「mask hole」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

By etching with the first resist pattern 8 as a mask, a connection hole pattern is formed in the inorganic stopper layer 7 and the first insulation film 6.例文帳に追加

第１のレジストパターン８上から有機絶縁膜５をエッチングする。 - 特許庁

To prevent a printing agent from staying in a mask screen hole after printing.例文帳に追加

印刷した後でマスクのスクリーン孔内に印刷剤が残らないようにする。 - 特許庁

To mask a mounting hole of a rail while preventing a clearance from being formed between a masking plate and a bearing.例文帳に追加

ベアリングとの間に隙間が空くのを防止しつつ、レールの取付穴をマスキングする。 - 特許庁

The incision or hole 3, 4 is provided in the mask body 2 to which the string 1 is attached.例文帳に追加

ひも１を取り付けてあるマスク本体２に切れ目又は穴３、４を設ける。 - 特許庁

The substrate is etched with use of the resist 7 as a mask to form a contact hole 11.例文帳に追加

レジスト７をマスクにしてエッチングを行いコンタクトホール１１を形成する。 - 特許庁

To prevent an electron beam from being blocked by a shadow mask front-side hole part of a slot-like opening.例文帳に追加

スロット状開口のシャドウマスク表側孔部で電子ビームが遮断されるのを抑制する。 - 特許庁

MASK FOR LANDING PLUG CONTACT HOLE AND PLUG FORMATION METHOD USING IT例文帳に追加

ランディングプラグコンタクトホールのマスク及びこれを用いたプラグ形成方法 - 特許庁

A mask 3 provided with a through hole 3a having two sides which are parallel to each other is prepared.例文帳に追加

相互に平行な２つの辺を有する貫通孔３ａが設けられたマスク３を準備する。 - 特許庁

Misregistration of the lighting beam on the mask 10' can be known from a pin hole image obtained with the pin hole detector 111.例文帳に追加

ピンホール検出器１１１で得られたピンホール像からマスク１０´上における照明ビームの位置ずれを知ることができる。 - 特許庁

A delayed binary image and the hole information of photo via/laser via are inputted from a hole mask generating part 4 to the examining processing part 6 for via.例文帳に追加

ビア用検査処理部６には，穴マスク生成部４から，遅延２値画像とフォトビア・レーザビアの穴情報とが入力される。 - 特許庁

The positioning shaft part 33 is inserted into the positioning hole 16 of the supporting stand 10 to position the mask 30 for the hub hole in the diameter direction.例文帳に追加

位置決めシャフト部３３を支持台１０の位置決め穴１６に差し込むことにより、ハブ穴用マスク３０を径方向に位置決めする。 - 特許庁

The fifth mask then defines a first via hole 720 and a second via hole passing through the flattened layer.例文帳に追加

それから、第５マスクは、平坦化層を貫通する第１ビアホール７２０と第２ビアホールを定義する。 - 特許庁

After forming a first capacitor hole, a first mask material is embedded in an upper part of the first capacitor hole.例文帳に追加

第１のキャパシタ孔の形成後、第１のキャパシタ孔の上部に第１のマスク材料を埋め込む。 - 特許庁

A pair of fixed plates (2) each having an upper through-hole (21) and a lower through-hole (22) are provided respectively on the right and the left of the mask body.例文帳に追加

上側貫通孔（２１）および下側貫通孔（２２）を有する固定板（２）を前記マスク本体の左右に一対設ける。 - 特許庁

At this time, the hole showing a quasi-tapered profile is made by positioning the focal point of the hole making electron beams within the shadow mask material in the thickness direction.例文帳に追加

このとき孔加工用電子ビームの焦点を、シャドウマスク素材の肉厚方向の内部に位置させて略テーパ状を呈する孔を明ける。 - 特許庁

Thereafter, the mask materials 14a is removed through a peeling method or the like, and a hole H3 produced through a peeling process is used as the contact hole.例文帳に追加

