「mirror interferometer」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

The interferometer measures the position in the second dimension of a mirror (MI).例文帳に追加

干渉計は、ミラー（ＭＩ）の第２次元の位置を測定する。 - 特許庁

To perform coarse adjustment of a fixed mirror or a moving mirror in a two-beam interferometer having a coarse adjustment mechanism for the fixed mirror.例文帳に追加

固定鏡の粗調整機構を有する二光束干渉計において、固定鏡もしくは移動鏡の粗調整を行う。 - 特許庁

Laser light 18a emitted from the first interferometer 18 along the X axis is reflected by the first mirror 34, the second mirror, and the third mirror 38 to be incident on the first interferometer 18.例文帳に追加

第１干渉計１８からＸ軸方向に発射されたレーザ光１８ａは、第１ミラー３４、第２ミラー、第３ミラー３８に反射されて、第１干渉計１８に入射する。 - 特許庁

The reflecting mirror and the interferometer may be provided to both ends of the member to be measured.例文帳に追加

反射鏡および干渉計を被測定部材の両端に設けてもよい。 - 特許庁

To provide a lithography system equipped having an interferometer for measuring the position of a mirror.例文帳に追加

ミラーの位置を測定する干渉計を有するリソグラフィ装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical multilayer film mirror having a broad high reflection band and a Fabry-Perot interferometer equipped with the optical multilayer film mirror.例文帳に追加

高反射帯域が広い光学多層膜ミラーおよびそれを備えたファブリペロー干渉計を提供する。 - 特許庁

To measure a variation in height of a stage by an interferometer system and to hold flexibility in disposing a moving mirror, etc. for other interferometer high.例文帳に追加

干渉計方式でステージの高さの変化を計測すると共に、他の干渉計用の移動鏡等の配置の自由度を高く保つ。 - 特許庁

A mirror is provided on the object stage, the interferometer is provided on a member supporting the base of the stage, and a position of the object stage is measured by the mirror and the interferometer.例文帳に追加

対象物ステージにはミラーが設けられ、干渉計装置がステージのベースを支持する部材に設けられ、ミラーと干渉計装置により対象物ステージの位置を測定する。 - 特許庁

To provide a two-beam interferometer capable of accurately stopping a rotary mirror on a center burst position by repeatedly rotating the rotary mirror by small energy.例文帳に追加

少ないエネルギーで回転鏡を反復回動させて正確にセンターバースト位置に停止できる二光束干渉計の提供。 - 特許庁

A laser interferometer 13X1 is equipped with an optical path changing device 40 having a movable mirror 410 and a fixed mirror 420.例文帳に追加

レーザ干渉計１３Ｘ１は可動ミラー４１０及び固定ミラー４２０を有する光路変更装置４０を備えている。 - 特許庁

To prevent a measurement accuracy from being worsened due to the vibration of the drive system of a mirror in an interferometer.例文帳に追加

干渉計におけるミラーの駆動系の振動による測定精度の悪化を防止する。 - 特許庁

A laser beam source 12, an interferometer part 14 and a reflection mirror 20 are provided on a main body base 10.例文帳に追加

本体ベース１０上にレーザ光源１２、干渉計部１４、反射ミラー２０を設ける。 - 特許庁

An angle reference mirror 13 for measuring the rotation of the interferometer 10 about the Y axis is applied to the side face of the interferometer 10 in the X direction.例文帳に追加

干渉計１０のＸ方向側面には、干渉計１０のＹ軸回りの回転を測定する角度参照ミラー１３が張り付けられている。 - 特許庁

This interferometer is provided with a straightness interferometer 12 for separating spectrally a laser beam L from a laser oscillator 11, a beam splitter 21a for the first reflecting mirror 21 arranged inside an optical path for laser beams L1, L2 from the straightness interferometer 12, a reflector 13 and the second reflecting mirror 22.例文帳に追加

レーザ発振器１１からのレーザ光Ｌを分光する真直度干渉計１２と、真直度干渉計１２からのレーザ光Ｌ１ 、Ｌ２ の光路内に配設する第１の反射ミラー２１用のビームスプリッタ２１ａ、反射器１３、第２の反射ミラー２２とを設ける。 - 特許庁

