nm Sの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 129件
The deposition rate of the silicon film is preferably 0.02 to 1 nm/s, and more preferably 0.05 to 0.5 nm/s.例文帳に追加
シリコン膜の堆積速度は、好ましくは0.02〜1nm/sであり、より好ましくは、0.05〜0.5nm/sである。 - 特許庁
By adding P and S to Pt and Pd, respectively, a PtP catalyst and a PdS catalyst having a grain diameter of less than 5 nm are obtained.例文帳に追加
PtにP、PdにSを添加して粒径5nm未満のPtP触媒およびPdS触媒を得る。 - 特許庁
The granular activated carbon satisfies expression; 75<(S-500)/20+MPR [wherein, S is BET specific surface area (m^2/g); MPR is micropore volume ratio (pore volume of ≤1.6 nm/pore volume of ≤20 nm×100)].例文帳に追加
式 75<(S−500)/20 + MPR但し、 S:BET比表面積(m^2/g) MPR:ミクロポア容積率 (1.6nm以下の細孔容積/20nm以下の細孔容積 ×100) を満たす粒状活性炭が、前記課題を解決した。 - 特許庁
To realize an additional improvement in an S/Nm (signal-to-medium noise ratio).例文帳に追加
S/Nm(出力対媒体ノイズ比)の更なる向上を実現する。 - 特許庁
The catalyst is formed on the base material at a speed of 0.5 nm/s.例文帳に追加
前記触媒は0.5nm/sの速度で前記基材に形成される。 - 特許庁
There is provided the granulated active carbon satisfying the following formula, 75<(S-500)/20+MPR [wherein S represents BET specific surface (m^2/g); and MPR represents micropore volume percent, that is, (pore volume of micropores not more than 1.6 nm/pore volume of micropores not more than 20 nm×100)].例文帳に追加
式 75<(S−500)/20 + MPR但し、 S:BET比表面積(m^2/g) MPR:ミクロポア容積率 (1.6nm以下の細孔容積/20nm以下の細孔容積 ×100) を満たす粒状活性炭が、前記課題を解決した。 - 特許庁
Sputtering particles are made to fly from a helicon sputtering source 52 by setting a film deposition rate of a gold thin film 12 to the range from 0.01 nm/s to 0.6 nm/s.例文帳に追加
金薄膜12の成膜速度を0.01nm/s以上、0.6nm/s以下の範囲に設定し、ヘリコンスパッタ源52からスパッタ粒子を飛翔させる。 - 特許庁
In am embodiment, the S band is in a range of 1510 to 1525 nm, the M band is in a range of 1525 to 1565 nm and the L band is in a range of 1565 to 1610 nm.例文帳に追加
実施例では、Sバンドは1510nm〜1525nm、Mバンドは1525nm〜1565nm、Lバンドは1565nm〜1610nmの範囲である。 - 特許庁
The S/O formulation for percutaneous drug delivery comprises: a drug; and a gold nanorod having an absorption band in the region of 650 to 2,000 (preferably, of 680 to 1,200 nm, more preferably, of 700 to 900 nm).例文帳に追加
薬物と、650〜2000nm(好ましくは680〜1200nm、より好ましくは700〜900nm)の領域に吸収帯を有する金ナノロッドとを含む、経皮薬物送達用S/O製剤を提供する。 - 特許庁
The method for inducing the shoots of the plant is characterized by culturing the cells, organs or tissues of a plant under light quality conditions comprising the light wavelengths of blue light of 420 to 500 nm, green light of 500 to 570 nm, or red light of 590 to 700 nm and a light intensity of 2 to 50 μmol/m^2/s.例文帳に追加
植物の細胞、器官又は組織を、420〜500nmの青色光、500〜570nmの緑色光又は590〜700nmの赤色光の光波長と2〜50μmol/m^2/sの光強度とから成る光質条件下で培養する。 - 特許庁
The light having a peak wavelength of 400-550 nm includes the one having LED as a light sauce, and photon flux density is preferably 15-200 μmol m^-2 s^-1.例文帳に追加
