「mask hole」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

Thereby, the visual inspection of a multiple layers phase defect becomes possible by an easy and practical through-put in a hole pattern which cannot be inspected easily by a mask inspection, and the yield is improved by supplying a defect free mask which is performed with a defective relief according to classification of the cause of failure.例文帳に追加

これにより、マスク検査では容易に検査できないホールパターンにおける、多層膜位相欠陥を容易かつ実用的なスループットで外観検査が可能となり、欠陥の原因の分類に応じた欠陥救済を行った無欠陥マスクを供給することで歩留まりが向上する。 - 特許庁

In parallel with this operation, scattered rays by one kind or a plurality of kinds of fluorescent X-rays B2 which are generated from a part on the mask 3 or by primary X-rays B1 which are reflected by the mask 3 are detected through a diaphragm hole 14A for visual-field restriction.例文帳に追加

これと並行して、マスク３上の一部分から発生する１種もしくは複数の蛍光Ｘ線Ｂ２、またはマスク３により反射された１次Ｘ線Ｂ１の散乱線を視野制限用の絞り孔１４Ａを通して検出する。 - 特許庁

The astigmatism of the laser beam 2 which is emitted from a laser oscillator 1 is corrected, the circular opened mask 4 is irradiated with the corrected laser beam 2, and the laser beam 2 which passes through the opened mask 4 is image-formed on an object 8 to be machined, thus the hole machining is performed.例文帳に追加

レーザ発振器１から出射したレーザビーム２の非点収差を補正し、この補正されたレーザビーム２を円形の開口マスク４に照射し、この開口マスク４を透過してきたレーザビーム２を加工対象物８上に結像させ、穴加工を行う。 - 特許庁

In a hole part formation process in a process (1), a mask layer 3 is formed in an in-face predetermined area on the main surface of a substrate 1 so that a residual area except the formation area of the mask layer 3 can be formed with a plurality of holes 4 whose upper parts are opened.例文帳に追加

工程（１）の孔部形成工程にて、基板１の主表面上における面内の所定領域にマスク層３を形成することにより、マスク層３の形成領域を除く残余領域に、上部が開口した複数の孔部４を形成する。 - 特許庁

To print a pin-hole-free and favorable and all over coating film, a negative mask or a positive mask by a method applicable to the manufacturing of a cylindrical gravure plate, flexographic plate, endless offset plate or rotary screen plate and comprising the process of repeating one round coating in a rotation direction by step feed in an axial direction.例文帳に追加

円筒状のグラビア版、フレキソ版、エンドレスオフセット版、ロータリースクリーン版の製造に適用でき、回転方向一周塗りを軸方向ステップ送りして反復する方式により、ピンホールが生じない良好な全面塗膜又はネガマスク又はポジマスクをプリントする。 - 特許庁

To provide a mask not fogging glasses, which has a lower part provided with a shape changeable portion fitted to a face to discharge breath fogging glasses upon wearing a mask, downward for increased filter effect, and is especially designed to readily form a breath release hole.例文帳に追加

本発明は、マスクをつけたときにメガネを曇らせる原因の息を下部へ排出できるように、顔をフィットさせることでフィルター効果を高めるための形状自在機能の部位をマスクの下部に設け、息ぬき口を簡単に形成できるように工夫したメガネが曇らないマスクを提供する。 - 特許庁

In the mask having an upper part having shape changing function to increase the filter effect, the shape changeable portion having a length equal to or longer than that of the upper part, is provided at the lower part of the mask to readily form the breath release hole.例文帳に追加

フィルター効果を高めるための形状自在機能をマスク上部に設けてあるマスクにおいて、マスクの下部に、上部同様または上部より長い形状自在機能の部位を設け、息ぬき口を簡単に形成できるようにしたマスク。 - 特許庁

The prescribed region part (20-64) in the through-hole forming part 11 of the shadow mask 1 is separated from the body, and the weight of this separated part is measured, and based on this measured weight, appropriateness of the shadow mask strength is judged.例文帳に追加

そこでこの発明では、シャドウマスク１の透孔形成部１１内の所定領域部分（２０〜６４）を本体から切り離し、この切り離した部分の重量を測定し、この測定した重量からシャドウマスクの強度が適正であるか否かを判定する。 - 特許庁

