「jet etching」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

METHOD OF FORMING EMBEDDED WIRING LAYER AND JET-TYPE SPIN-ETCHING APPARATUS例文帳に追加

埋込配線層の形成方法及び噴流式スピンエッチング装置 - 特許庁

ETCHING METHOD FOR MACHINING SUBSTRATE, DRY ETCHING METHOD OF POLYETHERAMID RESIN LAYER, MANUFACTURE OF INK JET RECORDING HEAD, INK JET HEAD AND INK JET PRINTER例文帳に追加

基板に加工を行うためのエッチング方法およびポリエーテルアミド樹脂層のドライエッチング方法、並びに、インクジェット記録ヘッドの製造方法、インクジェットヘッドおよびインクジェットプリント装置 - 特許庁

To provide a method for etching a trench section on a thermal ink jet print head.例文帳に追加

サーマルインクジェットプリントヘッドのトレンチ部分をエッチングする方法を提供する。 - 特許庁

ANISOTROPIC ETCHING METHOD FOR SILICON SUBSTRATE AND METHOD OF MANUFACTURING INK JET RECORDING HEAD例文帳に追加

シリコン基板の異方性エッチング方法及びインクジェット記録ヘッドの製造方法 - 特許庁

ANISOTROPIC ETCHING METHOD FOR SILICON CRYSTAL, METHOD OF MANUFACTURING INK CHANNEL PLATE, INK CHANNEL PLATE, INK-JET PRINT HEAD, AND INK JET PRINTER例文帳に追加

シリコン結晶異方性エッチング方法、インク流路板製造方法、インク流路板、インクジェットプリントヘッドおよびインクジェットプリンタ - 特許庁

METALLIC MASK FOR DRY ETCHING, INK-JET PRINTER HEAD COMPRISING THE SAME, AND PRODUCTION METHOD THEREOF例文帳に追加

ドライエッチング用金属マスク、これを備えたインクジェットプリンタヘッド及びその製造方法 - 特許庁

INK SUPPLY TRENCH ETCHING TECHNIQUE FOR COMPLETELY INTEGRATED THERMAL INK-JET PRINTING HEAD例文帳に追加

完全に一体化した熱インクジェットプリントヘッド用のインク供給トレンチエッチング技術 - 特許庁

The manufacturing process of the ink jet head comprises the etching step for boring nozzle holes in a filmlike resin material by wet etching using ink jet method.例文帳に追加

フィルム状の樹脂材料にインクジェット法を用いたウエットエッチング法によりノズル孔を形成するエッチング工程を有することを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid jet head in which discharge characteristics are stabilized by preventing occurrence of projecting etching residues on an etching face of a vibrating plate manufactured by etching, and a liquid jet device provided with the liquid jet head.例文帳に追加

エッチングによって作製される振動板のエッチング面状における凸状エッチング残りの発生を防止することで吐出特性を安定させた液体噴射ヘッドの製造方法、及び、その液体噴射ヘッドを備えた液体噴射装置を提供する。 - 特許庁

TWO PROCESSES OF TRENCH ETCHING FOR FORMING COMPLETELY INTEGRATED THERMAL INK JET PRINT HEAD例文帳に追加

完全に一体化されたサーマル・インクジェットプリントヘッドを形成するための２段階のトレンチエッチング - 特許庁

A plurality of etching liquid jetting pipes 5, which jet an etching liquid 7 towards the substrate 1, are provided side by side in the width direction of the substrate 1.例文帳に追加

基材１の幅方向に並べて配設された、基材１に向けてエッチング液７を噴射する複数のエッチング液噴射管５を具備する。 - 特許庁

The two-fluid nozzle 9 mixes the supplied etching liquid and air, generates droplets of etching the liquid and can jet them to the substrate W.例文帳に追加

二流体ノズル９は、供給されたエッチング液と空気とを混合してエッチング液の液滴を生成し、ウエハＷに向けて噴射できる。 - 特許庁

FORMING METHOD OF HOLE OR GROOVE PART USING INDUCTIVELY COUPLED PLASMA ETCHING DEVICE AND MANUFACTURING METHOD OF INK JET HEAD例文帳に追加

