「pattern on pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(12ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a fixing unit in which a resin pattern is not damaged, even if the resin pattern corresponding to a circuit pattern is laid on a board and is heat-cured.例文帳に追加

回路パターンに対応する樹脂パターンを基板上に重ねて熱硬化しても、樹脂パターンが破壊することのない定着器を提供する。 - 特許庁

To prevent pattern collapse of a miniaturized resist pattern by decreasing the surface tension on the resist pattern by a solution during development.例文帳に追加

現像時の溶液によるレジストパターンに対する表面張力を低減して、微細化されたレジストパターンのパターン倒れを防止できるようにする。 - 特許庁

To form a pattern on a body under the state suppressing the dispersion of the line width (such as the dispersion of a hole diameter in the case of a contact-hole pattern) of the pattern.例文帳に追加

パターンの線幅ばらつき（コンタクトホールパターンの場合のホール径のばらつきなど）が抑制された状態で、パターンを物体上に形成する。 - 特許庁

The quality of the printed condition of the circuit pattern is determined based on a printed condition of a dummy pattern 6 printed concurrently with the circuit pattern, in the inspection.例文帳に追加

この検査は、回路パターンと同時に印刷されるダミーパターン６の印刷状態から回路パターンの印刷状態の良否を判定する。 - 特許庁

The semiconductor device 1 is mounted on a heat-suppressing substrate 3 where the pattern of a connection terminal 5 having the pattern equal to the above-mentioned pattern is provided.例文帳に追加

このパターンと同一のパターンの接続端子５パターンが設けられた熱対策用基板３に、上記半導体装置１が実装される。 - 特許庁

The CPU decides the variation pattern of patterns by using a set variation pattern selection table on the basis of the value of a random number for deciding the variation pattern.例文帳に追加

変動パターン決定用乱数の値にもとづいて、設定されている変動パターン選択テーブルを用いて図柄の変動パターンを決定する。 - 特許庁

To provide a correcting method for a mask pattern which can bring a pattern formed on a wafer through a photolithography process close to a design pattern.例文帳に追加

フォトリソグラフィプロセスを経てウエハ上に形成されるパターンをより設計パターンに近づけることのできるマスクパターンの補正方法を提供する。 - 特許庁

The general control CPU 37a determines a second variation pattern on the basis of the first pattern designation command and first variation pattern designation command.例文帳に追加

統括制御ＣＰＵ３７ａは、第１の図柄指定コマンド及び第１の変動パターン指定コマンドに基づいて第２の変動パターンを決定する。 - 特許庁

A pattern storage means 3 stores, as a reference pattern, a distribution pattern of the distance from a three-dimensional position measuring device 1 on the detection object.例文帳に追加

パターン記憶手段３は検知対象物について３次元位置測定装置１からの距離の分布パターンを基準パターンとして記憶する。 - 特許庁

A marking pattern 6 thicker tan the circuit pattern 4 is provided on the circuit pattern 4.例文帳に追加

そして、この目的を達成するために、本発明は回路パターン４よりも肉厚のマーキングパターン６を、この回路パターン４上に設けたものである。 - 特許庁

A prescribed wiring pattern 5 is formed on a circuit board 6, and a heat dissipating pattern 9 is formed near the wiring pattern 5.例文帳に追加

回路基板６上には、所定の配線パターン５が形成されており、配線パターン５の間には、放熱用パターン９が形成されている。 - 特許庁

A toner mark transfer part 101 transfers a halftone pattern such as a horizontal line pattern or an oblique line pattern on a belt by plural electrostatic recording units 24.例文帳に追加

トナーマーク転写部１０１は複数の静電記録ユニット２４によりベルト上に横線パターンや斜線パターン等のハーフトーンパターンを転写する。 - 特許庁

To accurately control the flatness of pattern surface formed by burying and stacking a metal on a fine recessed pattern and the height of the pattern by etch-back.例文帳に追加

微細な凹部パターンに金属が埋め込まれ堆積されたパターン表面の平坦化と、パターン高さを精度よくエッチバックにより制御する。 - 特許庁

In a screen pattern to be printed on a copper cylinder for producing a gravure plate, the screen pattern is divided into two kinds of regions having a cell pattern different from each other in every kind.例文帳に追加

グラビア版作製の際、銅シリンダに焼き付けるスクリーンパターンにおいて、２種類の領域に分け、領域ごとに異なるセルパターンとする。 - 特許庁

A scale pattern comprising the first scale pattern P1 and the second scale pattern P2 is drawn on the surface of a lure body except the vicinity of the head part.例文帳に追加

