「mask hole」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The bronchial asthma bodily feeling mask comprises: (A) a vent hole with an air valve, which ventilates air from the outside of the mask to the inside of the mask but does not ventilate the air from the inside of the mask to the outside of the mask; and (B) a vent hole with a mechanism for adjusting a ventilation amount.例文帳に追加

（Ａ）マスク外からマスク内へ通気するがマスク内からマスク外へ通気させないエアバルブを備えた通気孔、及び（Ｂ）通気量を調節する機構を備えた通気孔を有する気管支喘息体感マスク。 - 特許庁

The mask includes a mask layer 1 with a thickness of 1 to 50 μm having at least one through-hole 1, and the surface of the mask layer 1 is provided with a magnetic mask 2 without clogging the through-hole in the mask layer 1.例文帳に追加

少なくとも１つの貫通孔１を有する厚みが１μｍ以上５０μｍ以下のマスク層１を有し、上記マスク層１上に、該マスク層１が有する貫通孔１を塞ぐことなく磁性マスク２を有する。 - 特許庁

An opening diameter J of a printing mask hole 53 on a metal mask 51 is made smaller than an opening diameter L of a bottomed via hole 63 on a multilayer substrate 61.例文帳に追加

メタルマスク５１の印刷マスク孔５３の開口径Ｊを多層基板６１の有底ビア穴６３の開口径Ｌよりも小さくする。 - 特許庁

The lighting field mask 24 is mounted on a front face of a cylindrical cap 32 by screwing a screw 36 into a screw hole 34 through a long hole 35 formed on the lighting field mask.例文帳に追加

採光野マスク２４を、その長孔３５にねじ３６を通してねじ穴３４にねじ込むことにより、円筒キャップ３２の前面に取り付ける。 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING CIRCUIT BOARD AND MASK FILM ATTACHMENT HOLE DRILLING APPARATUS例文帳に追加

回路板の製造方法及びマスクフィルム用取付孔穿設装置 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR INSPECTING MINUTE HOLE, AND SHADOW MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

微細孔の検査方法及びその装置並びにシャドウマスクの製造方法 - 特許庁

A hard mask is manufactured for forming the contact hole.例文帳に追加

コンタクトホールを形成するためにハードマスクを作製する。 - 特許庁

HALF-TONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND HOLE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク及びホールパターン形成方法 - 特許庁

PHASE SHIFT MASK AND HOLE PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスク及び、それを用いたホールパターン形成方法 - 特許庁

Each small hole of the main mask has a diameter gradually decreased from the surface on the electron gun side of the main mask toward the large hole, and each small hole of the auxiliary mask has a diameter almost constant or a diameter gradually increased from the other surface of the auxiliary mask toward the large hole.例文帳に追加

主マスクの各小孔は、主マスクの電子銃側表面から大孔に向かって徐々に減少した径を有し、補助マスクの各小孔は、補助マスクの上記他方の表面から上記大孔に向かってほぼ一定の径あるいは徐々に増加した径を有している。 - 特許庁

Then, in the method of forming a contact hole, the metal mask 5 is removed.例文帳に追加

そして、金属マスク５を除去するコンタクトホールの形成方法である。 - 特許庁

When the through hole of a substrate is closed, a mask 22 which has a hole at the plate 20 of the through hole is formed on the plate surface.例文帳に追加

基板のスルーホールを閉鎖するに際し，スルーホールの箇所２０に穴を有するマスク２２を板面上に形成する。 - 特許庁

When a through hole of a board is closed, a mask 22 having a hole at a region 20 of the through hole is formed on a place face.例文帳に追加

基板のスルーホールを閉鎖するに際し，スルーホールの箇所２０に穴を有するマスク２２を板面上に形成する。 - 特許庁

Additional hole shapes 21 as narrower dummy hole shapes are disposed additionally, next to a main isolated hole shape 11 of a binary mask 12.例文帳に追加

バイナリーマスク１２のメインの孤立穴形状１１の隣に、より狭幅のダミー穴形状である付加穴形状２１を追加配置する。 - 特許庁

To make the thickness of a mask host small, while preventing breaking of the mask host of a stencil mask and to make a transmission hole pattern formed in the mask host thin.例文帳に追加

