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layer elementsの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2250件
In comparison with conventional EL elements, this EL element has a configuration of inverted lamination order of the luminescent layer and the insulating layer so as to afford excellent effects on a longer service life and high luminance.例文帳に追加
従来のEL素子と比較して,発光層と絶縁層の積層順序を反転した構造体を有しており,EL素子の長寿命化,高輝度化に優れた効果がある。 - 特許庁
Each of the resistive elements RM1 and RM2 is constituted of a plug 23 (lower electrode) and an adhesive layer 24, a memory layer 25, and an upper electrode 26 stacked on it.例文帳に追加
抵抗素子RM1、RM2のそれぞれは、プラグ23(下部電極)と、その上部に積層された接着層24、記憶層25および上部電極26によって構成されている。 - 特許庁
A plurality of antenna elements are formed on the surface of a first insulating material layer on the first and second sides of which a conductive material layer is formed such as a printed circuit board.例文帳に追加
プリント回路板などのように、第1面と第2面との両面に導電材料層が形成された第1絶縁材料層の表面に、複数のアンテナエレメントを形成する。 - 特許庁
Consequently, metal elements precipitated into the resistance change layer 22 during erasure dissolve easily into the ion source layer 21, and the resistive state after writing and erasure is maintained.例文帳に追加
これにより、消去時に抵抗変化層22中に析出した金属元素がイオン源層21へ溶解しやすくなると共に、書き込みおよび消去後の抵抗状態が維持される。 - 特許庁
A cathode active substance layer 12 is formed by forming a precursor layer containing active substance particles 12A containing Si and Li as constitutional elements, and heating it afterwards.例文帳に追加
負極活物質層12は、構成元素としてSiとLiとを含む活物質粒子12Aを含有する前駆体層を形成したのち、加熱することにより形成される。 - 特許庁
In a step 11, transistor elements are formed on a semiconductor wafer, and a laminated wiring metal film composed of a prescribed wiring metal layer and an antireflection film or a barrier layer is formed on all the surface of a wafer.例文帳に追加
ステップ11で半導体ウェハへのトランジスタ素子形成後、所定の配線金属層及び反射防止膜またはバリア層からなる積層配線金属膜をウェハ全面に形成する。 - 特許庁
The method includes a step (S2) of enriching interstitial defects (105a) of the first layer (102), in order to limit the elements of the first layer from vacancy diffusion.例文帳に追加
本発明の方法は、前記第1の層の元素が空孔拡散するのを制限するために、第1の層(102)を格子間欠陥(105a)で富化させるためのステップ(S2)を含む。 - 特許庁
The halftone phase shift layer comprises a monolayer or multilayer film including one metal silicide-base layer containing one or more elements selected from oxygen, nitrogen and fluorine.例文帳に追加
そして、上記において、ハーフトーン位相シフト層が金属シリサイドを主成分とし、酸素、窒素、フッ素の中から少なくとも一つ以上の元素を含む1層を含む、単層または多層膜からなる。 - 特許庁
Generating elements 2 of three layer structure made of a negative electrode 4, a positive electrode, and a conductor membrane 3 provided in close contact between the negative electrode and the positive electrode are arranged plural pieces in the direction of the layer.例文帳に追加
陰極4と、陽極5と、陰極と陽極との間に密着して設けられた伝導体膜3とからなる3層構造の発電素子2が層方向に複数配列される。 - 特許庁
The first and the second protective layers consists of a mixture of ZnS and SiO_2, the recording layer has Ge, Sb and Te as main constituent elements and the reflective heat dissipation layer 5 consists of Al alloy.例文帳に追加
第1、第2の保護層はZnSとSiO_2の混合物よりなり、記録層はGe、Sb、Teを主たる構成元素とし、反射放熱層5はAl合金よりなる。 - 特許庁
To provide an electric double-layer capacitor, wherein the thickness of the whole electric double-layer capacitor is made thinner as compared with a conventional one even when two or more capacitor elements to be covered with a housing are connected in series.例文帳に追加
