「mask hole」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

A connection hole is formed in a substrate by etching the substrate with use of a first resist film as a mask, the first resist film is removed, and then the substrate is transported into the processing vessel 2 of a substrate processing apparatus 1.例文帳に追加

基板上に第１のレジスト膜をマスクとしたエッチング処理により接続孔を形成し，当該第１のレジスト膜を剥離除去した後に，基板を基板処理装置１の処理容器２内に搬送する。 - 特許庁

Next, after the water-repellent film 6 is removed except for the semi-through hole by second plasma gas treatment using oxygen gases or the like by a dry mask 8, a plating resist pattern 9a is patterned.例文帳に追加

次いで、ドライマスク８によって酸素ガス等を使用した第２のプラズマガス処理により半貫通ホール以外の撥水性膜６を除去した後、めっきレジストパターン９ａをパターニングする。 - 特許庁

To provide a device for efficiently making only the light required for projection incident on a projection lens without making the hole of a mask large in a video device using a reflection micro device.例文帳に追加

反射マイクロデバイスを使った映像装置において、マスクの穴を大きくさせることなく、投影に必要な光だけを効率よく投影レンズに入射する装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of screen printing for cream solder, by which suitable solder quantity can be secured when printing the cream solder on a through hole electrode, and to provide a screen mask.例文帳に追加

スルーホール電極へのクリーム半田の印刷に際し、適正な半田量を確保できるクリーム半田のスクリーン印刷方法およびスクリーンマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for a wiring board which can suppress the amount of resin to be removed later when resin is formed in through-hole conductor of a charged substrate and a printing mask used to print resin paste.例文帳に追加

被充填基板のスルーホール導体内に樹脂を形成する際に、後に除去する樹脂量を抑制することができる配線基板の製造方法、及び、樹脂ペーストの印刷に用いる印刷用マスクを提供すること。 - 特許庁

In succession, a lower electrode seed layer and a plating mask layer are successively formed on the second interlayer insulating film, and a hole is formed by etching so as to expose the lower electrode pad 78.例文帳に追加

続いて、第２層間絶縁膜上に下部電極用シード層とメッキマスク層を順次に形成し、蝕刻により下部電極パッドを露出させるホールを形成する。 - 特許庁

Then, after a protection film spacer 32a is formed on both side walls of the inter-layer dielectric film pattern and the mask pattern, a conductive film for a pad 34 is formed to bury the contact hole.例文帳に追加

以後、層間絶縁膜パターン及びマスクパターンの両側壁に保護膜スペーサ３２ａを形成した後、コンタクトホールに埋め込むようにパッド用導電膜３４を形成する。 - 特許庁

A frame plate 2 comprising a porous PTFE film is sandwiched in between the mask films 11 and 12 to constitute a laminate 14, and then a colloidal particle layer 15 is formed through the formation of through hole 5 and submersion in catalyst liquid.例文帳に追加

多孔質ＰＴＦＥ膜からなるフレーム板２をマスク膜１１，１２により挟んで積層体１４を構成した後、貫通孔５の形成、触媒液への浸漬によるコロイド粒子層１５の形成を行う。 - 特許庁

The exposed part of the first insulation film is so etched with the second etching stopper film pattern and the spacer as a mask as to form a node contact hole to expose the conductive region to form a first insulation film pattern.例文帳に追加

導電領域を露出させるノードコンタクトホールが形成されるように第２エッチング阻止膜パターン及びスペーサをマスクとして露出された第１絶縁膜をエッチングして第１絶縁膜パターンを形成する。 - 特許庁

This porous resin material is obtained by constituting a laminate material 14 by nipping a frame plate 2 consisting of a porous PTFE (polytetrafluoroethylene) resin with mask membranes 11, 12 and then forming a penetrated hole 5.例文帳に追加

多孔質ＰＴＦＥ樹脂からなるフレーム板２をマスク膜１１，１２により挟んで積層体１４を構成した後、貫通孔５を形成する。 - 特許庁

In this method, mask pillars 40 are formed by exposing and developing resist films at positions corresponding to contact hole forming areas on a source region 16 and a drain region 18 of a polycrystalline silicon film 14 and a gate electrode 34.例文帳に追加

多結晶シリコン膜１４のソース領域１６、ドレイン領域１８およびゲート電極３４の上の、コンタクトホール形成領域に対応した位置のレジスト膜を露光、現像してマスクピラー４０を形成する。 - 特許庁

On the reverse surface 1b of the substrate, a metal film (light blocking mask) 15 is formed to irradiate an area other than a hole formation area (an area corresponding to the recess 2) with no light.例文帳に追加