In this moisturizing mask, a mask body 2 is formed of a breathable sheet-like material, right and left parts of an area A facing a mouth are respectively formed with vertically slenderly extending first ventilation openings 4, and the area A facing the mouth between both the first ventilation openings 4 is not formed with a ventilating hole or opening.例文帳に追加

マスク本体２が通気性のシート状素材から形成され、口と対面する領域Ａの左右部に、それぞれ上下に細長く延びる第１息抜き開口４が設けられ、上記両第１息抜き開口４の間の口と対面する領域Ａには、息抜き用の穴や開口が設けられていない。 - 特許庁

A heat-generating material is coated on the panel of a CRT and an electric current is applied thereto to thermally expand the panel so as to correspond to thermal expansion of a shadow mask, thereby reducing the relative positional deviation between a through hole on the surface of the shadow mask and a fluorescent material on the internal surface of the panel to correct the landing dislocation.例文帳に追加

ＣＲＴのパネルに発熱体を塗膜して通電することにより、シャドーマスクの熱膨張に対応するようにパネルを熱膨張させ、シャドーマスク表面の貫通孔とパネル内面の蛍光体との相対的な位置ずれを減少させてランディングズレを補正する。 - 特許庁

More specifically, at first, the support apparatus of a ball arrangement mask supports the ball arrangement mask with a mount region having a through hole for inserting balls and a non-mount region for surrounding the mount region above an object to be mounted corresponding to the mounted part of the object to be mounted formed in a prescribed arrangement pattern.例文帳に追加

第１に、所定の配列パターンに形成された被搭載物の搭載箇所に対応してボール挿入用の貫通孔が設けられた搭載領域とその搭載領域を囲む非搭載領域とが形成されたボール配列マスクを被搭載物の上方に支持するボール配列マスク支持装置とする。 - 特許庁

A contact mask 15 with an opening 16 that overlaps with the opening 14 is arranged in close contact with the circuit wiring 13 of the substrate 11, and the contact mask 16 is scanned by a laser beam, thus drilling a hole 18 in the resin substrate 11 through the opening 14.例文帳に追加

この基板１１の回路配線１３に密着させて、開口１４と重なる開口１６を持つコンタクトマスク１５を設置して、このコンタクトマスク１６上からレーザ光ビームを走査して、開口１４を通して樹脂基板１１に孔１８を開ける。 - 特許庁

Finally, the second organic film 105 is etched away using the mask patterns 108 as the masks to form a wiring trench as well as the first organic film 103 is etched away using the patterned silicon containing organic oxide film 104 as the mask to form a contact hole.例文帳に追加

第２の有機膜１０５に対してマスクパターン１０８をマスクとしてエッチングして配線溝を形成すると共に、第１の有機膜１０３に対してパターン化された有機含有シリコン酸化膜１０４をマスクとしてエッチングしてコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

A mask body 36 of a shadow mask 30 corresponds to the scanned area, and has a plurality of effective areas (a), (b) with a plurality of electron beam passing hole being formed and a boundary 41 positioned between the effective areas and opposed to the overlapping area.例文帳に追加

シャドウマスク３０のマスク本体３６は、走査領域に対応し多数の電子ビーム通過孔が形成された複数の有効領域ａ、ｂと、これら有効領域間に位置しているとともに重複領域に対向した境界部４１と、を有している。 - 特許庁

After forming the alumina mask 32a on the top of the interlayer insulation film 30 consisting of the SiOC film of a low dielectric constant through a cap insulating film 31, the cap insulating film 31 and the interlayer insulation film 30 are dry-etched with a photoresist film as a mask to form a via hole 37.例文帳に追加

低誘電率のＳｉＯＣ膜からなる層間絶縁膜３０の上部にキャップ絶縁膜３１を介してアルミナマスク３２ａを形成した後、フォトレジスト膜をマスクにしてキャップ絶縁膜３１と層間絶縁膜３０とをドライエッチングすることによりビアホール３７を形成する。 - 特許庁

In this shadow mask, while plural feeding pipes 11 are rocked to center their center axes by a rocking mechanism 20, an etching solution is fed from a spray nozzle 12 of each of the plural feeding pipes 11 toward the large-hole side surface (lower surface) of a shadow mask material W.例文帳に追加

揺動機構２０によって複数本の供給パイプ１１がその中心軸を中心に揺動されつつ、その複数本の供給パイプ１１のスプレイノズル１２からシャドウマスク材Ｗの大孔側表面（下面）に向けてエッチング液が供給される。 - 特許庁