その後、マスク材１４ａを剥離等の方法により除去し、これによって生じた穴Ｈ３をコンタクトホールとして利用する。 - 特許庁

A mounting hole 23 for mounting of the vibration damping body is installed at a no-hole region of a shadow mask 5.例文帳に追加

シャドウマスク５の無孔領域に、振動減衰体取付け用の取付け孔２３が設けられている。 - 特許庁

It is desirable that the film thickness of the photoresist film at a large hole forming face side of shadow mask base material is made to be thicker than that of the small hole forming face side.例文帳に追加

シャドウマスク基材の大孔形成面側の感光膜の膜厚を、小孔形成面側の膜厚に比べて厚くすることが望ましい。 - 特許庁

To form a wiring groove and a connection hole using the same mask to eliminate positional misalignment between the connection hole and the wiring groove.例文帳に追加

同一のマスクを用いて配線溝と接続孔とを形成し、接続孔と配線溝との位置ずれをなくす。 - 特許庁

Such filler in the pre-coding hole as agrees with the coding hole in the coding mask by position is removed.例文帳に追加

コーディングマスク内のコーディングホールと位置が合致するプリコーディングホール内の充填材が除去される。 - 特許庁

The substrate comprises a ground substrate for growing a nitride semiconductor crystal, a first mask formed on one surface of the ground substrate and having an opening part, and a second mask formed on the first mask and having an insertion hole.例文帳に追加

窒化物半導体結晶を成長させるための下地基板と、該下地基板の一方の面上に形成された、開口部を有する第一マスクと、該第一マスク上に形成された、挿通孔を有する第二マスクとからなる。 - 特許庁

To provide a color cathode ray tube including shadow mask structure, in which wrinkles and distortions do not occur in the hole part of the mask due to the rough parts or stress of the mask welding part, and its manufacturing method.例文帳に追加

溶接部のマスクの凹凸や応力によってマスクの有孔部にしわやねじれが発生することがないシャドウマスク構体を具備するカラー陰極線管と、その製造方法を提供する。 - 特許庁

A first mask 10' having a wiring groove pattern is formed by etching the first mask forming layer from the top of the third mask 12', and the connection hole 13 is dug to the middle of the etching blocking film 7.例文帳に追加

第３マスク12’上から第１マスク形成層をエッチングして配線溝パターンを有する第１マスク10'を形成し、エッチング阻止膜7の途中まで接続孔13を掘り下げる。 - 特許庁

A second mask 21' having a wiring groove pattern is formed by etching the second mask forming layer from the top of the third mask 12', and the connection hole 13 is dug to the middle of the first insulating film 8.例文帳に追加

第3マスク12’上から第２マスク形成層をエッチングして配線溝パターンを有する第2マスク21’を形成し、第１絶縁膜8の途中まで接続孔13を掘り下げる。 - 特許庁

The mask 4 is provided with a mask part 11 for printing the solder paste and having a through-hole of a shape formed according to a prescribed pattern, a pair of peripheral walls 12 erecting from the peripheral edge of the mask part 11 and a fixing member 36.例文帳に追加

マスク４ははんだペーストを印刷する所定のパターンにしたがった形状の貫通孔を備えたマスク部１１とこのマスク部１１の外縁から立設した一対の周壁１２と固定部材３６を備えている。 - 特許庁

The stencil mask comprises a basic body and a parent material of mask supported by the basic body wherein the parent material of mask comprises a thin film principally comprising carbon and having a through hole pattern passing a charged particle beam.例文帳に追加

基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有する、炭素を主成分とする薄膜からなることを特徴とする。 - 特許庁

The stencil mask comprises a basic body and a parent material of mask supported by the basic body wherein the parent material of mask comprises a silicon compound thin film having a through hole pattern passing a charged particle beam.例文帳に追加

基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有するシリコン化合物薄膜からなることを特徴とする。 - 特許庁

The stencil mask comprises a basic body and a parent material of mask supported by the basic body wherein the parent material of mask comprises a non-single crystal silicon based thin film having a through hole pattern passing a charged particle beam.例文帳に追加

