「nm a」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The optical fiber 11 has +6 to +10 ps/nm wavelength dispersion D_1 at a wavelength of 1,590 nm and a +0.07 to +0.10 ps/nm^2/km dispersion slope S_1 at the wavelength of 1,590 nm.例文帳に追加

光ファイバ１１は、波長１５９０ｎｍにおける波長分散Ｄ_１が＋６〜＋１０ｐｓ／ｎｍ／ｋｍであり、波長１５９０ｎｍにおける分散スロープＳ_１が＋０．０７〜＋０．１０ｐｓ／ｎｍ^２／ｋｍである。 - 特許庁

Therein, heat decomposition temperature Td of the plasticizer satisfies the relation, Td(1.0)>Tm, and a retardation value Ro in the film plane and a retardation value Rth in the film thickness direction satisfy following relations: 30 nm<Ro≤95 nm; and 70 nm<Rth≤400 nm.例文帳に追加

ａ．可塑剤の熱分解温度 Ｔｄ（１．０）＞Ｔｍ、ｂ．フィルム面内リターデーション値Ｒｏ、フィルム厚み方向リターデーション値Ｒｔｈが次の範囲：３０（ｎｍ）＜Ｒｏ≦９５（ｎｍ）、７０（ｎｍ）＜Ｒｔｈ≦４００（ｎｍ） - 特許庁

The phosphor radiates a peak radiation in a wavelength range of about 230 nm to about 240 nm and broad radiation in an UVC range of about 220 nm to about 280 nm wavelength.例文帳に追加

本発明の燐光体は約２３０ｎｍから約２４０ｎｍの波長領域で発生するピーク放射とともに約２２０ｎｍから約２８０ｎｍの波長領域のＵＶＣ領域で幅広の放射を呈する。 - 特許庁

For carbon fibers composed of a plurality of microcrystalline graphite and having a fine structure shown in FIG. 3, a thin carbon fiber having a diameter of 50 nm or more and 800 nm or less, and a thick carbon fiber having a diameter of 900 nm or more and 5000 nm or less are produced.例文帳に追加

多数の微結晶の黒鉛で構成され、図３に示す微細構造を有する炭素繊維として、直径が５０ｎｍ以上８００ｎｍ以下である細い炭素繊維と、直径が９００ｎｍ以上５０００ｎｍ以下である太い炭素繊維を作製する。 - 特許庁

The amplitude of certain periodic components (with periods 0 nm-100 nm, 50 nm-250 nm, or 400 nm-4 μm) of the ruggedness of the surface of the liquid crystal alignment layer is changed by the ruggedness of a base film, conditions for rubbing and the like to control the liquid crystal alignment.例文帳に追加

液晶配向膜の表面凹凸のある周期成分（周期０ｎｍ〜１００ｎｍ、５０ｎｍ〜２５０ｎｍ又は４００ｎｍ〜４μｍ）の振幅を、下地膜の凹凸、ラビング条件等により変化させて、液晶配向の制御を行なう。 - 特許庁

The primary light emitter has its luminescence peak in the wavelength range of 300 nm to 420 nm, while the secondary light emitter includes a red phospher satisfying the formula [1] below, a green phospher having a luminescence peak in the wavelength range of 510 nm to 545 nm, and a blue luminescence peak in the wavelength range of 420 nm to 470 nm.例文帳に追加

第１の発光体が、３００ｎｍ〜４２０ｎｍの波長範囲に発光ピークを有し、第２の発光体が、下記式［１］を満たす赤色蛍光体と、５１０ｎｍ〜５４５ｎｍの波長範囲に発光ピークを有する緑色蛍光体と、４２０ｎｍ〜４７０ｎｍの波長範囲に発光ピークを有する青色蛍光体とを含有する。 - 特許庁

As for the surface of the glass substrate after a polishing process, an arithmetic average roughness Ra is ≤0.2 nm, a waviness Wa is ≤0.5 nm and a fine waviness μWa is ≤0.2 nm.例文帳に追加

研磨工程後のガラス基板の表面の算術平均粗さＲａが０．２ｎｍ以下、うねりＷａが０．５ｎｍ以下であり、さらに微小うねりμＷａが０．２ｎｍ以下であること。 - 特許庁

The laminated wave plate is characterized in that it functions in a pinpoint way as a quarter wave plate at wavelengths of 400 nm, 650 nm and 785 nm in a range to be used.例文帳に追加