ステンシルマスクのマスク母体の破断を防止しつつマスク母体の厚さを薄くして、マスク母体に形成される透過孔パターンを微細化できるようにする。 - 特許庁

Consequently, the mask 1 can be aligned by sliding the mask 1 on the base 10 so that each ball electrode of the BGA 23 is positioned immediately below each printing hole 4 of the printing mask 1 by visually observing each ball electrode through the printing holes 4 of the mask 1.例文帳に追加

これにより、印刷マスクの印刷孔４と通してＢＧＡの各ボール電極を目視しながら、各ボール電極が各印刷孔の直下に位置するように、印刷マスクをスライド移動させて位置合わせを行うことができる。 - 特許庁

ETCHING MASK, METHOD FOR FORMING CONTACT HOLE WHICH USES THE ETCHING MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE FORMED BY THE METHOD例文帳に追加

エッチングマスク及びエッチングマスクを用いたコンタクトホールの形成方法並びにその方法で形成した半導体装置 - 特許庁

Each frame of the mask is provided with a through hole passing through the mask for generating the pattern light corresponding to each frame.例文帳に追加

マスクは、各フレームごとに、マスクを貫通する貫通穴を、各フレームに対応するパターン光を生成するために備えている。 - 特許庁

The first hard mask 32 and the second hard mask 34 have a stripe-shaped opening and an opening of the contact hole is formed at its intersection part.例文帳に追加

第１のハードマスク３２と第２のハードマスク３４はストライプ状の開口を有し、その交差部にコンタクトホールの開口が形成される。 - 特許庁

Transmission hole pattern 23a are formed in a mask pattern forming region 27 of an amorphous silicon film 23 which is a mask host.例文帳に追加

マスク母体となる非晶質シリコン膜２３のマスクパターン形成領域２７には透過孔パターン２３ａが形成されている。 - 特許庁

The organic interlayer film 6 and inorganic interlayer film 5 are etched to form a via hole using the cover mask 10 as a mask.例文帳に追加

そして、カバーマスク１０をマスクとして、有機層間膜６及び無機層間膜５をエッチングしてビアホールを形成する。 - 特許庁

To provide a photo mask which allows an isolated pattern hole to sufficiently receive light so as to make up for the insufficiency of the light, and to provide a method for fabricating the photo mask.例文帳に追加

孤立したパターンホールの受光不足を補うことができるフォトマスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The protective film filled into the contact hole is etched by a second etching process with the hard mask pattern as a mask.例文帳に追加

前記ハードマスクパターンをマスクとした第２エッチング工程によって、前記コンタクトホールの内部に充填された前記保護膜をエッチングする。 - 特許庁

To remove a printing agent retained in a screen hole of a screen mask and the printing agent turned to the back side of a screen mask by mechanically sucking the agents.例文帳に追加

機械的にスクリーンマスクのスクリーン孔内に残った印刷剤及びスクリーンマスクの裏側に回った印刷剤を吸い出して除去する。 - 特許庁

Subsequently, the base material is etched through at least one opening forming the mask opening and a mask hole.例文帳に追加

引き続き、ベース材料は少なくとも１つのマスク開口部を生成する開口部とマスク孔を通じてエッチングされる。 - 特許庁

The masking mechanism 10 for the substrate lays out a mask 12 at a position closed to a substrate 1, and sets a film-forming area through a hole 13 of the mask 12.例文帳に追加

基板マスキング機構１０は、基板１の至近位置にマスク１２を配置し、マスク１２の孔１３を通して成膜領域を設定する。 - 特許庁

The deposition mask has more than one through-hole 40 formed to pierce the first and second faces 42 and 44 running through the mask.例文帳に追加

第１面４２及び第２面４４を貫通するように複数の貫通穴４０が形成されている。 - 特許庁

The solder paste printing device 100 includes: a squeegee module 130; and a mask that has a first mask 110 arranged at the top of a substrate and formed with a first pattern hole, and a second mask 120 arranged separately above the first mask 110 and formed with a second pattern hole.例文帳に追加

この半田ペースト印刷装置１００は、スクイージーモジュール１３０；及び基板の上部に配置され、第１パターンホールが形成された第１マスク１１０と、第１マスク１１０の上方に離隔して配置され、第２パターンホールが形成された第２マスク１２０とを備えるマスクを含んでなる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a mask capable of forming by exposure a contact hole pattern which has a fine hole diameter and in which the contact holes ranging from isolated contact holes to contact hole arrays coexist with high resolution and without replacing the mask.例文帳に追加