このルアー本体１表面には、頭部付近を除いて、第１鱗パターンＰ１と第２鱗パターンＰ２とからなる鱗模様が描かれる。 - 特許庁

As the patterns which are visible through the pattern display window 72 when the rotation of each rotary reel 40 is stopped, there are an on-line pattern 90 positioned on a prize-winning line 80 and an out-of-upper-line pattern 91 which is positioned on the upside of the on-line pattern 90.例文帳に追加

各回転リール40の回転が停止した際に図柄表示窓72を通して視認可能な図柄には、入賞ライン80上に位置するライン上図柄90と、ライン上図柄90の上側に位置する上ライン外図柄91とがある。 - 特許庁

The original plate pattern 27 is formed on data by increasing the size of a circuit pattern 35 β times, a parent pattern 36 in formed on data by increasing the size of the original plate pattern 27 α times and then parent patterns P1 to PN are formed on data by horizontally and perpendicularly dividing the parent pattern 36 into α pieces.例文帳に追加

回路パターン３５をβ倍して原版パターン２７をデータ上で形成し、原版パターン２７をα倍してデータ上で親パターン３６を形成し、親パターン３６を縦横にα個に分割して親パターンＰ１〜ＰＮをデータ上で形成する。 - 特許庁

A dummy pattern is formed in a thin pattern region on a mask by utilizing phase contrast to impart the same shape as the shape of light diffracted by a dense pattern to light diffracted by the thin pattern, thereby reducing the thin-dense deflection of an element pattern formed on a wafer.例文帳に追加

マスク上の疎らなパターン領域に位相差を利用してダミーパターンを形成して、疎らなパターンの回折光を密なパターンの回折光と同じ形にすることによって、ウェーハ上に形成される素子パターンの疎密偏差を低減する。 - 特許庁

A method includes the steps of: supplying a substrate; forming a base electrode pattern on the substrate; forming a phase change layer pattern in the base electrode pattern; forming a dielectric layer pattern in the phase change layer pattern; forming a spacer structure between openings in the dielectric layer pattern; and depositing an upper electrode pattern on the dielectric layer pattern.例文帳に追加

基板を提供する工程と、上記基板に基底電極パターンを形成する工程と、上記基底の電極パターンに位相変化層パターンを形成する工程と、上記位相変化層パターンに誘電層パターンを形成する工程と、上記誘電層パターンの開口の間にスペーサ構造を形成する工程と、上記誘電層パターンに上部電極パターンを沈殿する工程を備える - 特許庁

On a photomask substrate, a comparison pattern on a mask whole or a part of which is substantially the same as a circuit pattern on the mask, and an inspection pattern on the mask whole or a part of which is substantially the same as a measurement pattern on the mask are adjacently provided.例文帳に追加

フォトマスク基板上にマスク上回路パターンと全体もしくは一部が実質的に同一のマスク上比較パターンおよびマスク上測定パターンと全体もしくは一部が実質的に同一のマスク上検査パターンを近接して設ける。 - 特許庁

The pattern inspecting method includes: a film forming process of forming a film on a substrate; an ion implantation pattern forming process S12 of forming an ion implantation pattern on the film through an opening pattern formed on a stencil mask; and an optical inspecting process S13 of optically inspecting the ion implantation pattern based upon the opening pattern.例文帳に追加

基板上に膜を形成する膜形成工程と、ステンシルマスクに形成された開口パターンを通じて前記膜にイオン注入パターンを形成するイオン注入パターン形成工程Ｓ１２と、イオン注入パターンを開口パターンに基づいて光学的に検査する光学的検査工程Ｓ１３とを備える。 - 特許庁

An exposure method for transferring an exposure light pattern to an object surface includes: a pattern formation step of forming a pattern; a projection step of projecting the pattern on the object surface using a projection optical system; and an adjustment step of dividing the pattern according to the shape of the projection region on which the pattern is projected on the object surface.例文帳に追加

露光光のパターンを対象面に転写する露光方法であって、パターンを形成するパターン形成ステップと、投影光学系を用いてパターンを対象面に投影する投影ステップと、対象面のうちパターンが投影される投影領域の形状に応じて、パターンを分割する調整ステップとを含む。 - 特許庁

In this case, the final determinant pattern 'K' stops on an effective line L3 as the middle pattern.例文帳に追加

この際に、中図柄として最終確定図柄である「Ｋ」が有効ラインＬ３上に停止している。 - 特許庁

In this case, the final determinant pattern '7 (white)' stops on an effective line L1 as the middle pattern.例文帳に追加

この際に、中図柄として最終確定図柄である「７（白）」が有効ラインＬ１上に停止している。 - 特許庁

To inspect a defect in a mask pattern with high accuracy and to prevent a defect in an exposure pattern on a wafer.例文帳に追加

マスクパターンの欠陥検査を精度良く行い、ウェハ上の露光パターンに欠陥が生じないようにする。 - 特許庁

A second conductive pattern 224 is positioned on the second contact 222, and faces the first conductive pattern 204.例文帳に追加