The color cathode-ray tube is formed by welding a flat mask 3 on which an electron beam transmitting hole is formed in a prescribed position to a first support member, and a flat elastic portion 6 having a spring property is formed by forming a plurality of holes in a part of the flat mask 3.例文帳に追加

所定の位置に電子ビーム透過孔を形成した平板マスク３が第１の支持部材に溶接接合されてカラー陰極線管が形成され、平板マスク３の一部に複数個の孔を形成することによりバネ性を持たせた平板弾性部６を形成する。 - 特許庁

To provide a mask dimension measuring instrument, capable of measuring the dimension of the minute pattern or hole on a mask in a non destructive and non contact state with high accuracy and also capable of measuring a long dimension not entering a measuring visual field, and a measuring method using the same.例文帳に追加

マスク上の微小なパターンやホールを非破壊、非接触、かつ高精度に、その寸法を測定することを可能にするとともに、計測視野に入らないような長寸法計測をも可能にする測定装置およびそれを用いた測定方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

In such a case, the mask films for the front surface and the rear surface respectively move a mask MS for the front surface and a mark MB for the rear surface having the shapes, which exist in the inner diameter of the reference hole and will not overlap each other, when alignment is completed.例文帳に追加

この場合、表面用および裏面用のマスクフィルムは、位置合わせが完了したとき、基準穴の内径の中に存在し、かつ、互いに重なることのない形状をもつ表面用マークＭＳおよび裏面用マークＭＢをそれぞれ有している。 - 特許庁

To provide a transfer film for shadow mask formation capable of surely providing a stacked pattern comprising an insulation layer and a conductive layer with high dimensional accuracy without degrading an original function of a shadow mask nor causing trouble such as a pin hole, and capable of manufacturing a predetermined shadow mask with high productivity.例文帳に追加

絶縁層および導電層よりなる積層パターンが、シャドウマスク本来の機能を低下させることなく、しかも、ピンホール等の不具合を発生させることなしに、高い寸法精度で確実に得られ、所定のシャドウマスクを高い生産性で製造することができるシャドウマスク形成用の転写フィルムを提供すること。 - 特許庁

The metal paste printing method comprises a process of arranging a metal mask 13 on a substrate 11 so that each through-hole 10 is located of the metal mask 13 having through-holes 10 on each electrode 12 and forming gap parts 13a communicated with the through-holes 10 on an interface between the substrate 11 and the metal mask 13.例文帳に追加

金属ペースト印刷方法においては、貫通孔１０を有するメタルマスク１３の貫通孔１０が電極１２上に位置するようにメタルマスク１３を基板１１上に配置するとともに、基板１１とメタルマスク１３との界面に貫通孔１０に連通する間隙部１３ａを形成する工程を含んでいる。 - 特許庁

In this case, either the substrate holder or the mask holder is provided with one pin 26 projecting toward the other, further, a pin hole 37 into which the pin is inserted is formed on the other, a part of the circumferential face of the substrate holder and the mask holder at which the substrate holder and the mask holder are engaged is made into taper faces 25, 36 corresponding each other, respectively.例文帳に追加

この場合、基板ホルダー、マスクホルダーのいずれか一方に、他方に向かって突出する１本のピン２６を設けると共にこのピンが嵌挿するピン孔３７をその他方に形成し、基板ホルダーとマスクホルダーとが嵌合する基板ホルダー及びマスクホルダーの周壁面の一部を、それぞれ相互に対応するテーパ面２５、３６とする。 - 特許庁

As a mounting process of soldering a solder bump 8 formed in a BGA package 6 to a land 10 wired in a printed circuit substrate 11, a mask is mounted on the printed circuit substrate 11, and a solder paste is coated from on the mask, whereby the solder paste is printed on the land wired on the printed circuit substrate 11 from an opening part of a hole opened in the mask plate.例文帳に追加

ＢＧＡパッケージ６に形成されているソルダーバンプ８とプリント回路基板１１に配線されたランド１０とを半田接合させる実装プロセスとしては、マスクをプリント回路基板１１上に装着し、該マスクの上から半田ペーストを塗り込ませることにより、前記マスク板に開けた穴の開口部よりプリント回路基板１１に配線されたランド上に半田ペーストが印刷される。 - 特許庁

