a piezoelectric actuator is formed, a step for patterning the second metal layer 192 by wet etching, and a step for patterning the first metal layer 191 by dry etching.例文帳に追加

圧電アクチュエーターが一方面に形成された流路形成基板１０の当該一方面に密着を向上する第１の金属層１９１と、配線となる第２の金属層１９２とを積層する工程と、前記第２の金属層１９２をウェットエッチングによりパターニングする工程と、前記第１の金属層１９１をドライエッチングによりパターニングする工程と、を具備することを特徴とする。 - 特許庁

The roughening method of a silicon substrate comprises: a process of applying an organic metal solution or an organic metal dispersion solution on a substrate in a dot shape with an ink jet method; a process of drying the substrate; a process of irradiating the surface of the substrate with plasma; and a process of etching the substrate.例文帳に追加

有機金属溶液あるいは有機金属の分散液を基板にインクジェット法でドット状に塗布する工程と、上記基板を乾燥する工程と、上記基板の表面にプラズマを照射する工程と、上記基板をエッチング処理する工程とを備えたシリコン基板の粗面化方法である。 - 特許庁

The method is employed to accurately compart the trench section 32 on the thermal ink jet print head 10 to be etched in the region of a substrate surface 34 and performs etching by protecting the element of an adjacent liquid-drop generator from being damaged by exposing the element to a silicon etchant with a rigid mask.例文帳に追加

サーマルインクジェットプリントヘッド(10)のトレンチ部分(32)を、エッチングされる基板表面(34)の領域を正確に画定し、且つシリコンエッチング液に曝されることによる損傷から近接する液滴発生器の構成要素を保護する強靱なマスクを使用してエッチングする方法。 - 特許庁

An ink jet head using a silicon wafer is formed on the major surface (110) thereof with an etching stop layer 350 composed of a material represented by SiXm (X is an element selected from among a group of O, N and C; m is an arbitrary number).例文帳に追加

シリコンウェハを用いたインクジェットヘッドであって、（１１０）面を主表面とするシリコンウェハ表面に、ＳｉＸ_m （Ｘは、Ｏ、ＮおよびＣからなる群から選ばれるいずれかの元素；ｍは任意の数）で表わされる材料からなるエッチングストップ層３５０が形成されたことを特徴とする。 - 特許庁

When a single crystal substrate 1 having surface of (100) face is prepared and openings for stripe-like etching are made in the substrate 1 in the direction of about 45° with respect to the (010) face orientation of the substrate, a stripe-like trench shape suitable for the liquid chamber of a high integration ink jet printer head can be formed.例文帳に追加

例えば表面が（１００）面の単結晶からなる基板１を用意し、基板１上に該基板の（０１０）面方位に対しほぼ４５°の方向に短冊状のエッチングのための開孔を施した場合、高集積化インクジェットプリンタヘッドの液室に好適な短冊状の堀形状を形成できる。 - 特許庁

Trench etching by ICP discharge is carried out to an ink nozzle formation part 220, an ink supply port formation part 230 and a filter hole formation part 270 of a silicon wafer 100 for forming a nozzle plate of the ink jet head, whereby a groove 221 for an ink nozzle, a groove 231 for an ink supply port and many fine blind holes 271 for filter holes are formed.例文帳に追加

インクジェットヘッドのノズルプレート形成用のシリコンウエハ１００におけるインクノズル形成部分２２０、インク供給口形成部分２３０およびフィルタ孔形成部分２７０に、ＩＣＰ放電によるトレンチエッチングを施して、インクノズル用の溝２２１、インク供給口用の溝２３１およびフィルタ孔用の多数の微細な盲孔２７１を形成する。 - 特許庁

A cavity plate 15 forming an ink jet head 30 comprises a clad material 16 integrating a first layer 15a and a second layer 15b of different material, and a manifold plate 15c stacked vertically wherein a pressure chamber 18 is formed in the first layer 15a and interconnecting holes 34 and 35 are formed in the second layer 15b, respectively, by etching.例文帳に追加

インクジェットヘッド３０を形成するキャビティプレート１５は、異なる材料の第１の層１５ａと第２の層１５ｂとが一体となったクラッド材１６と、マニホールドプレート１５ｃとが上下に積層されて構成されており、第１の層１５ａには圧力室１８が、第２の層１５ｂには連通孔３４，３５がそれぞれエッチングによって形成されている。 - 特許庁

To provide an electrostatic actuator which has high reliability and can print with high image quality at a low cost, by solving problems inherent in the electrostatic actuator having a gap formed by sacrificial layer etching, and to provide a liquid droplet discharge head, an ink cartridge integrated with the liquid droplet discharge head, and an ink jet recording apparatus mounted with the liquid droplet discharge head.例文帳に追加

犠牲層エッチングによりギャップを形成した静電型アクチュエータ固有の問題を改善することによって、低コストで、信頼性が高く、高画質印字が可能な静電型アクチュエータ、液滴吐出ヘッド、この液滴吐出ヘッドを一体化したインクカートリッジ、及びこの液滴吐出ヘッドを搭載したインクジェット記録装置を提供する。 - 特許庁

To provide a jet-type microwave-excited plasma treatment device that causes low-temperature non-thermal equilibrium plasma to be stably jetted from a nozzle by microwave power at atmospheric pressure or a pressure near atmospheric pressure to perform CVD (chemical vapor deposition), etching, or ashing using plasma on a workpiece, or material processing such as fusing, welding or surface reforming on a workpiece.例文帳に追加

大気圧下で又は大気圧付近の圧力で、マイクロ波電力により低温の非熱平衡プラズマを安定して、ノズルから吹き出させ、被加工物にプラズマを使用したＣＶＤ（化学蒸着）、エッチング、アッシング、被加工物に溶断又は溶接、表面改質等の材料プロセシングを行う吹き出し形マイクロ波励起プラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To stably form a conductive thin film of an element part with good yield by using an ink jet droplet supplying device without depending on a vacuum film formation method or photolithography etching method, for the manufacture of an electron source base plate having a surface conduction type electron emitting element with a large area, and to manufacture an image forming apparatus using the electron source base plate at low cost.例文帳に追加

特に大面積の表面伝導型電子放出素子を有する電子源基板の製造において、素子部の導電性薄膜をインクジェット液滴付与装置を用い、真空成膜法とフォトリソグラフィ・エッチング法によらずに、安定的に歩留まり良く形成することができるようにし、またそれによって電子源基板を有する画像形成装置を低価格で製造できるようにする。 - 特許庁

In the substrate-treating device 1, the substrate 9 is rocked at least once in a conveyance direction and its opposite direction within the jet range of the treatment liquid while the treatment liquid droplets are jetted toward a conveyance path from the plurality of nozzles 4, thus preventing treatment irregularities from being generated in the entire treatment region on the substrate 9 and performing the etching treatment to the substrate surface efficiently and uniformly.例文帳に追加

基板処理装置１では、処理液の液滴が複数のノズル４から搬送経路に向けて噴出される間に、処理液の噴出範囲内にて基板９を搬送方向およびその反対方向に１回以上揺動させることにより、基板９の処理領域全体において処理ムラの発生を防ぐことができ、基板表面に対して効率よく均一にエッチング処理を行うことができる。 - 特許庁