基板裏面１ｂに金属膜（遮光マスク）１５を形成して、孔形成領域（凹所２に対応する領域）Ａ以外の領域に光が照射されないようにする。 - 特許庁

To provide a conductive paste composition which is suitable to use for a method of construction having a superior productivity without using an expensive metal mask, and which is superior in storage stability and filling performance into a via-hole in manufacturing a multilayer ceramic substrate.例文帳に追加

多層セラミック基板の製造にあたって、高価なメタルマスクを使用することなく、生産性に優れる工法に用いて好適な、保存安定性とビアホールへの充填性に優れた導電性ペースト組成物を提供すること。 - 特許庁

An etching mask 21 having an opening part 22 formed in the area to form the ink supply port is formed on the rear side of the silicon substrate 10, and an unthrough-hole 25 of a prescribed depth is formed inside the opening part 22.例文帳に追加

シリコン基板１０の裏面においてインク供給口が開口される領域に開口部２２を有するエッチングマスク２１を形成し、開口部２２の内側に、所定の深さの未貫通孔２５を形成する。 - 特許庁

To provide an exposure mask for simultaneously performing exposure of a contact hole part and exposure between reflecting plates.例文帳に追加

コンタクトホール部分の露光と反射板間の露光とを同時に行うことができるようにした露光用マスク及びこの露光用マスクを用いた反射部を備えた液晶表示パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

When filling the holes 4 with the resin paste 7 by printing, the hole 4 having the smallest interval among the adjoining through holes 4 is filled with a smaller quantity of resin paste 7 than that having a larger interval, by printing using a metal mask 31.例文帳に追加

印刷充填の際、隣り合う貫通孔４との間隔のうち最小間隔が小さい貫通孔４には、最小間隔が大きい貫通孔４よりも、少量の樹脂ペースト７を、メタルマスク３１により印刷する。 - 特許庁

A solder resist hole 11a is formed in the solder mask 11, a partial copper wiring pattern 12 is exposed therefrom, and a position of an electrical contact of wire bonding or solder ball is settled.例文帳に追加

はんだマスク１１にははんだレジスト孔１１ａが形成されており、そこから一部の銅配線パターン１２が露出し、ワイヤボンディングまたははんだボールの電気接点の位置を定めている。 - 特許庁

An opening that the planar shape of the opening of the lower resist film is imprinted is formed in the first mask film, and the lower resist film is removed and the via hole is dug more until a lower wiring is exposed.例文帳に追加

下層レジスト膜の開口の平面形状が転写された開口を、第１のマスク膜に形成するとともに、下層レジスト膜を除去し、ビアホールをさらに掘り下げて、下層配線を露出させる。 - 特許庁

A via hole is formed in a first mask film on an interlayer insulation film and the interlayer insulation film so that it may reach the midway in the direction of thickness of the interlayer insulation film.例文帳に追加

層間絶縁膜上の第１のマスク膜及び層間絶縁膜に、層間絶縁膜の厚さ方向の途中まで達するビアホールを形成する。 - 特許庁

An organic material is used for an interlayer insulating film 111 covering a switching element and each wiring, a mask of a metal film 112 is used, and a contact hole is formed by a dry etching method, thereby forming a wiring 114.例文帳に追加

スイッチング素子および各配線を覆う層間絶縁膜１１１として有機材料を用い、且つ、金属膜１１２のマスクを用い、ドライエッチング法によってコンタクトホールを形成し、配線１１４を形成する。 - 特許庁

A narrowed part 10 is formed on the inner-peripheral side of the growth hole 12a of the growth mask 12 and on the side of the sapphire substrate 11 so that the inner diameter is reduced toward the side of the sapphire substrate 11.例文帳に追加

上記成長マスク１２の成長穴１２aの内周側かつサファイア基板１１側に、サファイア基板１１側に向かって内径が小さくなるように絞り部１０を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a liquid crystal display device, capable of easily forming a recess and a contact hole having depths different from each other without using a mask having a complicated structure while suppressing difficulty of adjustment of transmittance.例文帳に追加

複雑な構造のマスクを用いることなく、かつ、透過率の調整が難しくなるのを抑制しながら、深さが異なる凹部とコンタクトホールとを容易に形成することが可能な液晶表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an inner mask which can be fixed to a disk-shaped substrate having a through hole at a center part and in which position relation can be kept constant even at the time of transformation.例文帳に追加