Thereafter, a wiring groove is formed in the second organic film 605A by etching the film 605A by using the mask pattern 608 as a mask and the first organic film 603 by using the silicon oxide film 604 as a mask and, at the same time, a contact hole is formed in the first organic film 603.例文帳に追加

第２の有機膜６０５Ａに対してマスクパターン６０８をマスクとしてエッチングを行なうと共に、第１の有機膜６０３に対してシリコン酸化膜をマスクとしてエッチングを行なって、第２の有機膜６０５Ａに配線溝を形成すると共に、第１の有機膜６０３にコンタクトホールを形成する。 - 特許庁

After etching the first mask 5 and the etch stopper film 3, a wiring groove 11 is formed on the second low dielectric constant film 4 by etching with the second and first masks 6, 5 as a mask, and a connecting hole 12 that is connected with the low layer wiring 1 is formed on the first low dielectric constant film 2 by etching with the etch stopper film 3 as a mask.例文帳に追加

第１のマスク５及びエッチストッパ膜３のエッチング後、第２及び第１のマスク６，５をマスクとしたエッチングにより第２の低誘電率膜４に配線溝１１を形成するとともに、エッチストッパ膜３をマスクとしたエッチングにより第１の低誘電率膜２に下層配線１と接続する接続孔１２を形成する。 - 特許庁

The mask is a mask for printing solder on a printed circuit board, and characterized in including a plate having a through hole formed, a nozzle portion provided protruding downward from the plate corresponding to the through hole, and a support member provided, protruding downward, to a lower surface of the plate so as to support the plate.例文帳に追加

本発明に係るマスクは印刷回路基板にハンダを印刷するためのマスクであって、貫通孔が形成されているプレートと、貫通孔に対応してプレートから下向きに突出するように設けられているノズル部と、プレートを支持するためにプレートの下面に下向きに突出するように設けられている支持部材と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

A lock plate 19a included in the lock mechanism 19 is contained in a hole part 19b in an ordinary state, and when the multi-mask carrier 10 (mobile table 18) is tilted while directing its handle 23 upward, the lock plate 19a moves from the inside of the hole part 19b outwardly by natural falling due to the gravity to catch part of the film mask 25.例文帳に追加

ロック機構１９に含まれるロックプレート１９ａは、通常時には、穴部１９ｂ内に収納されている一方、取っ手部２３を上にしてマルチマスクキャリア１０（移動テーブル１８）を傾けた場合には、穴部１９ｂの内部から外側に向かって重力による自然落下によって移動し、フィルムマスク２５の一部を引っ掛ける。 - 特許庁

The photomask is classified into photomasks mounted with mask patterns 1, 2, 5, and 7 having pattern characteristics of a line system used principally to form a wiring layer of a semiconductor device and photomasks mounted with mask patterns 3, 4, 6, and 8 having pattern characteristics of a hole system used principally to form a connection hole of the semiconductor device.例文帳に追加

上記フォトマスクを、半導体装置の主に配線層の形成に用いられるライン系のパターン特性を持つマスクパターン１、２、５、７を搭載したフォトマスクと、半導体装置の主に接続孔の形成に用いられるホール系のパターン特性を持つマスクパターン３、４、６、８を搭載したフォトマスクとに分類する。 - 特許庁

In a contact mask switching system mask ROM, a storage state is switched by determining whether a contact hole and an electrode that is to be buried into the contact hole are formed in a memory transistor MTij and a bit line fixing circuit, which fixes the potential of a bit line that is not selected, is provided.例文帳に追加

本発明は、コンタクトホール及びこのコンタクトホールに埋め込まれる電極がメモリトランジスタＭＴｉｊに形成されるか否かにより、その記憶状態を切り換えるコンタククトマスク切り換え方式のマスクＲＯＭにおいて、選択されていないビット線の電位を固定するビット線固定回路を設けたことを特徴とするものである。 - 特許庁

The manufacturing method comprises the steps of laminating a mask material made of fluorine resin film on both surfaces of the polymer film; forming the through-hole in a laminated film obtained by laminating; adhering or filling the through-hole with the conductive material; and removing the mask material from the laminated film.例文帳に追加