誘導結合型プラズマエッチング装置を利用した穴または溝部の形成方法及びインクジェットヘッドの製造方法 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a liquid jet head in which an escape groove is formed by anisotropic etching while protecting the (111) plane defining a through-hole, and to provide a manufacturing method of a microdevice for achieving such anisotropic etching.例文帳に追加

貫通孔を構成する（１１１）面を保護しながら逃げ溝を異方性エッチングにより形成する液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

SILICON WET ETCHING PROCESS USING PARYLENE MASK AND METHOD FOR PRODUCING NOZZLE PLATE OF INK JET PRINTHEAD USING THIS PROCESS例文帳に追加

パリレンマスクを用いたシリコン湿式エッチング方法及びこの方法を用いたインクジェットプリントヘッドのノズルプレートの製造方法 - 特許庁

To provide an ink jet head excellent in characteristics, and a manufacturing method thereof, by performing etching process well.例文帳に追加

エッチング工程を良好に行なうことにより、特性に優れたインクジェットヘッドおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning method wherein, when etching a chemically stable material, the dry etching technique is mainly used while partially using the lift-off technique and thereby what is called the fence can be prevented and there is no overetching, and to provide a high-durability ink jet head using the same.例文帳に追加

化学的に安定な材料をエッチングする場合、ドライエッチングを主に、部分的にリフトオフをすることで、フェンスを防止し、オーバーエッチングのないパターン形成をする。 - 特許庁

To provide a gravure plate making method which makes it possible to directly form a negative image consisting of etching resists by jetting an etching resist forming solution to a roll to be processed having variety of sizes from an ink jet printing device and then form cells by etching the negative image.例文帳に追加

大きさが種々に異なる被製版ロールにインクジェット型のプリンタ装置によりエッチングレジスト形成液を噴射してエッチングレジストよりなるネガ画像を直接形成し得、その後エッチングしてセルを形成する、グラビア版の製版方法。 - 特許庁

Etching liquid jet plates 8 and 8 are provided opposite to each other at an interval so that a treating space 4 stood in the state being slanted a little is formed.例文帳に追加

少し傾斜して起立した処理空間（４）を形成するようエッチング液噴出プレ−ト（８），（８）を間隔をあけて対設する。 - 特許庁

The etching resistance protection film 103 on the SiN film 102 is removed and the PSG film 101 is removed, thereby completing a liquid jet head.例文帳に追加

そして、ＳｉＮ膜102上の耐エッチング保護膜103を除去し、さらにＰＳＧ膜101を除去することにより液体吐出ヘッドが完成する。 - 特許庁

To execute good patterning at an overall etching face by suppressing a surface roughness of the overall etching face and generation of micropyramids in a method for manufacturing ink jet heads of an electrostatic driving form.例文帳に追加

静電駆動方式インクジェットヘッドの製造方法において、全面エッチング面の表面粗さ及びマイクロピラミッドの発生を抑えることにより、全面エッチング面での良好なパターニングを行う。 - 特許庁

To provide the method of fabricating a silicon device and a method for manufacturing an ink-jet type recording head and a silicon wafer for reliably protecting circumferential faces in the case of etching to improve the reliability of etching.例文帳に追加

エッチングの際に外周面を確実に保護してエッチングの信頼性を向上することができるシリコンデバイスの製造方法及びインクジェット式記録ヘッドの製造方法並びにシリコンウェハを提供する。 - 特許庁

Alternatively, a buff polishing or jet scrubbing step (S22) may be performed before a resist coating step (S7), or a buff polishing or jet scrubbing step (S23) may be performed between a soft etching step (S9) and a gold plating step (S10).例文帳に追加

またレジスト塗布工程（Ｓ７）の前に、バフ研磨又はジェットスクラブ（Ｓ２２）を行ってもよいし、ソフトエッチング（Ｓ９）と金めっき処理（Ｓ１０）との間に、バフ研磨又はジェットスクラブ（Ｓ２３）を行ってもよい。 - 特許庁

The surface treatment device includes a nozzle 3 having a jet outlet 33a for injecting a treatment liquid for etching and an intake 34a for sucking the treatment liquid injected from the jet outlet 33a.例文帳に追加

エッチング用の処理液を噴出させる噴出口３３ａと、噴出口３３ａから噴出した処理液を吸引する吸入口３４ａと、を備えたノズル３を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a method for producing an ink jet head in which failure of production is reduced through a production process for blocking progress of silicon etching and a silicon channel plate is provided while reducing the cost, and to provide an ink jet head and an ink jet recorder.例文帳に追加

