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nm aの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 11984



例文

A thickness d of a well layer of the saturable absorption layer meets 0.5 nm≤d≤4 nm, preferably 0.5 nm≤d≤3 nm.例文帳に追加

この厚さdは、0.5nm≦d≦3nmであることが好ましい。 - 特許庁

Total dispersion is 1,530 nm and positive and at least 2 ps/nm-k and a dispersion gradient is <about 0.1 ps/nm^2-km.例文帳に追加

全分散は1530nmで正且つ少なくとも2ps/nm-kmで、分散勾配は約0.1ps/nm^2-km未満ある。 - 特許庁

The fibers exhibit a chromatic dispersion greater than 20±2.0 ps/(nm-km) and a dispersion slope less than 0.062 ps/(nm^2-km) at a wavelength of 1,550 nm.例文帳に追加

波長1,550nmにおけるファイバの色分散は、20±2.0ps(nm-km)より大きく、また、その分散傾斜は、0.062ps/(nm^2-km)より小さい。 - 特許庁

Formula (1): A<520 nm, (2) |H-A|>15 nm.例文帳に追加

式(1) A<520nm 式(2) |H−A|>15nm - 特許庁

例文

The calcium carbonate can have a maximum mean average particle size of 200 nm.例文帳に追加

炭酸カルシウムは、200 nmの最大平均粒径を有しうる。 - 特許庁


例文

The liquid crystal compound has, at a wavelength λ, a natural birefringence Δn(λ) which satisfies formula (1) as follows: Δn(450 nm)/Δn(550 nm)<1.0 (1).例文帳に追加

Δn(450nm)/Δn(550nm)<1.0 (1) - 特許庁

A film thickness (T1: nm) at a central portion of the colored film and a thickness (T2: nm) at the farthest edge portion are preferably satisfied with a relationship of 0.2≤T2/T1≤0.8.例文帳に追加

前記着色膜の中心部の膜厚(T1:nm)と最縁部の膜厚(T2:nm)とが、0.2≦T2/T1≦0.8の関係を満足することが好ましい。 - 特許庁

The light emitting spectrum of the LED is practically limited in a range at 550 nm-660 nm, and desirably limited to one of ranges at 590 nm-640 nm, 560 nm-644 nm, 650 nm-660 nm, and 550 nm-570 nm.例文帳に追加

LEDの発光スペクトルは、実質的に550nmから660nmの範囲に制限され、好ましくは590nmから640nm、560nmから644nm、650nmから660nm、550nmから570nmの範囲の1つに制限されてよい。 - 特許庁

(2) λ/g≥1.4 and (3) λ/h≤5.0, wherein d (nm) is the average length of projections in a unit area, g (nm) is an average distance between projections, and h (nm) is the average height of projections.例文帳に追加

λ/d≧1.0 (1) λ/g≧1.4 (2) λ/h≦5.0 (3) - 特許庁

例文

Furthermore, the respective retardation values can be nearly a quarter of a red wavelength (e.g. 120 nm<rR<180 nm), nearly a quarter of a green wavelength (e.g. 110 nm<rG<170 nm), and nearly a quarter of a blue wavelength (e.g. 80 nm<rB<140 nm) in this order.例文帳に追加

なお、各位相差値は、当該順に、赤色波長の略1/4(例えば、120nm<rR<180nm)、緑色波長の略1/4(例えば、110nm<rG<170nm)、青色波長の略1/4(例えば、80nm<rB<140nm)となっていてもよい。 - 特許庁

例文

WRa (2.5) A=3-10 nm.例文帳に追加

WRa(2.5)A=3〜10nm。 - 特許庁

Then, WRa (25) A=2-10 nm.例文帳に追加

WRa(25)A=2〜10nm。 - 特許庁

The well layer has a thickness of 3 nm to 20 nm.例文帳に追加

井戸層の厚さは3nmより大きく20nm以下である。 - 特許庁

An etching grade when etching the SiO_2 of the gate oxide film 5 with a buffered hydrofluoric acid (BHF about 7%) is 1 nm/sec or more and 3 nm/sec or less.例文帳に追加