電気絶縁性高分子膜の両面に、フッ素樹脂膜からなるマスク材を積層する工程、積層により得られた積層膜に貫通孔を形成する工程、該貫通孔に導電性物質を付着もしくは充填する工程、および該マスク材を該積層膜から除去する工程、を有することを特徴とする異方性導電シートの製造方法。 - 特許庁

To form a hole in a film to be etched in such a way that the surface shape of the hole is not made star and the diameter of the hole does not considerably exceed a prescribed value even when plasma etching is carried out at ≥1×1010/cm3 plasma density through a hole-patterned photosensitive material film formed by irradiation with KrF excimer laser as mask.例文帳に追加

ＫｒＦエキシマレーザを照射して形成したホールパターン化された感光性材料膜をマスクとして、１×１０^10／ｃｍ^3 以上のプラズマ密度でプラズマエッチングを行なっても、被エッチング膜に形成されるホールの平面形状が星形にならないと共にホールの径が所定値からあまり大きくならないようにする。 - 特許庁

A normal contact hole 10a and a shared contact hole 10b are formed by etching the interlayer insulating film 10, second etching stopper film 9, and the first etching stopper film 8 using the resist pattern 50 as a mask.例文帳に追加

レジストパターン５０をマスクとして層間絶縁膜１０、第２のエッチングストッパー膜９、及び第１のエッチングストッパー膜８をエッチングすることにより、ノーマルコンタクトホール１０ａ及びシェアードコンタクトホール１０ｂを形成する。 - 特許庁

In the aligner which detects a mask alignment mark and a workpiece alignment mark through the through-hole formed in the workpiece stage, a translucent window member disposed in the through-hole of the workpiece stage is supported by an elastomer and the window member abuts against the workpiece elastically.例文帳に追加

ワークステージに形成した貫通孔を介してマスク・アライメントマークとワーク・アライメントマークを検出する露光装置において、ワークステージの貫通孔内に配置した光透過性窓部材を弾性体によって支持して、ワークに対して窓部材が弾性的に当接することを特徴とする。 - 特許庁

The metal mask comprises a protruding part between open holes, in which the surface roughness of the side wall surface of the protruding part and that of the open hole present on the flat surface continuous from the side wall surface of the protruding part is different from that of other side wall surface of the open hole.例文帳に追加

開口穴間に凸部を備えるメタルマスクであって、 前記凸部の側壁面と、前記凸部の側壁面と連続平面上にある前記開口穴の側壁面と、の表面あらさは、前記開口穴の他の側壁面の表面あらさと異なるメタルマスクである。 - 特許庁

A CRT fixing screw-fastening boss is formed in a cabinet 12 configuring the enclosure 11 by penetrating its shaft hole 19a through a circumferential part 12a1 of a front opening 12a and a front mask 13 covering a through-shaft-hole 19a of the CRT fixing screw-fastening boss is engaged with and fixed to the circumferential part 12a1.例文帳に追加

筺体１１を構成するキャビネット１２内にＣＲＴ固定ねじ止めボスを、その軸孔１９ａを前面開口部１２ａの周面部１２ａ_1 に貫通して形成し、周面部１２ａ_1 にＣＲＴ固定用ねじ止めボスの貫通軸孔１９ａを覆うフロントマスク１３を係合固定する。 - 特許庁

Then the interconnection groove is completed by etching and removing the second insulation film 107 and the intermediate stopper film 106 using the upper groove 110 as a mask and the via hole is connected with the lower interconnection 101 by etching and removing the cap layer 104 exposing at the bottom of the via hole 112.例文帳に追加

そして、上溝１１０をマスクに第２絶縁膜１０７及び中間ストッパ膜１０６をエッチング除去して配線溝を完成すると共にビアホール１１２の底部に露出したキャップ層１０４をエッチング除去してビアホールを下層配線１０１と接続する。 - 特許庁

To provide a positive resist composition excellent in the adaptability for a halftone phase difference shift mask and resolution for the formation of a contact hole pattern and to provide a positive resist composition having little deformation of a hole during etching and a wide exposure margin for under exposure.例文帳に追加

コンタクトホールパターン形成時のハーフトーン位相差シフトマスク適性と解像力に優れたポジ型レジスト組成物、更には、エッチング時のホール変形が少なく、アンダー露光時の露光マージンが広いポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The printing mask 101 is provided, in a prescribed position, with a through-hole 109 penetrating in the thickness direction on a base material 106 having insulation, wherein a heating element layer 116 generating heat at the time of energization is formed on the inner periphery of the through-hole 109.例文帳に追加