本発明は、シリコンエッチングが進行しないようにする製造工程によって製造不良が低減し、低コスト化を図れるシリコン流路板を提供するインクジェットヘッドの製造方法、インクジェットヘッド及びインクジェット記録装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a metal laminate forming method and a liquid jet head manufacturing method which can unerringly prevent etching residue on a substrate.例文帳に追加

基板へのエッチング残りを確実に防止することができる金属積層体の形成方法及び液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

A wafer 29 of an ink jet head board is placed on a jig 36 of a treating chamber 35 of a helicon wave etching unit, and mechanically or electrostatically fixed.例文帳に追加

ヘリコン波エッチング装置の処理室３５の治具３６上にインクジェットヘッド基板のウエハ２９を載置し機構的又は静電的に固定する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid jet head capable of forming a fluid channel of a pressure generation chamber or the like by etching with high accuracy.例文帳に追加

圧力発生室等の流路をエッチングにより高精度に形成することができる液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

On the surface of a silicon substrate 2A for forming an ink jet head, an ink pressure chamber and an ink supply chamber are formed by wet anisotropic etching.例文帳に追加

インクジェットヘッド形成用のシリコン基板２Ａの表面にインク圧力室およびインク供給室を湿式異方性エッチングにより形成する。 - 特許庁

Then, in the processes 5 to 6, a first orifice plate 35 is stuck on the partitions 34, and a first mask film 37 for etching is formed on the orifice plate 35, and jet nozzles 38 are made in the orifice plate 35 by etching.例文帳に追加

そして工程５及び工程６において、先ず、第１のオリフィス板材３５を隔壁３４の上に貼設し、この上にエッチング用第１マスク膜３７を形成し、エッチングを行って吐出ノズル３８を穿設する。 - 特許庁

To provide a method for producing an ink jet head at a low cost by taking advantage of anisotropic etching capable of micromachining a silicon single crystal substrate with high accuracy and sand blast etching for boring holes through the silicon substrate.例文帳に追加

シリコン単結晶基板に微細な形状を高精度で加工可能な異方性エッチングと、シリコン基板に貫通孔を形成するサンドブラストエッチングの利点を生かし、低コストなインクジェットヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a liquid jet head suitable to make nozzles densified and longer by applying anisotropic etching to a silicon wafer a surface of which is <110> plane and forming the liquid jet nozzles having rectangular cross-sections.例文帳に追加

表面が〈１１０〉面のシリコンウエハに異方性エッチングを施して断面矩形状の液吐出用ノズルを形成し、ノズルの高密度化および長尺化に好適な液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma jet generator which injects a high-density plasma in the form of jet from a fine nozzle to subject a local site of an article to be processed to a processing or surface treatment such as fusing, etching or thin film deposition at high speed.例文帳に追加

高密度プラズマを細いノズルからジェット状に噴出させ、被加工物の局所部位に溶断、エッチング、薄膜堆積などの加工、表面処理を高速で行うプラズマジェット発生装置を提供する。 - 特許庁

To provide a simple method for preventing an occurrence of a notch at a feed port in a liquid jet recording head forming a feed port by dry etching.例文帳に追加

供給口をドライエッチングによって形成する液体吐出記録ヘッドにおいて、供給口へのノッチ発生を防止可能な簡便な方法を提供する。 - 特許庁

Etching treatment parts 3a to 3c are provided with spin bases 11 which almost horizontally hold and rotate substrates W, etching droplet jet devices 10 for jetting droplets of etching liquid toward the substrates W kept by the spin bases 11 and treatment liquid supply devices 26 for switching etching liquid and pure water and supplying them to the substrates W kept by the spin bases 11.例文帳に追加

エッチング処理部３ａ〜３ｃは、ウエハＷをほぼ水平に保持して回転するスピンベース１１と、スピンベース１１に保持されたウエハＷに向けてエッチング液の液滴を噴射するエッチング液滴噴射装置１０と、スピンベース１１に保持されたウエハＷにエッチング液および純水を切り換えて供給可能な処理液供給装置２６とを含んでいる。 - 特許庁