外装体で覆われるキャパシタ素子を2個以上直列接続しても、電気二重層キャパシタ全体の厚みが従来よりも薄型となる電気二重層キャパシタを提供する。 - 特許庁
Laser elements 30-1 to 30-5 including an active layer and a pair of mirror layers sandwiching the active layer are arrayed on the same substrate 20 of a VSCEL array 10.例文帳に追加
VSCELアレイ10は、活性層と、活性層を挟み込む1対のミラー層とを備えたレーザ素子30−1〜30−5を同一基板20上にアレイ状に配置している。 - 特許庁
An intermediate material layer 28 generating a bonding strength is formed at an interface 27 between a first substrate 11 and a second substrate 12, and a plurality of metal elements are included in this intermediate material layer.例文帳に追加
第1基板11と第2基板12との界面27には、接合強度を生起する中間材層28が形成され、この中間材層に複数の金属元素が内在している。 - 特許庁
Consequently, a diffusion condition of impurities to the infrared laser active layer (quantum well layer ) 12 can be controlled by adjusting a mixture ratio of the two elements Mg and Zn.例文帳に追加
したがって、この2つの元素MgとZnの混合比を調整することで、赤外レーザ活性層(量子井戸層)12への不純物の拡散条件をコントロールすることができる。 - 特許庁
As a result of this process, a multilayered film structure consisting of a pure aluminum layer and an aluminum alloy layer containing metallic elements is formed, thereby forming an electrode film which can effectively control hillock.例文帳に追加
この方法により、純アルミニウム層と、金属元素を含むアルミニウム合金層の多層膜構造が形成され、効果的にヒロックを抑制できる電極膜を形成することができる。 - 特許庁
Each of the organic EL elements 20a, 20b includes a light emission layer which emits the light, and a transparent substrate having the shape larger than that of the light emission layer in plane view.例文帳に追加
有機EL素子20a,20bはそれぞれ、光を出射する発光層と、平面視した状態において、発光層よりも大きい形状を有する透明基板と、を含む。 - 特許庁
This display device includes a pixel driving circuit forming layer 112 containing a drive transistor and a write transistor, and a plurality of organic light-emitting elements 10 in each of which a first electrode layer 13, an organic layer 14 containing a luminescent layer, and a second electrode layer 16 are each laminated one by one from the substrate 111 side, on a substrate 111.例文帳に追加
この表示装置は、基板111上に、駆動トランジスタおよび書込トランジスタを含む画素駆動回路形成層112と、基板111の側から第1電極層13、発光層を含む有機層14、および第2電極層16が各々順に積層されてなる複数の有機発光素子10とを備える。 - 特許庁
A radiation detection device comprises: a scintillator panel including a scintillator layer for converting radiation into light and a scintillator protective layer for protecting the scintillator layer; and a sensor panel including a sensor array on which a plurality of photoelectric conversion elements for detecting the light from the scintillator layer are arranged and a sensor protective layer for protecting the sensor array.例文帳に追加
放射線検出装置は、放射線を光に変換するシンチレータ層と前記シンチレータ層を保護するシンチレータ保護層とを含むシンチレータパネルと、前記シンチレータ層からの光を検出する複数の光電変換素子が配列されたセンサアレイと前記センサアレイを保護するセンサ保護層とを含むセンサパネルと、を備える。 - 特許庁
An adhesive metallic layer 2 and a diffusion prevention layer 3 are laminated in sequence on an inorganic insulation substrate 1, and an Au layer 4 and a metallic brazing material layer 5 for joining semiconductor elements are provided on the diffusion prevention layer 3 apart from each other with a specified interval of distance, thereby forming a semiconductor element mounting part.例文帳に追加
無機絶縁基板上1に、密着性金属層2および拡散防止層3を順次積層するとともに、該拡散防止層3上にAu層4と半導体素子接合用の金属ロウ材層5とを所定間隔を開けて分離させてそれぞれ設けて成る半導体素子搭載部を形成した。 - 特許庁