ピーク波長400〜550nmの光は、LEDを光源とする光であって、光量子束密度が15〜200μmol・m^-2・s^-1であることが好ましい。 - 特許庁
In addition, the design film thickness of the oxide semiconductor film is set to 30 nm±15 nm, thus optimizing field effect mobility μ, On/Off ratio and S value.例文帳に追加
また、酸化物半導体膜の設計膜厚を30nm±15nmにすることにより、電界効果移動度μ、On/Off比、S値を最適化する。 - 特許庁
Typically, the composition formula is represented by Gd3-sEusSCtGa5-tO12 (with the proviso that s and t satisfy the equations 0<s<3 and 1.8<t<2.2), and the lattice constant can be freely adjusted by changing the composition within the range of 1.256-1.262 nm.例文帳に追加
典型的には、組成式はGd_3-s Eu_s Sc_t Ga_5-t O_12(但し、0<s<3,1.8<t<2.2)で示され、組成を変えることで格子定数を1.256nm〜1.262nmの範囲で自由に調整可能である。 - 特許庁
The surface roughness of the positive electrode 20's surface in contact with the planarized layer 30 is 0.5 nm or more.例文帳に追加
そして、陽極20は、その平坦化層30と接する表面の表面粗さが0.5nm以上である。 - 特許庁
This dielectric multi-layer film mirror 5 is constituted such that it transmits light with a wavelength of less than 500 nm in both P and S waves and that it reflects light with a wavelength of 500 nm or above.例文帳に追加
この誘電体多層膜ミラー5は、P波、S波ともに波長500nm以下の光を透過し、波長500nm以上の光を反射するように構成する。 - 特許庁
Then, an inner wall of the arc tube 11 is coated under a condition of N/S=2<(N/S)<7 when the phosphor amount having a peak of conversion efficiency between 300-340 nm after a mercury spectrum 253.7 nm is converted is N(mg) and an inner surface area to be coated is S(cm^2).例文帳に追加
そして、発光管11の内壁に、水銀スペクトルである253.7nmを変換し、300〜340nmの間に変換効率のピークを持つ蛍光体量をN(mg)とし、塗布する内表面積をS(cm^2)としたときに、N/Sが、2<(N/S)<7での条件で塗布した。 - 特許庁
The silica has ≤10 nm modal diameter (D_max) of pores and ≤10 ppm total concentration of S, Cl and N.例文帳に追加
細孔の最頻直径(D_max)が10nm以下であり、SとClとNの合計濃度が10ppm以下であるシリカ。 - 特許庁
This adsorbent S packed in an adsorption core is composed of a porous body having ≥0.2 cm2/g fine pore volume occupied by the pores having ≥1.0 nm to ≤1.5 nm fine pore diameter.例文帳に追加
吸着コアに充填される吸着剤Sは、細孔径が1.0nm以上1.5nm以下の細孔が占める細孔容積が0.2cm^3/g以上である多孔質体よりなる。 - 特許庁
The galvannealed steel sheet has a flat part on the plated surface, and has an oxide layer including Zn and S on the surface of the flat part, of which the thickness is 10 nm or thicker.例文帳に追加
めっき表面に平坦部を有し、その平坦部の表層にZnとSを含む酸化物層が形成され、その厚さが10nm以上であることを特徴とする合金化溶融亜鉛めっき鋼板。 - 特許庁
The poly(lactic acid)-based film has a static friction coefficient between the two surfaces of the one side surface (the S surface) of each other at least in the range of 0.05-0.4 and has a surface roughness Ra of the S surface in the range of 15-300 nm.例文帳に追加
少なくとも片面(S面)同士の静摩擦係数が0.05〜0.4の範囲であり、かつS面の表面粗さRaが15〜300nmの範囲のポリ乳酸系フィルム。 - 特許庁
The pattern 62 is formed on the subfield 42 and has a line width L selected, so that the line width L/space width becomes S≤1, 1/2, and 1/4 for L larger than 500 nm, L in the range of 400 nm to 500 nm, and L less smaller than 400 nm, respectively.例文帳に追加