ゲート酸化膜5であるSiO_2をバッファードふっ酸(BHF約7%)でエッチングした場合のエッチングレートを、1 nm/sec以上3 nm/sec以下とした。 - 特許庁

To provide a fluorophor which has broad peaks in a range of yellow to red (580 nm to 680 nm), has good excitation bands on long wave length side from near UV/UV light to visible light (250 nm to 550 nm) of excitation light, and has an improved light emission intensity.例文帳に追加

黄色から赤色(580 nm 〜 680 nm)の範囲にブロードなピークを持ち、励起光である近紫外・紫外から可視光(250 nm 〜 550 nm)という長波長側に良好な励起帯を持つとともに、発光強度が向上した蛍光体を提供すること。 - 特許庁

The barrier-type anodic oxide coating has a thickness of 100-500 nm, preferably 150±30 nm or 300±20 nm.例文帳に追加

バリア型陽極酸化皮膜の厚さは、150±30nm又は300±20nmが好ましい。 - 特許庁

In the grating 14c, a following relation is satisfied; 0.5 nm>λ_0.2-λ_p>0.1 nm.例文帳に追加

グレーティング14cにおいて0.5nm>λ_0.2—λ_P>0.1nmである。 - 特許庁

(2) A ratio A_600/A_500 of absorbance A_600 in 600 nm and absorbance A_500 in 500 nm is 0.7-1.4.例文帳に追加

(2)600nmにおける吸光度A_600と500nmにおける吸光度A_500の比A_600/A_500が0.7〜1.4である。 - 特許庁

The well layer has a thickness of more than 2.5 nm and not more than 10 nm.例文帳に追加

井戸層の厚さは2.5nmより大きく10nm以下である。 - 特許庁

The nanodot 13a has a diameter of60 nm or20 nm.例文帳に追加

ナノドット13aの径は60nm以下または20nm以下にする。 - 特許庁

The sizes of the fineparticles are not particularly limited. Fineparticles having a mean particle size of 50 nm or smaller can be used, and fineparticles having a mean particle size of, preferably 20 nm or smaller, further preferably 10 nm or smaller, most preferably about 1 to 6 nm, can be used. 例文帳に追加

微粒子の粒径は特に限定されないが、50 nm以下の平均粒径を有する微粒子を用いることができ、好ましくは平均粒径が20 nm以下、さらに好ましくは平均粒径が10 nm以下、特に好ましくは平均粒径が1~6 nm程度の微粒子を用いることができる。 - 特許庁

To provide an infrared cut filter and a medical endoscope using the infrared cut filter having a transmission band with wavelength 270-600 nm and a non-transmission band with wavelength 700-2,500 nm.例文帳に追加

波長270〜600 nmで透過帯を有し、波長700〜2,500 nmで不透過帯を有する赤外カットフィルター及びそれを用いた医療用内視鏡を提供すること。 - 特許庁

The first retardation area satisfies the following expressions: 0 nmRe(590)≤10 nm and |Rth(590)|≤25 nm, wherein Re(λ) is an in-plane retardation (nm) at a wavelength of λnm, and Rth(λ) is a retardation (nm) in the thickness direction at a wavelength of λnm.例文帳に追加

但し、Re(λ)は、波長λnmにおける面内レターデーション(nm)を、Rth(λ)は波長λnmにおける厚み方向のレターデーション(nm)を意味する。 - 特許庁

The intermediate layer has a thickness ranging from 10 nm to 200 nm.例文帳に追加

前記中間層の厚さは、10nm以上、200nm以下である。 - 特許庁

The thickness of the silver thin film is in a range of 100 nm to 350 nm.例文帳に追加

銀薄膜の膜厚は、100nmから350nmの範囲とする。 - 特許庁

The film thickness of a reflection film 2 is specified to be in the range of 20 to 45 nm, desirably to be 30 nm±5 nm.例文帳に追加

反射膜2の膜厚は20nm〜45nmの範囲で、望ましくは30nm±5nmとする。 - 特許庁

To provide a photoresist composition suitable for short wavelength imaging, including sub-200 nm, particularly 193 nm or 157 nm.例文帳に追加