印刷マスク１０１は、絶縁性を有する基材１０６に、厚み方向に貫通する貫通孔１０９が所定の位置に設けられており、貫通孔１０９の内周面に通電時に発熱する発熱体層１１６が形成される。 - 特許庁

A mask member 10 formed of a flexible material, includes an applying portion 12, a protrusion 13 protrusively provided on the applying portion 12, a vent hole 11 provided in an opened state in the protrusion 13, and a valve body piece 14 protrusively provided in the vent hole 11.例文帳に追加

マスク部材１０は、可撓性を有する素材で形成されて、宛がい部１２と、その宛がい部１２に突出して設けた突出部１３と、その突出部１３に開口して設けられた通気孔１１と、その通気孔１１内に突出するように設けた弁体片１４とを有する。 - 特許庁

The contact hole 12 is formed by exposing the organic film 8 formed on the insulating film 7 by using a mask provided at an aperture part 20 corresponding to the contact hole 12 and at the peripheral part of the aperture part 20 and having a slit pattern 21 having the width not wider than the resolution of an exposing device.例文帳に追加

コンタクトホール１２が、絶縁膜７の上に形成された有機膜８をコンタクトホール１２に対応する開口部３０及び開口部２０の周辺に設けられ露光装置の解像度以下の幅のスリットパターン２１を有するマスクを用いて露光されている。 - 特許庁

A method for manufacturing a semiconductor device having a borderless wiring structure forms a borderless via-hole in which two different types of metals are exposed in an aperture, wherein prior to the wet processing for stripping a resist mask used to form the via hole, ashing is done using plasma including H_2O.例文帳に追加

ボーダレス配線構造を有する半導体装置の製造方法において、開口内で２種類の異なる金属が露出するボーダレスビアホールを形成し、前記ビアホールの形成に用いたレジストマスクを剥離する際のウェット処理に先立って、Ｈ2Ｏを含むプラズマでアッシングする。 - 特許庁

The metal mask screen plate has a pattern-like hole 8 formed in a metal plate 2, the meshes 4 having a thicknes smaller than that of a metal plate 2 is formed to the hole 8, the mesh 4 is disposed flush with the metal plate 2, and the flush surface constitutes a squeegee surface.例文帳に追加

金属板２にパターン状の孔８が設けられ、かつ、当該孔８に、金属板２よりも薄膜のメッシュ４が形成されてなり、その一方の面において、メッシュ４が金属板２と面一になるように配され、当該面がスキージ面を構成することを特徴とするメタルマスクスクリーン版。 - 特許庁

An etching rate difference caused by etching mask micro effect between the narrow contact hole pattern 25 and the wide trench pattern 26 is canceled out, by the difference of thickness between the coating layer 27 on the bottom of the narrow contact hole pattern 25 and the coating layer 27 on the bottom of the wide trench pattern 26.例文帳に追加

トレンチの幅の比により被覆層の達成できる階段被覆性が制限され、ホトレジストに対しては開口の幅により制限されるため、狭い開口底部の被覆層の厚さは広い開口底部の被覆層の厚さより小さくなる。 - 特許庁

Thereafter, the photosensitive resist 6 on the wiring pattern 2 and in the through hole 5 exposed simultaneously through irradiation of UV- rays at the time of curing the negative photosensitive resist 11 is developed and removed and a protective plating layer is formed on the wiring pattern 2 and the through hole 5 using the photosensitive resist 11 as a mask.例文帳に追加

続いてネガ型の感光性レジスト１１硬化の際に同時に紫外線照射で露光された配線パターン２上およびスルーホール５の感光性レジスト６を現像除去した後、感光性レジスト１１をマスクに配線パターン２上およびスルーホール５に保護めっき層を形成する。 - 特許庁

The mask main face comprises an effective region 20a of nearly rectangular shape, in which the electron passing holes 19 are formed, a non-hole region 20b of nearly rectangular shape that is positioned around the effective region, and a bead part 22 provided in the non- hole region.例文帳に追加

マスク主面は、電子ビーム通過孔１９が形成されたほぼ矩形状の有効領域２０ａと、有効領域の周囲に位置しほぼ矩形枠状の無孔領域２０ｂと、無孔領域に設けられたビード部２２と、を備えている。 - 特許庁