実デバイスパターン62はサブフィールド42に形成され、線幅が500nmを越えるパターンの場合には線幅L/スペース幅S≦1、線幅が400nm〜500nmのパターンの場合には線幅L/スペース幅S≦1/2、線幅が400nm未満のパターンの場合には線幅L/スペース幅S≦1/4であるデバイスパターンとする。 - 特許庁
In the fine ruggedness, preferably, the average spacing (S) between local summits in a roughness curve is 10 to 1,000 nm, and the average roughness (Ra) is 1 to 100 nm.例文帳に追加
さらに、前記微細凹凸は、粗さ曲線の局部山頂の平均間隔(S)が10nm以上1000nm以下、平均粗さ(Ra)が1nm以上100nm以下であることことが好ましい。 - 特許庁
To provide an optical amplifier to produce a high power even in a wavelength range from 1,490 to 1,525 nm actuated in S band and C band.例文帳に追加
1490〜1525nm波長帯においても高出力が得られ、SバンドとCバンドとで動作可能な光増幅器を提供する。 - 特許庁
The optical compensation sheet has at least one layer of optically anisotropic layers of which the surface alignment order S satisfies 0.35≤S≤0.7 and the layer thickness is 800 to 1,400 nm.例文帳に追加
配向秩序度Sが0.35≦S≦0.7を満足し、且つ層厚が800〜1400nmである光学異方性層を少なくとも一層有することを特徴とする光学補償シートである。 - 特許庁
The anti-oxidation film S is formed of SiO_2 having a thickness of about 70 nm along the flat stripe top surface Σ of a resonator.例文帳に追加
この酸化防止膜Sは、膜厚が約70nmのSiO_2 から形成し、共振器のストライプ状の平頂面Σに沿って形成する。 - 特許庁
In such as case, the transparent conductive film 4 is formed on the outermost layer of the multi-structural dielectric film s and is controlled to have 5-20 nm thickness.例文帳に追加
このとき、透明導電性薄膜4を多層構造の誘電体膜3の最外層に形成し、その膜厚を5〜20nmとする。 - 特許庁
Disclosed are the dispersion shift optical fiber 1 which has a dispersion value D (2≤D≤8 (ps/nm/km)) and a ≤4 (ps/nm/km) maximum differnece in dispersion value in the whole wavelength band of 1460 to 1625 nm covering the S-band, C-band, and L-band and the optical communication system which uses the same.例文帳に追加
S−バンド,C−バンドおよびL−バンドに亘る1460〜1625nmの全波長帯域において、分散値Dが2≦D≦8(ps/nm/km)であり、かつ、分散値の最大差が4(ps/nm/km)以下である分散シフト光ファイバ1およびこれを用いた光通信システム。 - 特許庁
An improved optical fiber design is found to exhibit a relatively low attenuation at the wavelength of 1,385 nm (the "water peak") , allowing for Raman amplification to be efficient and effective at wavelengths in the S-band range of 1,460 to 1,530 nm.例文帳に追加
1460から1530nmのS−バンド範囲の波長で効率的かつ効果的なラマン増幅を可能にする、1385nmの波長(「ウォーターピーク」)での減衰が比較的低い改良型の光ファイバを設計した。 - 特許庁
In the optical glass, the wave length λ70 at which the spectral transmittance is 70% is ≤590 nm, and the viscosity at a liquid-phase temperature is ≥2 dPa s.例文帳に追加
また、分光透過率が70%を示す波長λ70が590nm以下であり、液相温度における粘度が2dPa・s以上である光学ガラス。 - 特許庁
The cellulose ester film has a planar orientation degree S represented by following formula (I) of 0.0004 or less, and has the retardation Rt in the direction of film thickness of less than 10 nm.例文帳に追加
下記式(I)で表される面配向度Sが0.0004以下であり、且つ、膜厚方向のリタデーションRtが10nm未満であるセルロースエステルフィルム。 - 特許庁
The stripping liquid is a hydrocarbon-based solvent of which the viscosity is 1.3 mPa s or less and the dissolving speed with respect to the adhesive is 30 nm/sec or more.例文帳に追加