又、本積層波長板は、使用する帯域の波長４００ｎｍ、６５０ｎｍ、及び７８５ｎｍにおいてピンポイント的に１／４波長板として機能することが特徴である。 - 特許庁

A diagnosis irradiation part 2 is equipped with a first light emitting element 10 emitting an exciting light of 379 nm-419 nm first specific wavelength λ_p1 and a second light emitting element 20 emitting a beam of exciting light of 634 nm-674 nm second specific wavelength λ_p2.例文帳に追加

診断照射部２は、３７９ｎｍ〜４１９ｎｍの第１特定波長λ_ｐ１の励起光を発する第１発光素子１０と、６３４ｎｍ〜６７４ｎｍの第２特定波長λ_ｐ２の励起光を発する第２発光素子２０を備えている。 - 特許庁

The light reflection film-cum-membrane side electrode is composed of two- layer metal film of a TiN film 36 provided as a lower layer and having a film thickness of 10 nm to 70 nm and an Al film 38 provided thereon and having a film thickness of 50 nm to 150 nm.例文帳に追加

光反射膜兼メンブレン側電極は、下層に膜厚が１０ｎｍから７０ｎｍのＴｉＮ膜３６と、その上に設けられた膜厚が５０ｎｍから１５０ｎｍのＡｌ膜３８との２層金属膜で構成されている。 - 特許庁

The laminate is characterized by forming a layer having a cellulose crystal structure consisting of a cellulose crystal in which the diameter of an average minor axis is ≥2 nm and ≤200 nm, and the diameter of an average major axis is ≥500 nm and ≤2,000 nm on a resin substrate.例文帳に追加

樹脂基材上に、平均短軸径が２ｎｍ以上、２００ｎｍ以下、平均長軸径が５００ｎｍ以上、２０００ｎｍ以下であるセルロース結晶からなるセルロース結晶構造体を含む層が形成されてなることを特徴とする積層体。 - 特許庁

The fluorescence L3 generated from the organism 10 to be measured is received by a CCD imaging element 125, which is tipped with a mosaic filter 123 consisting or a filter transmitting light in the wavelength band of 480 nm±70 nm and a filter transmitting light in the wavelength band of 630 nm±70 nm, by way of an image fiber 103.例文帳に追加

測定部10から発せられる蛍光L3は、イメージファイバ103 を介して、透過帯域４８０nm±７０nmのフィルタと透過帯域６３０nm±７０nmのフィルタが組み合わされたモザイクフィルタ123 がオンチップされたＣＣＤ撮像素子125 に受光される。 - 特許庁

The color filter includes, on a substrate and successively from the substrate side, a color layer of at least one color and a transparent conductive film having a surface roughness (Ra) of 0.5 nm to 2.5 nm and an average minor diameter of crystal grains of 15 nm to 35 nm.例文帳に追加

基板上に、該基板側から順に、少なくとも１色の着色層と、表面粗さ（Ｒａ）が０．５ｎｍ以上２．５ｎｍ以下であり、結晶子の平均短径が１５ｎｍ以上３５ｎｍ以下である透明導電膜と、を有するカラーフィルタである。 - 特許庁

In the reflection decreasing material, a maximum value for a difference in the amplitude of a reflection factor in a region from a light wavelength 500 nm to 650 nm is 1% or lower.例文帳に追加

この減反射材は、光の波長５００ｎｍから６５０ｎｍの領域における反射率の振幅の差の最大値が１％以下である。 - 特許庁

The phase difference layer is a laminated body consisting of a layer capable of applying a phase difference of 100 to 200 nm and a layer capable of applying a phase difference of 200 to 400 nm.例文帳に追加

この位相差層は、例えば、１００〜２００ｎｍの位相差を与える層と、２００〜４００ｎｍの位相差を与える層との積層体である。 - 特許庁

The fabric comprises a polyester filament yarn A having a single filament diameter of 10-1,000 nm and a normal-pressure cation dyeable filament yarn B having a single filament diameter of >1,000 nm.例文帳に追加

単繊維径１０〜１０００ｎｍのポリエステルフィラメント糸Ａと、単繊維径１０００ｎｍより大の常圧カチオン可染性フィラメント糸Ｂとを含む布帛。 - 特許庁

When a film thickness of 200 nm is obtained, a film thickness distribution reaches ±4%.例文帳に追加

２００ｎｍの膜厚を得た時に膜厚分布は±４％となった。 - 特許庁

A supply layer 5 is an n-type InAlAs layer with a thickness of 4 nm.例文帳に追加

供給層５は、厚さが４ｎｍのｎ型ＩｎＡｌＡｓ層である。 - 特許庁

Nickel conductive film of 20 nm is formed in a master disk by a sputtering method.例文帳に追加