中央部に貫通孔を有する円板状基板に固定可能であり、搬送時においても位置関係を一定に保持可能な内マスクを提供する。 - 特許庁

Secondly, relatively slowly moving the arranging mask and the stage in the horizontal direction after dropping down the ball aligns the position of the conductive ball in the through hole.例文帳に追加

第２に、ボール落とし込み後に、配列マスクとステージを水平方向に相対的に微動させることによって、貫通孔内の導電性ボールの位置を揃えるように構成する。 - 特許庁

For the printed circuit board 1, resist 6 is provided annularly on the surface of the pad 3 of the port edge part of the upper end opening of the screw hole 5, and the solder 7 is divided into a plurality thereof by a metal mask and stuck to the pad 3.例文帳に追加

ビス穴５の上端開口部の口縁部のパッド３表面にレジスト６が円環状に設けられ、半田７がメタルマスクにより複数に分割されてパッド３に付着したプリント配線基板１とする。 - 特許庁

In a metal mask 11 used for forming a stress relaxation layer 5, a relief 11a swelling outside an intersection O between extension lines x-x and y-y of adjoining two sides is provided at four corners of a through hole 12.例文帳に追加

応力緩和層５の形成に使用されるメタルマスク１１として、透孔１２の四隅部に、隣接する２辺の延長線ｘ−ｘ及びｙ−ｙの交点ｏよりも外側に膨らむ逃げ部１１ａを設けたものを用いる。 - 特許庁

To provide a mask protector or the like for which a through-hole is easily formed on a frame member without executing difficult work such as the work from the inner surface side of the frame member formed in a roughly rectangular shape or the like and the work of a corner part.例文帳に追加

略四角形等に形成される枠部材の内面側からの加工やコーナー部分の加工等の困難な加工を行うことなく、容易に枠部材に貫通孔を形成することができるマスク保護装置等を提供する。 - 特許庁

Each of a plurality of hole rows 15 of the shadow mask 5 is provided with an opening 16 with a long width in a vertical direction, an opening 17 with a short width in a vertical direction, and a bridge 1 between these openings.例文帳に追加

シャドウマスク５の複数の孔列１５の各々は、垂直方向幅が長い開孔１６と、垂直方向幅が短い開孔１７と、これらの開孔間のブリッジ１４とを有する。 - 特許庁

The insulating film 18 for reinforcement is then used as a mask for removing the insulating film 17 by etching while leaving the insulating film 17 on the sidewall of the via hole 16.例文帳に追加

そして、補強用絶縁膜１８をマスクとして、ビアホール１６の側壁の絶縁膜１７を残存させつつ、当該底部の絶縁膜１７をエッチングして除去する。 - 特許庁

To provide a technique for securing photoresist film, used as a mask in a process for forming a wiring groove or a connection hole, by etching in an insulating film where an SiC film is formed as an etching stopper film.例文帳に追加

エッチングストッパ膜としてＳｉＣ膜が形成された絶縁膜にエッチングにより配線溝または接続孔を形成する工程において、マスクとなるフォトレジスト膜を確保する技術を提供する。 - 特許庁

A frame plate 2 comprising a porous PTFE film is sandwiched in between the mask films 11 and 12 to constitute a laminate 14, and then a colloidal particle sticking region 15 is formed through the formation of through hole 5 and submersion in catalyst liquid.例文帳に追加

多孔質ＰＴＦＥ膜からなるフレーム板２をマスク膜１１，１２により挟んで積層体１４を構成した後、貫通孔５の形成、触媒液への浸漬によるコロイド粒子付着領域１５の形成を行う。 - 特許庁

A second flattening film (insulating film) 60 is formed by covering the circumference of a pixel electrode 50 and a positive hole transport layer 52, an organic light emitting layer 54, and an electron transport layer 56 are formed in order using the same mask.例文帳に追加

画素電極５０の周辺を覆って、第２平坦化膜（絶縁膜）６０を形成し、同一のマスクを使って、正孔輸送層５２、有機発光層５４、電子輸送層５６を順次形成する。 - 特許庁

As a result, when external force is applied to the filling 4, the first and the second broader parts 31 and 32 engage with a mask board 1, resulting in preventing the filling 4 from falling out of the through-hole 3.例文帳に追加

これにより、外力が充填物４に加わった場合に、第１及び第２の幅広部３１，３２がマスク基体１に係合して、充填物４が貫通孔３から抜けることを防止する。 - 特許庁

The manufacturing method of an organic electroluminescent panel includes: the step of forming more than one light-emitting layer 30 made of an organic material on a circuit board 10 having more than one pixel electrode 24 by deposition using a deposition mask 38 with more than one through-hole 40.例文帳に追加