A field-effect transistor has: a gate insulating film 22; an oxide semiconductor layer 14 containing main constituent elements of Sn, Zn, and O, or Sn, Ga, Zn, and O as an active layer; and an oxide intermediate layer 16 arranged between the gate insulating film 22 and the oxide semiconductor layer 14 and having a resistivity higher than that of the oxide semiconductor layer 14.例文帳に追加
ゲート絶縁膜22と、活性層としてSn,Zn及びO、又はSn,Ga,Zn及びOを主たる構成元素とする酸化物半導体層14と、ゲート絶縁膜22と酸化物半導体層14との間に配置され、酸化物半導体層14よりも抵抗率が高い酸化物中間層16と、を有する。 - 特許庁
The dye-sensitized solar cell 100 includes a glass substrate 1, a transparent conductive layer 1, a porous semiconductor layer 2, a porous insulating layer 3, a plurality of photoelectric conversion elements 10 comprising counter electrode layers 4, a cover glass substrate 22, and a first glass frit layer 23 and a second glass frit layer 24 as the sealing material.例文帳に追加
色素増感太陽電池100は、ガラス基板1と、透明導電性層1、多孔質半導体層2、多孔質絶縁層3、対極層4からなる複数の光電変換素子10と、カバーガラス基板22と、封止材としての第1のガラスフリット層23及び第2のガラスフリット層24を有する。 - 特許庁
Organic light-emitting elements 10R, 10G and 10B have a resonator structure in which an end face closer to an upper organic layer 15 of a first electrode layer 13 is a first end P1 and an end face closer to an upper organic layer 15 of a second electrode layer 16 is a second end P2 on a planarized insulating layer 12 disposed on a substrate 11.例文帳に追加
有機発光素子10R,10G,10Bは、基板11に設けられた平坦化絶縁層12の上に、第1電極層13の上部有機層15側の端面を第1端部P1、第2電極層16の上部有機層15側の端面を第2端部P2とする共振器構造を有するものである。 - 特許庁
In this method of encapsulating optoelectronic elements, by embedding the elements to be encapsulated between a first transparent polymer layer and a second polymer layer, which is filled with unactivated foaming agent, and then activating the foaming agent, so that both the polymer layers are joined to each other, in particular, welded to each other, and the elements are enclosed between both the polymer layers.例文帳に追加
オプトエレクトロニクス素子の封入方法であって、被封入素子を、第1の透明なポリマー層と、未活性化発泡剤が充填された第2のポリマー層との間に埋め込み、次に発泡剤を活性化し、それによって、両ポリマー層を相互に結合し、特に相互に溶接し、素子を両ポリマー層の間に閉じ込める封入方法。 - 特許庁
The semiconductor device comprises: a plurality of first capacitor holes 52 bored in an insulating layer; DRAM cells comprising capacitive elements C formed in the first capacitor holes 52 and transistors Tr coupled to the capacitive elements C; a plurality of second capacitor holes 40 bored in the insulating layer; and fuse elements (31, 51) formed between the second capacitor holes 40.例文帳に追加
この半導体装置は、絶縁層に設けられた複数の第1キャパシタ孔52と、第1キャパシタ孔52に形成された容量素子Cと、容量素子Cと結合するトランジスタTrとからなるDRAMセルと、絶縁層に設けられた複数の第2キャパシタ孔40と、第2キャパシタ孔40の間に形成されるフューズ素子(31、51)と、を備えている。 - 特許庁
As the discriminating substance, Fe, Cr, Nd, or the like, is used and the discriminability with which the mask layer 2 is provided by dispersing atoms of any of these elements into the mask layer 2, is not deteriorated even when the mask layer 2 is exposed to the conditions under which a GaN-based crystal semiconductor is grown.例文帳に追加
識別用物質には、Fe、Cr、Ndなどを用い、これらの原子の分散によってマスク層に与えられた識別性が、GaN系半導体の結晶成長の条件にさらされても失われないものとする。 - 特許庁
The method of the present invention includes a process of forming at least one layer of the organic electroluminascence layer 3 without separating the layer 3 between the adjacent light "Si emitting picture elements and a process of forming the second electrodes 4 using a shadow.例文帳に追加