In a second process, sand blast etching is performed from the nozzle surface side in a mask pattern formed of a dry film and then through holes communicating with the pressurized liquid chambers are made thus completing the ink jet head.例文帳に追加

第２の工程は、ノズル面側からドライフィルムで形成されたマスクパターンでサンドブラストエッチングを行い、加圧液室と連通する貫通孔を完成させる。 - 特許庁

To prevent a plating layer from peeling off around a substrate, without deteriorating chips in yield, in a method of forming an embedded wiring layer and a jet-type spin-etching device.例文帳に追加

埋込配線層の形成方法及び噴流式スピンエッチング装置に関し、チップ収率を低下させることなく、基板周辺でのメッキ層の膜剥がれを防止する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an ink jet head in which an orifice of correct shape is formed in a large orifice plate and the body substrate is not damaged by etching liquid.例文帳に追加

大型のオリフィス板に正しい形状のオリフィスを形成し且つ本体基板がエッチング液で損傷を受けることの無いインクジェットヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

As an etching liquid used in an etching stage where a recessed part for an ink pressure chamber, a recessed part for an ink reserver or the like are formed, e.g., on a cavity plate in an ink jet head, the one obtained by incorporating calcium, e.g., of ≥500 ppb into an alkali solution of KOH or the like is used.例文帳に追加

インクジェットヘッドのキャビティプレートなどにインク圧力室用凹部、インクリザーバ用凹部などを形成するためのエッチング工程において用いるエッチング液として、ＫＯＨなどのアルカリ溶液にカルシウムを例えば５００ｐｐｂ以上含むものを用いる。 - 特許庁

Furthermore, insulation properties of the ink jet die 104 can be enhanced by introducing an air gap 902 between the substrate and the passivation layer 308 by etching.例文帳に追加

さらに、エッチング等により、基板とパッシベーション膜３０８の間にさらに空隙９０２を導入することで、より絶縁性に優れたインク噴出ダイ１０４を提供することが可能である。 - 特許庁

A solar cell can be produced at a relatively low cost without requiring any expensive facility because ink jet method is employed for forming an etching mask in the inventive solar cell production method.例文帳に追加

本発明の太陽電池の製造方法は、エッチング用マスクの形成にインクジェット法を用いていることから、高価な設備を用いること無く、比較的低コストで太陽電池を製造できる。 - 特許庁

To provide a forming method of a hole or a groove part using an inductively coupled plasma etching device free to maintain etching speed and working quality and a manufacturing method of an ink jet head.例文帳に追加

誘導結合型プラズマエッチング装置において、処理時間や処理枚数の増加にともない、チャンバー内壁へフッ素化合物のポリマーが付着していくことによる、エッチング速度低下改善およびノズル穴または溝部の深さ方向に対する垂直性およびウェハ面内の深さバラツキ低減方法の確立。 - 特許庁

To suppress the remainder after etching in the second insulating film 2 or generation of side etching for a device separating structure comprising the first and second insulating films for suppressing a mixed colors and avoiding short-circuiting in a display of an organic electroluminescence in which a luminescence layer is formed by an ink-jet process.例文帳に追加

インクジェットプロセスにより発光層が形成される有機エレクトロルミネッセンス表示装置において、混色抑制と短絡回避のために、第１の絶縁膜および第２の絶縁膜を備えた素子分離構造に対して、第２の絶縁膜2のエッチング残さやサイドエッチの発生を、抑制する。 - 特許庁

In the ink jet print head, trench-like or rectangular recesses are formed by etching the surface or rear surface of a thin stainless steel plate and a through hole is formed at a part where these shapes overlap thus constituting a filter section.例文帳に追加

ステンレス鋼の薄板の表面及び裏面をエッチングすることにより溝状または矩形状等の凹部を形成し、その形状の重なり合う部分に貫通孔を形成してフィルタ部を構成した。 - 特許庁

Since an etching mask having a fin pitch can be formed by ink jet method, a fine protruding/recessed structure can be obtained and since the light confinement effect is improved, a high efficiency solar cell can be produced.例文帳に追加

また、インクジェット法により、ピッチが小さいエッチング用マスクを形成できるので、微細な凹凸構造ができ、その結果、光閉じ込め効果が改善されるので、高効率の太陽電池を得ることができる。 - 特許庁