基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有する非単結晶シリコン系薄膜からなることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a mask for vapor deposition where, even in the case a plurality of long hole-shaped mask opening parts are arranged in parallel with beam parts interposed, sticking between the side faces in the beam parts can be prevented, and to provide a method for producing the mask for vapor deposition.例文帳に追加

長穴形状のマスク開口部を複数、梁部を間に挟んで並列させた場合でも、梁部の側面同士の貼りつきを防止することのできる蒸着用マスクおよび該蒸着用マスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a mask with a string part for hooking on an ear, which may be easily extended by cutting off an incision or hole made in a mask body, without increasing a composition of the mask parts.例文帳に追加

マスクの部品構成を増やすことなく、マスク本体に入れた切れ目又は、穴を切り離すことで簡単に耳に掛けるひも状部分を長くすることのできるマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a metallic mask for spray coating which is capable of efficiently preventing a coating liquid stuck on the surface of the mask during spray process from running along the inner wall of a pattern forming hole to flow into a gap between the mask and a material to be coated.例文帳に追加

スプレー工程時にマスク表面に付着した塗布液が、パターン形成用孔の内壁を伝ってマスクと被塗布物との間に流れ込むことを効率的に防止し得るスプレー塗布用メタルマスクを提供すること。 - 特許庁

A sacrificial mask pattern for filling the groove is formed, and the interlayer insulating-film pattern is etched using the mask pattern as an etching mask, thereby a self-aligning contact hole that exposes a semiconductor substrate is formed.例文帳に追加

グルーブを埋める犠牲マスクパターンを形成し、これを食刻マスクとして層間絶縁膜パターンを食刻して、半導体基板を露出させる自己整列コンタクトホールを形成する。 - 特許庁

The opening diameter of each electron beam passing hole in the main mask is different from the opening diameter of each electron beam passing hole in the auxiliary mask, and the main mask and auxiliary mask are fixed to each other at plural positions in a region between adjoining electron beam passing holes in the major X axis by welding from the side of a mask having a greater opening diameter.例文帳に追加

主マスクの電子ビーム通過孔の開孔径と上記補助マスクの電子ビーム通過孔の開孔径とが相違し、主マスクおよび補助マスクは、長軸Ｘ方向に隣合う電子ビーム通過孔間の領域の複数箇所を、開孔径の大きい方のマスク側から溶接して互いに固定されている。 - 特許庁

A hole filling mask 500 which has a through hole 600 opposite to a through hole 400 is arranged over a substrate 100, and the hole filling paste 700 of ≥300 Pa.s in viscosity at 22 to 23°C is pressed in the former through hole from on the hole filling mask through the latter through hole by using a roller type squeeze 800.例文帳に追加

スルーホール４００に対応する位置に形成された貫通孔６００を有する穴埋め用マスク５００を基板１００上に配置して、２２〜２３℃における粘度が３００Ｐａ・ｓ以上である穴埋め充填ペースト７００を穴埋め用マスク上から貫通孔を通してスルーホール内にローラ−式スキージ８００を用いて圧入する。 - 特許庁

On the surface of a semiconductor substrate 1, a first mask member 8 having a first through hole 8a and a second mask member 9 having a second through hole 9a are laid in layers sequentially.例文帳に追加

半導体基板１の表面に、第１貫通穴８ａを有する第１マスク部材８と、第２貫通穴９ａを有する第２マスク部材９とを順次積層する。 - 特許庁

The laser beam faired by the mask is made incident on the ceramic green sheet by an imaging optical system for imaging the through-hole of the mask onto the front surface of the ceramic green sheet, by which a hole is formed in the incident position.例文帳に追加

マスクの貫通孔を、セラミックグリーンシートの表面上に結像させる結像光学系により、マスクによって整形されたレーザビームをセラミックグリーンシートに入射させ、入射した位置に穴を形成する。 - 特許庁