200nm以下、特に193nmまたは157nmの波長を有する短波長イメージングに適する。 - 特許庁

A micro crystalline thin film whose Argon(Ar) gas pressure is 5 mTorr and whose mean particle diameter is about 10 nm is accumulated by 300 nm so that an accumulated semiconductor thin film 33 can be obtained.例文帳に追加

アルゴン(Ar)ガス圧を5 mTorrとし、平均粒径約10 nmの微結晶体薄膜を300 nm堆積し、堆積半導体薄膜33とした。 - 特許庁

A UV ray absorbing layer whose ratio of transmittance at a wavelength of 365 nm (T (365 nm)) to transmittance at a wavelength of 315 nm (T (315 nm)), (T (365 nm))/(T (315 nm)), is 6.3 or more is provided between an insulation substrate and a transparent electrode.例文帳に追加

絶縁性基板と透明電極との間に、波長365nmにおける透過率(T(365nm))と波長315nmにおける透過率(T(315nm))の比(T(365nm)/T(315nm))が6.3以上である紫外線吸収層を設ける。 - 特許庁

The line-width variation corresponding to the intersection A is 2.1 nm.例文帳に追加

このときの、線幅変動は2.1nmである。 - 特許庁

White part chromaticity of an image non-printing portion of the card base material satisfies the following condition A: a reflection density A (λ) at a wavelength λ nm is ≤0.08 at 450 nm, is ≤0.10 at 550 nm, and is ≤0.10 at 650 nm.例文帳に追加

条件A:波長λnmでの反射濃度A(λ)が、450nmで0.08以下、550nmで0.10以下、及び650nmで0.10以下である。 - 特許庁

The rubber composition is prepared by compounding sulfur (B), a cobalt salt of an organic aid (C), and particulate zinc white (D) having a particle diameter of from 10 nm to 250 nm into a rubber component (A).例文帳に追加

ゴム成分(A)に対して、硫黄(B)と、有機酸コバルト塩(C)と、粒子径が10 nm〜250 nmの微粒亜鉛華(D)とを配合してなることを特徴とするゴム組成物である。 - 特許庁

The coating solution uses rod-like colloidal silica having a major diameter of ≥5 nm and ≤100 nm, spherical colloidal silica having a particle diameter of ≥5 nm and ≤50 nm, and the tungsten compound.例文帳に追加

長径5nm以上、100nm以下の棒状コロイダルシリカ、粒径5nm以上、50nm以下の球状コロイダルシリカ、およびタングステン化合物を用いる。 - 特許庁

The coating solution uses rod-like colloidal silica having a major diameter of ≥5 nm and ≤100 nm, spherical colloidal silica having a particle diameter of ≥5 nm and ≤50 nm, and the niobium compound.例文帳に追加

長径5nm以上、100nm以下の棒状コロイダルシリカ、粒径5nm以上、50nm以下の球状コロイダルシリカ、およびニオブ化合物を用いる。 - 特許庁

In the positive / negative dispersion optical fibre group A / B, the cumulative dispersion conforms to a Gaussian distribution having an average value of DA / DB, preferably within the range of 5 to 50 ps/nm or -50 to -5 ps/nm, whereas the standard deviation σA / σB is within the range of 0 to 5 ps/nm. 例文帳に追加

正/負分散光ファイバー・グループA/Bにおいて、累積分散は、平均値DA/DB(それぞれ、5~50 ps/nmと-50~-5 ps/nmの範囲にあることが望ましい)を有するガウス分布に従い、一方、標準偏差σA/σBは0~5 ps/nmの範囲内にある。 - 特許庁

A wavelength of irradiation light is within a range of 350 to 450 nm.例文帳に追加

照射光の波長が、350〜450nmの範囲にある。 - 特許庁

At t2 when tTc2=the in-engine-start target drive torque is satisfied, torque capacity tTc1 of a first clutch is set to be a value that the first clutch comes into a fastening start state, and the motor rotation speed Nm is controlled such that the motor rotation speed Nm becomes an engine starting target Nm.例文帳に追加

tTc2=エンジン始動時目標駆動トルクになるt2に、第1クラッチのトルク容量tTc1を締結開始状態となる値にし、モータの回転Nmがエンジン始動用目標Nmとなるよう制御する。 - 特許庁