微細なホール径を持ち、コンタクトホールあるいは孤立コンタクトホールからコンタクトホール列までが混在するコンタクトホールパターンを、マスクを交換せずに、高解像度で露光可能なマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

A right alignment through-hole 11R of the left metal mask is set at a left alignment mark 21L of the fixing mask, a left alignment through-hole 11L of the right metal mask is set at a right alignment mark 21R, and a part where the left metal mask and the right metal mask are overlapped with the fixing mask is jointed by spot welding 50.例文帳に追加

固定用マスクの左位置合わせマーク２１Ｌに左メタルマスクの右位置合わせ貫通孔１１Ｒを合わせ、右位置合わせマーク２１Ｒに右メタルマスクの左位置合わせ貫通孔１１Ｌを合わせ、固定用マスクに左メタルマスク及び右メタルマスクが重なる部分をスポット溶接５０で接合させる。 - 特許庁

To provide a system for designing a shadow mask to design an exposure mask having a hole shape (a large diameter and a small diameter) of the most suitable open mask at each position of the shadow mask and to set manufacturing conditions, for the design values of the shadow mask.例文帳に追加

シャドウマスクの設計値に対して、シャドウマスク各位置での最適な開口マスクの孔形状（大口径及び小孔径）を有する露光マスクの設計及び製造条件を設定するためのシャドウマスク設計システムを提供することを目的とする。 - 特許庁

The fine hole patterns are formed by using the mask arranged with the negative resist and the auxiliary patterns.例文帳に追加

ネガレジストと、補助パターンを配置したマスクを用いて微細ホールパターンを形成する。 - 特許庁

MASK FOR SOLDER COATING OF THROUGH HOLE ELECTRODE AND SOLDER COATING METHOD例文帳に追加

スルーホール電極のはんだコーティング用マスクおよびはんだコーティング方法 - 特許庁

Next, a mask for processing of a connection hole and a wiring groove is formed by a silylation method.例文帳に追加

次に、接続孔及び配線溝の加工用マスクをシリル化法により形成する。 - 特許庁

(A) An etched hole is formed on the nitride film 14 using the resist film 30 as a mask.例文帳に追加

レジスト膜３０をマスクとして窒化膜１４に抜き穴を形成する（図１（Ｂ））。 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT, SHARED MASK FOR FORMING VIA-HOLE, AND SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT例文帳に追加

半導体集積回路の製造方法、ヴィアホール形成用共用マスクおよび半導体集積回路 - 特許庁

To provide a dielectric film having a finer contact hole than a mask pattern formed on an upper side.例文帳に追加

上部に形成されたマスクパターンより微細なコンタクトホールを誘電体膜に形成すること。 - 特許庁

The auxiliary mask has the electron beam passing hole corresponding to one part of the fluorescent substance screen.例文帳に追加

補助マスクは蛍光体スクリーンの一部に対応した電子ビーム通過孔を有している。 - 特許庁

Then, the semiconductor substrate 1 is etched with the resist layer 8 as a mask, so as to form a via hole 9.例文帳に追加

次に、レジスト層８をマスクとして半導体基板１をエッチングし、ビアホール９を形成する。 - 特許庁

Then, a nozzle hole is formed in the surface Si layer of the SOI substrate by etching the mask opening.例文帳に追加

次に、マスク開口をエッチングして、ＳＯＩ基板の表面Ｓｉ層にノズル孔を形成する。 - 特許庁

Then the mask layer on the second surface is removed, and hole-filling paste charging, curing, polishing, and lid plating are carried out.例文帳に追加

その後、第二面のマスク層を除去して、孔埋め用ペースト充填、硬化、研磨、蓋メッキを行う。 - 特許庁

To improve the adhesion between a substrate and an etching mask used for forming a via hole.例文帳に追加

バイアホールを形成する際のエッチングマスクと、基板との間の付着性を向上させる。 - 特許庁

A hole part 9d is made in a light shielding mask 9 provided in the sealed space S.例文帳に追加

密閉空間Ｓ内に設けられた遮光マスク９に孔部９ｄが設けられている。 - 特許庁

To provide a solder mask excelling in filling and exposure properties to a through-hole, and capable of providing flatness.例文帳に追加

スルーホールへの充填と露光性がよく、平坦性が得られるソルダ・マスクを得る。 - 特許庁

The sectional shape of a laser beam is faired by a mask having a through-hole of a square shape.例文帳に追加

レーザビームの断面形状を、方形の貫通孔を有するマスクによって整形する。 - 特許庁