When drilling numerous holes on the substrate, a high output laser 30 is irradiated over a mask 32 on which a large number of holes are formed corresponding to the hole positions on the substrate so that the hole positions on the mask are transferred to a workpiece 10 and the numerous holes are drilled simultaneously.例文帳に追加

基板に多数の穴をあける際に、穴位置に対応する多数の穴が形成されたマスク３２に高出力レーザ３０を照射して、マスク上の穴位置をワーク１０に転写することにより、多数の穴を同時にあける。 - 特許庁

In the method of manufacturing the liquid droplet discharge head, a predetermined nozzle hole pattern formed in a mask is irradiated with a laser beam and a workpies is irradiated with the laser beam after passing through the nozzle hole pattern of the mask.例文帳に追加

本発明の液滴吐出ヘッドの製造方法によれば、マスクに形成された所定のノズル孔パターンにレーザビームを照射してマスクのノズル孔パターンを透過して加工試料に照射する。 - 特許庁

When correcting the deviation of the machining position, a mask hole 32 of the mask changer 31 having the diameter smaller than that of a hole to be machined is selected to form laser beams of small diameter, and matrix-like holes are formed in a work 12.例文帳に追加

加工位置ずれ補正の際に、実際に加工しようとする穴径よりも小さいマスクチェンジャ３１のマスク穴３２を選択し、小径のレーザビームを形成し、ワーク１２にマトリクス状の穴加工を行う。 - 特許庁

A disposition mask 13 is mounted on the substrate frame 20 by inserting a guide pin 25 to a guide hole 15 of a guide hole 24, and the positioning of the mask 13 to the transparent substrate 2 is made.例文帳に追加

そして、基板枠２０におけるガイド穴２４に設けられたガイドピン２５に、ガイド穴１５を挿入することで基板枠２０に対して蒸着マスク１３を装着し、透明基板２と蒸着マスク１３との位置決めを図る。 - 特許庁

To provide an automatic mask film alignment device for printed circuit boards, which is capable of aligning the mask films for the front surface and the rear surface by using a reference hole for NC perforation as a reference hole.例文帳に追加

ＮＣ穴あけ用基準穴を基準穴とし、表面用と裏面用のマスクフィルムの位置合わせができるプリント基板用自動マスクフィルム合わせ装置を提供する - 特許庁

To provide a shadow mask of which, the opening width of front side hole parts are made to change corresponding to the position where the through hole is formed, for improving the shock resistant strength of the shadow mask after used for a flat-shaped cathode ray tube.例文帳に追加

フラット型ブラウン管に使用された後のシャドウマスクの衝撃強度を向上させることを目的とし、表側孔部の開孔幅を貫通孔の形成位置に応じて変化させたシャドウマスクを提供する。 - 特許庁

A mask 78 with a through hole 78a is aligned to a substrate 30, air is sucked via a through hole 33 that is formed on the substrate 30, and the mask 78 is glued to the side of the substrate 30.例文帳に追加

通孔７８ａを備えるマスク７８と基板３０とを位置あわせし、該基板３０に形成された貫通孔３３を介して空気を吸い出し、該マスク７８を該基板３０側に密着させる。 - 特許庁

The minor axis side aperture edge 29 of the small hole 27 of the auxiliary mask 22 is positioned on the screen periphery side than the minor axis side aperture edge 19 of a corresponding large hole 17 of the main mask 12.例文帳に追加

補助マスク２２の小孔２６の短軸側開孔縁２９を、主マスク１２の対応する大孔１７の短軸側開孔縁１９よりも画面周辺側に位置させる。 - 特許庁

To provide a shadow mask wherein the cross-section shape and the size of a through-hole are changed, corresponding to the position forming the through-hole, in order to enhance the impact strength of the shadow mask after used for a flat type picture tube.例文帳に追加

フラット型ブラウン管に使用された後のシャドウマスクの衝撃強度を向上させることを目的とし、貫通孔の断面形状およびその寸法を貫通孔の形成位置に応じて変化させたシャドウマスクを提供する。 - 特許庁