剥離液は、粘度が1.3mPa・s以下であり、かつ接着剤に対する溶解速度が30nm/sec以上である炭化水素系溶剤である。 - 特許庁
Viscosity of this dispersed liquid is 6.0 mPa s or less, and the average value of the dispersed particle diameter of the conductive polymer and the dopant is 50 nm or less.例文帳に追加
この分散液の粘度は6.0mPa・s以下であり、かつ導電性高分子とドーパントとの分散粒子径の平均値は50nm以下である。 - 特許庁
Also, in forming the anti-ferromagnetic layer 6 of Rh/Mn alloy, the second magnetic layer 5 is formed at a film formation rate which is 0.181 nm/s or less.例文帳に追加
また、反強磁性層6をRh−Mn合金によって形成する場合には、第2の磁性層5を0.181nm/s以下の成膜レートで形成する。 - 特許庁
In forming the anti-ferromagnetic layer 6 of Ir/Mn alloy, the second magnetic layer 5 is formed at a film formation rate which is 0.078 nm/s or less.例文帳に追加
反強磁性層6をIr−Mn合金によって形成する場合には、第2の磁性層5を0.078nm/s以下の成膜レートで形成する。 - 特許庁
The film thickness of the pixel electrodes is not less than 50 nm but not more than 200 nm, and the distance T between the surface of the pixel electrodes and the surface of the gap between the pixel electrodes is smaller than the width S of the gap between pixels of the pixel electrodes.例文帳に追加
そして、画素電極の膜厚は50nm以上200nm以下であって、画素電極上の表面と画素電極間の隙間の表面までの距離Tが画素電極の画素間の隙間の間隔Sより小さい。 - 特許庁
The optical fiber 12 satisfies relational expressions of -110≤D≤-50 and 0.009≤S/D≤0.011 for wavelength dispersion D_2 (unit: ps/nm/km) and a dispersion slope S_2 (unit: ps/nm2/km) at the wavelength of 1,590 nm.例文帳に追加
光ファイバ12は、波長1590nmにおける波長分散D_2(単位ps/nm/km)および分散スロープS_2(単位ps/nm^2/km)が「−110≦D≦−50」および「0.009≦S/D≦0.011」なる関係式を満たす。 - 特許庁
It is desirable that the value of the ratio of the blowing depth of the inert gas blown into the molten steel to the molten steel depth is made ≥0.6 and a line speed at the outlet of a nozzle for oxygen gas blown onto the molten steel is set to the range of 300-900 Nm/s.例文帳に追加
前記溶鋼に吹き込む不活性ガスの吹き込み深さと溶鋼深さとの比の値を0.6以上とし、また、前記溶鋼に吹き付ける酸素ガスのノズル出口における線速度を300〜900Nm/sの範囲とすることが好ましい。 - 特許庁
The spectral transmission characteristics in the range of wave length of 400-450 nm is flattened by combining ≥1 kind(s) among P_2O_5, V_2O_5, NiO, K_2Cr_2O_7, and Pr_6O_11.例文帳に追加
P_2O_5,V_2O_5,NiO,K_2Cr_2O_7,Pr_6O_11のうち1種以上を組み合わせて波長域400mm〜450nmの分光透過特性を平坦化した。 - 特許庁
The cellulose ester film has a plane orientation degree S represented by the following formula (I) of 0.0004 or less, and has the retardation Rt in the direction of film thickness of less than 20 nm.例文帳に追加
下記式(I)で表される面配向度Sが0.0004以下であり、且つ、膜厚方向のリタデーションRtが20nm未満であることを特徴とするセルロースエステルフィルム。 - 特許庁
This rubber composition is obtained by compounding a diene rubber material as the rubber component with carbon black ≥60 nm in the carbon-carbon spacing (S) calculated by a specified formula.例文帳に追加
ジエン系ゴム材料をゴム成分として、これに、所定の式にて算出されるカーボン間距離(S):60nm以上であるカーボンブラックを配合せしめて、ゴム組成物とした。 - 特許庁