複数の画素電極２４を有する回路基板１０に、複数の貫通穴４０を有する蒸着マスク３８を使用した蒸着によって、有機材料からなる複数の発光層３０を形成する。 - 特許庁

When cream solder is printed on the a-surface of the substrate 1, a cover plate 285 is placed on an upper surface of the composite mask 282 so as to cover and hide the b-surface through-hole group 283b, as shown in Fig. (a).例文帳に追加

基板１のａ面にクリームハンダを印刷する場合、図８（ａ）に示すように、使用しないｂ面貫通孔群２８３ｂを覆い隠すように遮蔽板２８５を複合マスク２８２の上面に配置する。 - 特許庁

When increasing the length of the string, the incision or hole 3, 4 is cut off to make a part of the mask body into a string form, allowing the string part for hooking on the ear to be extended.例文帳に追加

ひもの長さを長くする場合は切れ目又は穴３、４を切り離すことでマスク本体の一部をひも状とし、耳に掛かるひも状部分を長くできることを特徴とする。 - 特許庁

The mask 30 for the hub hole has a covering part 31, a grasping shaft part 32 which projects from the upper and under surfaces of the covering part 31 and a positioning shaft part 33.例文帳に追加

ハブ穴用マスク３０は、被覆部３１と、被覆部３１の上下面から突出する把持シャフト部３２，位置決めシャフト部３３を有している。 - 特許庁

A hole-type mark being used for alignment of a mask pattern is provided on a solid pattern formed on a semiconductor substrate and the solid pattern is formed to cover a region including the opening of the mark after it is used.例文帳に追加

マスクパターンの位置合わせに使用するホールタイプのマークを半導体基板に形成したベタパターン上に設け、該マークの使用後にはマークの開口部を含む領域を被覆するようにベタパターンを形成する。 - 特許庁

An etching process using first and second patterns is performed; and a hard mask pattern (111) shown in Fig. 6 is formed with a partial region of an interlayer insulation film (103), which is a contact hole region to be formed in a subsequent process, exposed.例文帳に追加

第１，第２パターンを用いたエッチング工程を行い、後工程で形成されるコンタクトホール領域である層間絶縁膜(103)の一部領域を露出させてハードマスクパターン（図６参照：111）を形成する。 - 特許庁

The deposition mask 10 forms a deposition pattern of an organic layer including a light emitting function layer so as to cover light emitting area forming parts 3R, 3G, 3B, and has a hole 10A corresponding to the deposition pattern.例文帳に追加

成膜用マスク１０は、発光領域形成部３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを覆うように発光機能層を含む有機層の成膜パターンを形成するものであり、この成膜パターンに応じた開口部１０Ａを備えている。 - 特許庁

The hood has an exhaust hose 38 inserted into the insertion hole 18 and a fan unit 40 which is connected to the tip at the opposite side of the mask part 16 and exhausts through a filter 42.例文帳に追加

この差込孔１８に差し込まれた排気用のホース３８と、このホース３８のマスク部１６とは反対側の先端部に連結されフィルタ４２を介して排気するファンユニット４０を有する。 - 特許庁

To provide a technique for forming a contact hole of a proper cross section to self-alignment by raising the substrate temperature to a high temperature, without requiring a process of mask removal.例文帳に追加

マスク除去のための工程を必要とせず、基板温度を高温に上昇させてセルフアラインに良好な断面形状のコンタクトホールを形成する技術を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a shadow mask of fine quality with an accurate through-hole size (without deficiency in transmittance), where a material is used effectively.例文帳に追加

貫通孔径の寸法不良（透過率不良）をなくし、品質のよいシャドウマスクが得られ、また資材の無駄がないシャドウマスクの製造方法及び製造装置を提供すること。 - 特許庁

After constituting a laminate 14 by pinching a frame plate 2 consisting of a porous PTFE film by mask films 11, 12, formation of a through hole 5 and formation of a colloid particle adhesion region 15 by immersion into a catalyst liquid are carried out.例文帳に追加

多孔質ＰＴＦＥ膜からなるフレーム板２をマスク膜１１，１２により挟んで積層体１４を構成した後、貫通孔５の形成、触媒液への浸漬によるコロイド粒子付着領域１５の形成を行う。 - 特許庁

A resist, wherein numberless mask parts or hole parts are regularly arranged in a surface extending state, is bonded to the molding surface 11 of a mold 10 for molding a resin.例文帳に追加

樹脂成形用金型１０の成形面１１に、無数のマスク部又はホール部が面広がり状に規則正しく配列したレジストを付着させる。 - 特許庁