原盤に２０ｎｍのＮｉ導電膜をスパッタリング法で形成した。 - 特許庁

To prevent generation of a delay in a process of an NM message when receiving a network management message (NM message) in a relay and connection unit.例文帳に追加

中継接続ユニットにおいてネットワークマネジメントメッセージ（ＮＭメッセージ）を受信した場合に、ＮＭメッセージの処理の遅延の発生を防ぐものである。 - 特許庁

A spacer layer 4 is an intrinsic InAlAs layer with a thickness of 3 nm.例文帳に追加

スペーサ層４は、厚さが３ｎｍの真性ＩｎＡｌＡｓ層である。 - 特許庁

The electron supply layer 12 is formed by setting an Al composition ratio and a film thickness to 10-18[%] and 5-15 [nm], respectively.例文帳に追加

電子供給層１２は、Ａｌ組成比率を１０〜１８[％]とし、膜厚を５〜１５[nm]として形成する。 - 特許庁

For example, an Ar ion laser at the wavelength λ=334 nm or a He-Cd laser at the wavelength λ=325 nm is used.例文帳に追加

例えば、波長λ＝３３４ｎｍのＡｒイオンレーザーやλ＝３２５ｎｍのＨｅ−Ｃｄレーザーを使用する。 - 特許庁

An active layer 17 is provided to produce light in a wavelength range of 580 nm to 800 nm.例文帳に追加

活性層１７は、５８０ｎｍ以上８００ｎｍ以下の波長範囲の光を生成するように設けられている。 - 特許庁

A NO_x occluding material comprises small particles below 100 nm in average particle size and large particles at least 100 nm in average particle size.例文帳に追加

NO_x 吸蔵材を、平均粒径が 100nm未満の小粒子と平均粒径が 100nm以上の大粒子とから構成した。 - 特許庁

The steel sheet has a coating having an average film thickness of 10 nm to 2,000 nm and containing crystalline lamellar material on the surface of the sheet.例文帳に追加

鋼板の表層には、平均膜厚が10nm〜2000nmである結晶性層状物を含有する皮膜を有する。 - 特許庁

At discharging, a particle diameter of the transition metal generated from the compound is larger than 0 nm and not more than 500 nm.例文帳に追加

放電時に化合物から生成する遷移金属の粒子径が０ｎｍより大きく５００ｎｍ以下である。 - 特許庁

Desirably, the carbon fiber aggregate is composed of very fine single-wall carbon nanotubes having a diameter of 0.6 nm to 1 nm.例文帳に追加

好ましくは直径が０．６ｎｍ〜１ｎｍの極細単層カーボンナノチューブからなる炭素繊維集合体。 - 特許庁

The laser beam is generated by a solid-state laser (105), having an operating wavelength range of about 330 nm to about 440 nm.例文帳に追加

レーザビームは、約３３０ｎｍ〜約４４０ｎｍの動作波長範囲を有する固体レーザ(105)により生成される。 - 特許庁

The ceramic body has a total transmittance higher than 92% in the wavelength range of 400 nm to 700 nm.例文帳に追加

セラミックボディが４００ｎｍから７００ｎｍの波長領域で９２％よりも高い全透過率を有する。 - 特許庁

A CaF2 layer having a film thickness of about 2 nm-10 nm and a CoSi2 layer having a film thickness of about 1 nm-10 nm for a first insulating film 2 and a first metal film 3 serving as an upper electrode respectively are deposited in this order by epitaxial growth on a substrate 1.例文帳に追加

基板１上に第１の絶縁膜２及び上部電極となる第１の金属膜３としてそれぞれ２ｎｍから１０ｎｍ程度の膜厚のＣａＦ_2 層と１ｎｍから１０ｎｍ程度の膜厚のＣｏＳｉ_2 層をこの順序でエピタキシャル成長により堆積する。 - 特許庁

A light emitting element having a luminous wavelength of 440 nm or higher can be fabricated by making the well layer have a thickness of 3 nm or higher.例文帳に追加

井戸層の厚みを３ｎｍ以上にすることによって、発光波長４４０ｎｍ以上の発光素子を作製することができる。 - 特許庁

For the ball in a ball-point pen, a carbide ball whose surface shows an arithmetical mean roughness of 5-25 nm and a maximum difference of elevation of 150-500 nm.例文帳に追加

ボール表面の算術平均粗さが５〜２５ｎｍで、かつ最大高低差が１５０〜５００ｎｍである超硬ボールを用る。 - 特許庁

To provide a dispersion compensating fiber whose wavelength dispersion is ≥+30 ps/nm×km in a band of a wavelength of 1,310 nm.例文帳に追加