For the four filters 22a to 22d, a center of a band is set at 400 nm, 450 nm, 500 nm and 550 nm, respectively, and a broadband filter with the half bandwidth of 40 nm or more is used.例文帳に追加

この4つのフィルター22a〜22dとしては、帯域の中心をそれぞれ400nm、450nm、500nm、550nmとし、その半値幅を40nm以上とした広帯域のフィルターが用いられている。 - 特許庁

The first regions and the second regions have a distance of 0.1 nm to 10 nm, more preferably 1 nm to 5 nm between them, respectively.例文帳に追加

第1の領域と第2の領域とは、それぞれ、層の厚さ方向に、0.1nm〜10nm、より好ましくは1nm〜5nmの距離を有する。 - 特許庁

To provide a new photoresist suitable for short wavelength imaging, including300 nm and ≤200 nm such as 193 nm and 157 nm.例文帳に追加

300nm以下および200nm以下、たとえば193nmおよび157nmを含む短波長イメージングに適した新規フォトレジストの提供。 - 特許庁

A light source having a fine emission area of 10 nm×10 nm is thus obtained.例文帳に追加

したがって、10nm×10nmの微細な発光領域の光源を得ることができる。 - 特許庁

The maximum peak of a micro pore size distribution of the combined particle is in a range of 1 nm to 200 nm.例文帳に追加

この複合粒子は、細孔分布の最大ピークが1nmから200nmまでの範囲にある。 - 特許庁

The LED 57 has a peak wavelength in light emission of 380 nm approximatelly and a half value width of 20 nm approximatelly.例文帳に追加

LED57は、発光ピーク波長約380nm、半値幅約20nmである。 - 特許庁

Rod-shaped colloidal silica with a major axis of 5 nm or more and 100 nm or less, spherical colloidal silica with a particle size of 5 nm or more and 50 nm or less and a tantalum compound are used.例文帳に追加

長径5nm以上、100nm以下の棒状コロイダルシリカ、粒径5nm以上、50nm以下の球状コロイダルシリカ、およびタンタル化合物を用いる。 - 特許庁

To provide conductive paste for an MLCC in which a metal particulate of a particle diameter within a particle diameter range of several nm to several hundreds nm covered by an organic surface modifier are dispersed.例文帳に追加

有機物の表面修飾剤で覆われた数nm〜数百nmの粒径範囲で粒径の揃った金属微粒子が分散するMLCC用導電性ペーストを提供する。 - 特許庁

A membrane thickness of the second electrode layer is 1 nm or more and 30 nm or less.例文帳に追加

前記第2電極層の膜厚が1nm以上30nm以下である。 - 特許庁

To provide a photoresist composition with low absorbance at 193 nm and 157 nm.例文帳に追加

193nm、及び157nm波長での光吸収度が低いフォトレジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The Ru layer has a thickness of 0.45±0.05 nm or 0.9±0.1 nm.例文帳に追加

そしてRu層の厚みは、0.45±0.05nmあるいは0.9±0.1nmとする。 - 特許庁

The first silica has a primary particle diameter of 5 nm or more and 100 nm or less.例文帳に追加

上記第1のシリカの一次粒径は5nm以上、100nm以下である。 - 特許庁

例文

A wavelength dispersion in wavelength 1,383 nm is ≥0.1 ps/nm/km and ≤5.5 ps/nm/km and the wavelength dispersion in the range of wavelength 1,530 nm-1,565 nm is ≥0.1 ps/nm/km and ≤16.5 ps/nm/km.例文帳に追加

波長1383nmにおける波長分散は0.1ps/nm/km以上かつ5.5ps/nm/km以下、そして1530nm〜1565nmの波長範囲における波長分散は0.1ps/nm/km以上かつ16.5ps/nm/km以下である。 - 特許庁




  
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