第２導電パターン２２４は第２コンタクト２２２上に位置し、第１導電パターン２０４に対向している。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern by which a high-definition pattern having a high aspect ratio can be formed on a support.例文帳に追加

支持体上に高精細かつ高アスペクト比のパターンを形成できるパターン形成方法の提供。 - 特許庁

The silicone pattern 23 is oxidized to form an oxidized silicone pattern 13 on the surface of the transparent substrate 11.例文帳に追加

シリコンパターン２３を酸化処理し、透明基板１１の表面に酸化シリコンパターン１３を形成する。 - 特許庁

When a wafer W is exposed by the pattern image, a pattern is accurately formed on the wafer W.例文帳に追加

そして、このパターン像でウエハＷが露光されることで、ウエハＷ上にパターンが精度良く形成される。 - 特許庁

The first conductor pattern 12-1 and second conductor pattern 12-2 are formed on the base.例文帳に追加

第１の導体パターン１２−１および第２の導体パターン１２−２は、基体１１上に形成されている。 - 特許庁

A crimson foliage pattern is drawn on the surface 17a of the intermediate sheet 17 as a pattern for a shadow picture.例文帳に追加

中間シート１７の表面１７ａには影絵用の模様として紅葉模様が描かれている。 - 特許庁

To provide a pattern forming device capable of quickly and accurately performing pattern forming on a substrate.例文帳に追加

基板に対するパターン形成を迅速且つ正確に行うことができるパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

The process for forming a resist pattern includes applying the thickening material after forming a resist pattern on its surface.例文帳に追加

レジストパターンを形成後、該パターン表面に前記厚肉化材料を塗布するレジストパターンの製造方法。 - 特許庁

A pattern formation region 9 where the pattern is to be formed is provided on a ceramic green sheet 1 (a).例文帳に追加

セラミックグリーンシート１上に、パターンを形成すべきパターン形成領域９が設けられている（ａ）。 - 特許庁

Then, an insulating layer 150 is formed on the conductive layer pattern 122 and the semiconductor pattern 104.例文帳に追加

次に導電層パターン１２０および半導体パターン１０４上に絶縁層１５０を形成する。 - 特許庁

A first circuit pattern transferred by exposure on a wafer is simulated from the circuit pattern data after designed.例文帳に追加

また設計後の回路パターンデータによってウェハ上に露光される第１回路パターンをシミュレーションする。 - 特許庁

The antenna pattern 2 is connected through a through-hole 5 with a circuit pattern formed on the surface of the IC 1.例文帳に追加

アンテナパターン２とＩＣ１の表面に形成された回路パターンとは、スルーホール５を介して接続される。 - 特許庁

The circuit pattern 4 formed on the circuit board is connected to the antenna pattern at a soldered connection part 5.例文帳に追加

回路基板に形成された回路パターン４はアンテナパターンに半田付けによる接続部５で接続される。 - 特許庁

The method also comprises a step of then removing the second photoresist pattern and the second metal layer on the pattern by a lifting-off method.例文帳に追加

次に、リフトオフ法により第２のフォトレジストパターン及びその上の第２の金属層を除去する。 - 特許庁

The substrate is immersed in resist peeling liquid, and the unnecessary resist pattern and the metal film 4 on the resist pattern are removed.例文帳に追加

基板をレジスト剥離液に浸し、不要なレジストパターンとレジストパターン上の金属膜４を除去する。 - 特許庁

A servo pattern recording means 4 records a servo pattern 43 on a servo track 12 of the magnetic tape 1.例文帳に追加

磁気テープ１には、サーボパターン記録手段４によって、サーボトラック１２にサーボパターン４３が記録される。 - 特許庁

Next, a contiguous pattern group B is laminated on the contiguity pattern group A using a printing unit group 'b'.例文帳に追加

次に、隣接パターン群Ａの上に、印刷ユニット群ｂを用いて、隣接パターン群Ｂを積層する。 - 特許庁

The pattern formation process (S12) forms a pattern of a sacrifice layer projection part 2 on a main surface of the support substrate 3.例文帳に追加

パターン形成工程（Ｓ１２）は、支持基板３の主面に犠牲層突出部２をパターン形成する。 - 特許庁

To provide a master pattern creation method capable of forming a desired fine pattern on a substrate.例文帳に追加

所望の微細パターンを基板上に形成することができるマスクパターン作成方法を提供すること。 - 特許庁

A prescribed pattern 2 is formed on the photoreceptor and this pattern 2 is measured by the P sensor 210.例文帳に追加

所定のパターン２を上記感光体上に形成し、前記パターン２をＰセンサ２１０により測定する。 - 特許庁