波長分散が波長１３１０ｎｍ帯にて＋３０ｐｓ／ｎｍ・ｋｍ以上となる分散補償ファイバを提供することにある。 - 特許庁

Herein, a peak value for the light transmittance of the internal electrode is in a range of peak wavelength ±100 nm of the emission spectrum of the multilayer organic electroluminescent element and a half-value width for the peak of the light transmittance in a range of between 1 nm and 350 nm.例文帳に追加

ここで、内部電極の光透過率のピーク値は多層有機発光素子の発光スペクトルのピーク波長±100nmの範囲にあり、光透過率のピークの半値幅は１nm以上350nm以下である。 - 特許庁

An averaged reflectivity R1 of the reflective surface for a light having a wavelength of 400 to 550 nm and an averaged reflectivity R2 for a light having a wavelength larger than 550 nm and not larger than 700 nm satisfy the relation R1>R2≥70%.例文帳に追加

反射面の波長４００〜５５０ｎｍの光の平均反射率Ｒ１と波長５５０ｎｍを超え７００ｎｍ以下の光の平均反射率Ｒ２が、Ｒ１＞Ｒ２≧７０％を満足する。 - 特許庁

The member for operating the cell is regulated so that the shape of the needle-shaped body as a cell layer-activating member may be a tapered shape having a tip diameter of 200-400 nm, a root diameter of 300-1,500 nm, and an aspect ratio represented by [length/root diameter] of 10-20.例文帳に追加

細胞層作用部材としての針状体の形状を、先端直径200〜400 nm、根本直径300〜1500nmで、且つ、「長さ／根元直径」で表されるアスペクト比が１０〜２０であるテーパー形状とする。 - 特許庁

The sinter bonding agent according to the present invention, which uses cupric oxide nanoparticles, is characterized in that: cupric oxide nanoparticles each having a particle diameter of 2-50 nm inclusive are used as primary particles; the primary particles aggregate to constitute secondary particles each having a particle diameter of 3-1000 nm inclusive; and the secondary particles are dispersed in a solution.例文帳に追加

本発明に係る焼結接合剤は、酸化第二銅ナノ粒子を用いた焼結接合剤であって、粒径2 nm以上50 nm以下の前記酸化第二銅ナノ粒子を１次粒子として用い、前記１次粒子が凝集して粒径3 nm以上1000 nm以下の２次粒子を構成し、前記２次粒子が溶液中に分散していることを特徴とする。 - 特許庁

Light of 700 nm wavelength is irradiated from a light emitting element 22 to a paper money 16 printed with ink, which converts light of 700 nm wavelength irradiated to itself to light of 800 nm to 900 nm wavelength and reflects the light, and the light of 800 nm to 900 nm wavelength being this reflected light is received by a light receiving element 24.例文帳に追加

７００ｎｍの波長の光が照射されると、該光を８００ｎｍ〜９００ｎｍの波長の光に変換して反射するインクによって印刷された有価証券１６に対し、発光素子２２から７００ｎｍの波長の光を照射し、この反射光である８００ｎｍ〜９００ｎｍの波長の光を受光素子２４で受光する。 - 特許庁

The first silicide layer 50 has a thickness of not less than 30 nm.例文帳に追加

第１シリサイド層５０の膜厚は３０ｎｍより大きい。 - 特許庁

A polishing liquid contains abrasive gains of ≤70 nm in secondary size.例文帳に追加

また、砥粒の二次粒子径が、７０ｎｍ以下である研磨液。 - 特許庁

The thickness D_W of a well layer 19a is 4 nm or more.例文帳に追加

井戸層１９ａの厚さＤ_Ｗは４ｎｍ以上である。 - 特許庁

The third laser light source emits a green laser of about 532 nm, and the fourth laser light source emits a blue laser of about 476 nm.例文帳に追加

第３レーザ光源は、５３２ｎｍ程度の緑色レーザ、第４レーザ光源は、４７６ｎｍ程度の青色レーザを出射する。 - 特許庁

The entire NiSi layer 110 has a thickness not larger than 50 nm.例文帳に追加

ＮｉＳｉ層１１０全体の層厚が５０ｎｍ以下である。 - 特許庁

It is preferable that the transition-metal complex layer 9 has a film thickness of 10 nm or less, and it is further preferable that the complex layer has a film thickness of 2 nm or less.例文帳に追加

遷移金属錯体層９は、膜厚１０ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましくは膜厚２ｎｍ以下である。 - 特許庁