W=2πnTt (1), wherein W is the work done (W h), π is the ratio of the circumference of a circle to its diameter, n is the number of rotation of the rotor (cycles/s), T is the torque (Nm) and t is the dispersion time (h).例文帳に追加
W=2πnTt ・・・・・(1)(W:分散の仕事量(W・h)、π:円周率、n:ローター回転数(cycles/s)、T:トルク(Nm)、t:分散時間(h)) - 特許庁
The soft magnetic member 1 comprises a resin film 2, an underlying metal layer 3 formed on the resin film 2, and a soft magnetic metal layer 4 formed on the underlying metal layer 3 wherein the thickness s of the underlying metal layer 3 and the thickness p of the soft magnetic metal layer 4 satisfy following relations: 5≤p/s<10 and 0<s<100 nm.例文帳に追加
樹脂フィルム2と、樹脂フィルム2上に形成された下地金属層3と、下地金属層3上に配設された軟磁性金属層4と、を備えた軟磁性部材1であって、下地金属層3の厚さをs、軟磁性金属層4の厚さをpとすると、5≦p/s<10かつ0<s<100nmとする。 - 特許庁
In the S/O suspension-producing method, a W/O emulsion is dehydrated, thereby the S/O suspension including water-soluble solid substances dispersed in the oil phase in the form of fine particles having an average particle size of 20 nm to 10 μm is produced.例文帳に追加
W/Oエマルションを脱水することにより、平均粒径20nm〜10μmの粒子として水溶性固体物質が油相中に分散したS/Oサスペンションを製造することを特徴とするS/Oサスペンションの製造方法に係る。 - 特許庁
The Acanthopanax senticosus Harms subjected to the embryo culture is preferably obtained by irradiating the Acanthopanax senticosus Harms with a light having 250-760 nm wavelength and ≥40 μmol/m^2/s photon flux density.例文帳に追加
このとき、胚培養したエゾウコギが、培養時に波長250〜760nmで光量子束密度40μmol/m^2/s以上の光を照射して得られうるものであることが好ましい。 - 特許庁
Then, a shielding film S made of a stripe shape Al_2O_3 extended in the resonance direction in the flat top surface of the first metal layer 106a is formed by about 180 nm of thickness by a lift-off method.例文帳に追加
その後、リフトオフ法によって、第1金属層106aの平頂部に共振方向に伸びるストライプ状のAl_2 O_3 から成る遮蔽膜Sを膜厚約180nmで形成した。 - 特許庁
This pest-repellent coating liquid composition comprises red microparticles having the crystal structure of α-Fe2O3 and an average size of 25-90 nm, organic and/or inorganic binder(s) and an organic solvent.例文帳に追加
平均粒径25〜90nmのα−Fe_2 O_3 の結晶構造を持つ赤色微粒子と、有機および/または無機バインダーと、有機溶媒よりなる害虫阻止用塗布液組成物を得る。 - 特許庁
These synthetic resin plates can be discriminated from other synthetic resin plate(s) by the discrimination method comprising irradiating the edge faces thereof with rays of 300-400 nm wavelength to effect emission of the fluorescent substance.例文帳に追加
これらの合成樹脂板は、その端面に300〜400nmの波長の光を照射して蛍光物質を発光させる識別方法によって、他の合成樹脂板と識別される。 - 特許庁
The epoxy resin composition essentially comprises (A) an epoxy resin, (B) an epoxy resin curing agent, (C) globular nanoparticles having a particle size of 1,000 nm or less, and at least one block copolymer (D) selected from the group consisting of S-B-M, B-M, and M-B-M.例文帳に追加
下記[A]〜[D]を必須とするエポキシ樹脂組成物、それを繊維基材に含浸して得られるプリプレグ、およびそのプリプレグを硬化してなる繊維強化複合材料。 - 特許庁
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|