The beam production mechanism contains a beam splitter which partitions beam into a reference beam and a measuring beam, a reference mirror for providing a plane mirror interferometer, and a reflection surface which radiates at least one reference beam used for a differential plane mirror interferometer.例文帳に追加

ビーム生成機構は、ビームを基準ビームと測定ビームに分割するビームスプリッタ、平面鏡干渉計を提供する基準鏡、および、示差平面鏡干渉計に使用する少なくとも１つの基準ビームを放射する反射表面を有する。 - 特許庁

OPTICAL TEST SYSTEM INCLUDING INTERFEROMETER WITH MICROMIRROR AND PIEZOELECTRIC TRANSLATOR FOR CONTROLLING TEST PATH MIRROR例文帳に追加

試験経路ミラーを制御するためマイクロミラー及び圧電変換器を有する干渉計を含む光学システム - 特許庁

The delay interferometer in which a phase shifter 20 is incorporated includes a demultiplexer 12, a first reflecting mirror 14, a second reflecting mirror 16 and a multiplexer 18.例文帳に追加

位相シフタ20が組み込まれた遅延干渉計であり、分波器12、第1反射鏡14、第2反射鏡16、及び合波器18を具えて構成される。 - 特許庁

The interferometer systems (200, 800) includes a plane mirror interferometer (230), a deflecting mirror (212), retardation plate assemblies (216, 816A) with retardation plates which can be fixed after adjustment, and retro-reflectors (214, 814).例文帳に追加

平面鏡干渉計（２３０）、転向ミラー（２１２）、調節後に固定することが出来るリターデーションプレートを有するリターデーションプレートアセンブリ（２１６、８１６Ａ）およびレトロリフレクタ（２１４、８１４）を有する干渉計システム（２００、８００）。 - 特許庁

The first interferometer 18 is fixed to the fixed frame 12, the first mirror 34 to the first frame 24, the second mirror to the second frame, and the third mirror 38 to the stage 26.例文帳に追加

第１干渉計１８は固定フレーム１２に、第１ミラー３４は第１フレーム２４に、第２ミラーは第２フレームに、第３ミラー３８はステージ２６に、それぞれ取り付けられている。 - 特許庁

To provide a laser interferometer which can obtain stable measurement precision without any variation in the angle of a reference mirror and a reflecting mirror to a half-mirror in spite of vibration, secular changes, etc.例文帳に追加

ハーフミラーに対する参照ミラーと反射ミラーの角度が振動や経年変化等によっても変動せず、安定した測定精度が得られるレーザー干渉計を提供する。 - 特許庁

The detecting result of the laser interferometer of the node position of vibration is employed for detecting the position of the mirror M1 in order to adjust the position of the mirror M1.例文帳に追加

ミラーＭ１の位置を調整すべくミラーＭ１の位置を検出する際に、振動の節となる位置のレーザ干渉計の検出結果を採用する。 - 特許庁

The stage device for measuring the position of a stage by using the interferometer and the mirror reflecting light from the laser interferometer comprises a mirror shape calculation means for calculating the shape of the mirror, and a temperature regulating means for regulating the temperature of the mirror on the basis of output from the mirror shape calculation means.例文帳に追加

レーザ干渉計と、前記レーザ干渉計からの光を反射するミラーとを用いてステージの位置を計測するステージ装置であって、前記ミラーの形状を算出するミラー形状算出手段と、前記ミラー形状算出手段からの出力に基づいて、前記ミラーの温度を調節する温度調節手段とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The second interferometer I_2 radiates measuring light, and acquires a second interference fringe image, based on return light having returned to the second interferometer again after being reflected by a part of a spherical mirror formed on the backside of the reflecting flat mirror F_1.例文帳に追加

第２の干渉計Ｉ_2は、測定光を照射し、折り返し平面ミラーＦ_1の裏面に形成された球面ミラーの一部で反射され、再び第２の干渉計に戻ってきた戻り光を基に、第２の干渉縞画像を取得する。 - 特許庁

The laser interferometer improves a laser interferometer wherein a laser beam from a semiconductor laser is branched so as to be sent to a fixed mirror and a moving mirror, beams of return light from the respective mirrors are composited to obtain interference light and the movement distance of the moving mirror is detected on the basis of the interference light.例文帳に追加