有機エレクトロルミネッセンス層3の少なくとも1層を隣接する発光画素間で分断することなく形成する工程と、第二電極4を複数の開口部を有するシャドーマスクを用いて形成する工程とを含む。 - 特許庁
A negative electrode active material layer between a negative electrode collector layer 11 and a solid electrolyte layer 13 has a line-and-space structure where a plurality of linear elements 121 extending in the direction of the Y axis is arranged separately from each other.例文帳に追加
負極集電体層11と固体電解質層13との間に形成する負極活物質層は、Y方向に延びるライン状パターン121が互いに離隔して複数配置されたラインアンドスペース構造とされる。 - 特許庁
The coated member is provided with a magnesium base material essentially consisting of magnesium(Mg), an oxidized layer formed on the magnesium base material, and a coating layer consisting of oxides or sulfides of the group VIa elements, and formed on the oxidized layer.例文帳に追加
マグネシウム(Mg)を主成分とするマグネシウム基材と、マグネシウム基材上に形成された酸化層と、酸化層上に形成された第VIa属元素の酸化物や硫化物からなる被覆層と、を備えることを特徴とする被覆部材。 - 特許庁
The intermediate layer 12 made of magnesia spinel (MgAl_2O_4), the lowr conductive layer 13 made of elements of a platinum group or their alloy, and the oxide layer 14 with crystal structure having a simple perovskite lattice are formed through epitaxial growth.例文帳に追加
マグネシアスピネル(MgAl_2O_4)よりなる中間層12、白金族の元素またはその合金よりなる下部導電層13、単純ペロブスカイト格子を有する結晶構造の酸化物層14はエピタキシャル成長して形成される。 - 特許庁
Then, elements of the substance to be transmuted are transmuted by locating it on the surface on the other side of the mixture layer 14 in the surface layer 16 and passing through deuterium from the side of the surface layer 16 to the side of the substrate 12.例文帳に追加
そして、表面層16の非混合層側の表面上に被変換物質が配置され、表面層16側から基板12側へと重水素が通過されることによって、被変換物質の元素変換が行われる。 - 特許庁
A magnetic layer, forming two magnetic tunnel effect elements 11 and 21, are formed as a magnetoresistance effect element on a substrate, and a magnetic layer for applying magnetic field made of NiCo is formed in a manner so as to pinch the magnetic layer, as viewed from the top.例文帳に追加
基板10上には磁気抵抗効果素子として二つの磁気トンネル効果素子11,21となる磁性層が形成され、同磁性層を平面視において挟むようにNiCоからなる磁場印加用磁性層が形成される。 - 特許庁
The semiconductor device 1 includes a semiconductor element layer 2 on which a plurality of semiconductor elements (not shown) are formed, an interconnection layer 3, first nitride films 4, copper interconnections 5, barrier layers 6, adhesive layers 7, a second nitride layer 8, and a wire 9.例文帳に追加
半導体装置1は、複数の半導体素子(図示略)が形成された半導体素子層2と、配線層3と、第1窒化膜4と、銅配線5と、バリア層6と、接着層7と、第2窒化膜8と、ワイヤ9とを備えている。 - 特許庁
In the manufacturing method of the electroluminescent element, a produced substrate is doped with rare earth elements as a luminous layer, a silicon-rich layer is vapor-deposited on a gate oxide layer, damages generated in a layer doped with the rare earth elements and rich in silicon is restored by annealing and oxidizing a structure, and the electroluminescent element is built in a CMOS IC.例文帳に追加
本発明は、作成された基板上に、発光層として希土類がドープされ、且つシリコンリッチな層をゲート酸化物層上に蒸着し、構造体をアニールおよび酸化して上記希土類がドープされ且つシリコンリッチな層に引き起こされる損傷を修復し、CMOS ICに上記エレクトロルミネセンス素子を組み込むことを含むエレクトロルミネセンス素子の製造方法に関する。 - 特許庁
A gap part 26 between division recording elements 20 is filled with a non-magnetic body 28, thereafter a first mask layer 34 is removed.例文帳に追加
分割記録要素20間の隙間部26を非磁性体28で充填してから第1のマスク層34を除去するようにした。 - 特許庁