本発明は、半導体レーザからのレーザ光を分岐して固定ミラーと可動ミラーとに送り、各ミラーからの戻り光を合成して干渉光を得て、この干渉光に基づいて可動ミラーの移動距離を検出するレーザ干渉計に改良を加えたものである。 - 特許庁

The mirror 11 introduces the laser light emitted from a laser light source to the reference mirror 13, and at the same time, the laser light reflected by the reference mirror 13 to a laser interferometer in reverse, via the same route.例文帳に追加

オフセットミラー１１は、レーザ光源から発射されたレーザ光をリファレンスミラー１３へ導くとともに、リファレンスミラー１３で反射されたレーザ光を、往路と逆の経路を辿ってレーザ干渉計へ導く。 - 特許庁

To enhance a dynamic measuring range for executing measurement using a plane mirror interferometer, without requiring a large optical element and a short separate distance, in an interferometer system.例文帳に追加

干渉計システムにおいて、大きな光学素子又は短い離間についての要請がなく、平面鏡干渉計を用いて測定するためのダイナミック測定レンジを向上すること。 - 特許庁

The interferometer comprises a plane reflecting mirror for holding the optical path of the part of the light beams to be returned by the parallel reflecting part.例文帳に追加

干渉計は、平行反射部で戻される光ビ−ムの一部の光路を保持する平面反射鏡を有する。 - 特許庁

To provide a compact interferometer wherein no large frictional force is generated, nor error occurs due to tilting of a moving mirror.例文帳に追加

コンパクトでなお且つ移動鏡の傾きによる誤差や大きな摩擦力を生じることのない干渉計を提供する。 - 特許庁

To contribute to the suppression of a cost by eliminating the measuring shaft of an interferometer even at the time of measuring the profile irregularity of a long size mirror.例文帳に追加

長尺鏡の面精度を計測する際にも、干渉計の計測軸を削減してコストの抑制に寄与する。 - 特許庁

To provide a moving mirror support device for an optical interferometer which eliminates the longitudinal displacement of a moving mirror even when the lateral amplitude is made large and free of an initial overshoot.例文帳に追加

横方向の振幅を大きくしても縦方向への移動ミラーの変位がなく初期オーバシュートのない光干渉計用移動ミラー支持装置を提供する。 - 特許庁

The second interferometer I_2 emits measuring light and obtains a second interference fringe image based on return light that returns to the second interferometer I_2 again after being reflected from a mirror surface S_1 formed on a surface of the reflecting plane mirror F_1.例文帳に追加

そして、第２の干渉計Ｉ_2は、測定光を照射し、折り返し平面鏡Ｆ_1の表面に形成された鏡面Ｓ_1で反射され、再び第２の干渉計Ｉ_2に戻ってきた戻り光を基に、第２の干渉縞画像を取得する。 - 特許庁

In the positioning device that includes a laser interferometer loaded on a slider, and a fixed mirror, the slider is positioned by measuring the length, based on laser interference, by using laser light making a round trip between the laser interferometer and the fixed mirror.例文帳に追加

スライダに搭載されたレーザ干渉計と、固定ミラーとを備え、前記レーザ干渉計と前記固定ミラーとの間で往復するレーザ光を用いてレーザ干渉に基づく測長を行うことで前記スライダを位置決めする位置決め装置である。 - 特許庁

A first laser interferometer 41 and a second laser interferometer 42 each include a light source, a mirror 104 attached to a stage 105, and an optical system which receives light reflected by the mirror 104 after being emitted from the light source.例文帳に追加

第１のレーザ干渉計４１と第２のレーザ干渉計４２は、それぞれ、光源と、ステージ１０５に取り付けられるミラー１０４と、光源から出射された後にミラー１０４で反射されて戻った光を受光する光学系とを備える。 - 特許庁

To reduce influence of a measurement error in a stage device measuring a position by using a laser interferometer and a mirror.例文帳に追加

レーザ干渉計とミラーを用いて位置計測をするステージ装置において、計測誤差の影響を低減することを目的とする。 - 特許庁

The position of an X direction of the wafer table 11 is measured by an X-axis laser interferometer 23X and the moving mirror 21X.例文帳に追加