A protection layer is located on the substrate, covers the fingerprint detection elements to form a flat external surface to be in contact with a finger.例文帳に追加
保護層は、基板上に位置し、指紋検出素子を覆蓋することにより、平坦の外表面を形成し、指に接触する。 - 特許庁
A product actual pattern region CPA represents a region of a plurality of elements that are connected with a wiring layer, and then integrated into a circuit not shown in the figure.例文帳に追加
製品実パターン領域CPAは、図示しないが複数の素子を配線層で接続し集積回路化した領域を示す。 - 特許庁
The adhesive layer 4 does not contain halogen elements and has as a principal component copolymerized polyester introducing phosphorus atoms in a molecule.例文帳に追加
接着剤層4は、ハロゲン元素を含有しておらず、また、分子内にリン原子を導入した共重合ポリエステルを主成分としている。 - 特許庁
The pair of wiring elements (11, 12; 13, 14) are interconnected in the wiring layer of at least one wiring element.例文帳に追加
ここで、一対の配線要素(11,12;13,14)は、少なくとも一方の配線要素の配線層において互いに接続されている。 - 特許庁
To a fixed layer of the TMR elements 10, first wiring 11A extended in an X direction and functioning as read wiring is connected.例文帳に追加
TMR素子10の固定層には、読み出し配線として機能するX方向に延びる第1配線11Aが接続される。 - 特許庁
(b) The recording layer has main constituent elements of Ag, In, Sb and Te.例文帳に追加
30nm<UL<250nm 8nm≦PL≦ 25nm 10nm≦TL≦200nm 30nm≦RL≦200nm (ロ)記録層がAg、In、Sb、Teを主構成元素とする。 - 特許庁
The resin material can limit the expansion of the conductive polymer layer to the extent that it is not virtually peeled off from the capacitor elements.例文帳に追加
樹脂材料が、導電性ポリマー層の膨張をそれがコンデンサ要素から実質的に剥離しない程度まで制限することができる。 - 特許庁
The active layer 11 contains a first electron conductive material that is active to hydrocarbon, and zirconium oxide added with first rare earth elements.例文帳に追加
活性層11が、炭化水素に活性な第1電子伝導性物質と、第1希土類元素を添加した酸化ジルコニウムとを含む。 - 特許庁
The reforming layer 12 contains a second electron conductive material that is active to the hydrocarbon, and cerium oxide added with second rare earth elements.例文帳に追加
改質層12が、炭化水素に活性な第2電子伝導性物質と、第2希土類元素を添加した酸化セリウムとを含む。 - 特許庁
To deposit an insulation layer having an excellent gap filling property by using a deposit etching technology without clipping in a trench mask and circuit elements.例文帳に追加
堆積エッチング技術を使用し、トレンチマスク及び回路素子をクリツピング無しで優れたギヤツプ充填特性の絶縁層を堆積する。 - 特許庁
The first layer of the dielectric 20 is composed of a plurality of elements 21 to 24 divided to cover the opposing surface of the electrode 30 without leaving any space.例文帳に追加
第1層の誘電体20は、電極30の対向面を隙間なく覆うように分割された複数の要素21〜24からなる。 - 特許庁
The first layer 211 is formed by using phosphor particles including oxygen O and gadolinium Gd and europium Eu which are rare earth elements.例文帳に追加
第1層211は、酸素Oおよび希土類元素のガドリニウムGd、ユウロピウムEuを含有する蛍光体粒子を用いて形成する。 - 特許庁
The negative electrode active material layer 21B includes Si as a constituent element, and includes ferromagnetic metal elements such as Fe, Ni, Co.例文帳に追加
負極活物質層21Bは、構成元素としてSiを含むと共にFe,Ni,Coなどの強磁性金属元素を含んでいる。 - 特許庁
The first and second elements are connected electrically through through holes 113X, 113Y made in the epitaxial layer 104.例文帳に追加
第1の素子と第2の素子とは、エピタキシャル層104に形成されたスルーホール113X,113Yを介して電気的に接続される。 - 特許庁
The magnetic memory element has a magnetic tunnel junction layer C, which is cylindrically formed having coaxially arranged constituent elements.例文帳に追加
磁気トンネル接合層Cを備える磁気メモリ素子において、磁気トンネル接合層Cは、構成要素が同心に備えられた円筒形である。 - 特許庁
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