Ｘ軸レーザ干渉計２３Ｘ及び移動鏡２１Ｘによって、ウエハテーブル１１のＸ方向の位置を計測する。 - 特許庁

The substrate support device 41 comprises a laser interferometer system 29, a movable stage structure 42, a stage mirror 43 fixed by the movable stage structure for reflecting laser beams of the laser interferometer system.例文帳に追加

基板支持装置４１は、レーザー干渉計システム２９と、可動なステージ構造物４２と、可動なステージ構造物に固定され、レーザー干渉計システムのレーザービームを反射するステージミラー４３と、を備える。 - 特許庁

To prepare correction data for measurement error of an interferometer due to bending of a reflection mirror, use an interferometer for improving measuring accuracy with the correction data to drive a movable body in high accuracy.例文帳に追加

反射鏡の曲がりに起因する干渉計の計測誤差の補正データを作成し、該補正データを用いて計測精度が改善される干渉計を用いて、移動体を高精度に駆動する。 - 特許庁

In the distance measuring equipment, a laser light source 11, a first splitter 12, a reference mirror 14, a mirror moving section 15, and a first light receiving element 16 form a Michelson interferometer, and the interferometer calculates the position where the amount of incident light at the first light receiving element 16 is the maximum level within a predetermined moving range of the reference mirror 14.例文帳に追加

距離測定装置のレーザ光源１１、第１スプリッタ１２、参照ミラー１４、ミラー移動部１５、第１受光素子１６はマイケルソン干渉計を構成し、参照ミラー１４が移動する所定範囲内において第１受光素子１６の入射光量が最大レベルとなる位置を算出する。 - 特許庁

A laser irradiation device, composed of a laser oscillator, an interferometer composed of a mirror and a half-mirror, an optical modulator, a focusing lens mounted on a linear translator, an objective lens and a galvanomirror, is used.例文帳に追加

レーザ発振器、ミラーとハーフミラーで構成した干渉計、光変調器、リニアトランスレータに搭載された集光レンズ、対物レンズ、およびガルバノメータミラーからなるレーザ照射装置を用いる。 - 特許庁

The interferometer 1 has a half mirror 12 for branching an incident light beam L0 into multiple branched light beams L1, L2, and makes the light beam L1, L2 branched by the half mirror 12 to interfere with each other.例文帳に追加

干渉計１は、入射光Ｌ０を複数の分岐光Ｌ１，Ｌ２に分岐するハーフミラー１２を備えており、ハーフミラー１２で分岐された分岐光Ｌ１，Ｌ２を干渉させるものである。 - 特許庁

A relative position can be measured by an interferometer or a capacitive sensor which is mounted on the fixed/extended portion of the mirror.例文帳に追加

相対位置の測定は、ミラーの固定延長部上に装着した干渉計または容量性センサによって実行可能である。 - 特許庁

To provide a white light interferometer dispensing with a moving device for a movable mirror and a displacement measuring instrument.例文帳に追加

可動ミラーのための移動装置及び変位測定装置を必要としない白色光干渉計を提供することを目的とする。 - 特許庁

The interferometer 7 of the eccentricity measuring device 1 is provided with a beam splitter 8, a corner cube prism 9, a planar mirror 10, and a screen 11.例文帳に追加

偏心計測装置１の干渉計７は、ビームスプリッタ８と、コーナーキューブプリズム９と、平面鏡１０と、スクリーン１１とを備えている。 - 特許庁

A moving mirror 14 provided on the wafer stage 13 is irradiated with the measuring beam 52 by the laser interferometer 51, to thereby detect its position.例文帳に追加

レーザー干渉計５１によりウエハステージ１３に設けられた移動鏡１４に測定ビーム５２を照射しその位置を検出する。 - 特許庁

This interferometer system is provided with a beam production mechanism, a beam reflecting mirror, and a sensing device for detecting interference pattern of overlapped reflection beam.例文帳に追加

干渉計装置は、ビーム生成機構、ビーム反射鏡、および重複する反射ビームの干渉パターンを検出する検出デバイスを有する。 - 特許庁