「pattern on pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目)

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pattern on patternの部分一致の例文一覧と使い方

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例文

To provide an image forming apparatus in which a pattern detection means is less likely to be soiled by paper powder or the like, the pattern detection means accurately reads a basic pattern formed and fixed on recording paper, and the pattern detection means maintains high reading accuracy, without lowering productivity, even at high-speed printing.例文帳に追加

パターン検知手段が紙粉等で汚染され難く、パターン検知手段により記録紙に形成され定着された基本パターンを精度良く読み取り可能な画像形成装置を提供する。 - 特許庁

According to one embodiment of the present invention, in a pattern shape determining method, a first reference position to be a determination reference position of a pattern shape is set on a first pattern to be a determination reference of a pattern shape.例文帳に追加

本発明の一つの実施形態によれば、パターン形状判定方法において、パターン形状の判定基準となる第１のパターンにパターン形状の判定基準位置となる第１の基準位置を設定する。 - 特許庁

The light distribution patterns including the assumed pedestrian dazzling region on the road includes a light distribution pattern for a high beam, a light distribution pattern for a left side high beam, a light distribution pattern for a right side high beam and a split light distribution pattern.例文帳に追加

路上で想定される歩行者の眩惑領域を含む付加配光パターンとしては、ハイビーム用配光パターンや、左片ハイ用配光パターン、右片ハイ用配光パターン、スプリット配光パターンなどが挙げられる。 - 特許庁

A pattern for position detection and a pattern for density correction are plotted on the surface of the intermediate belt with the lapse of fixed time, and the pattern for density correction is detected with the lapse of fixed time after detecting the pattern for position detection.例文帳に追加

中間ベルト表面に位置検出用パターン及び濃度補正用パターンを一定時間を隔てて描画し、位置検出用パターン検出後にこの一定時間を隔てて濃度補正用パターンを検出する。 - 特許庁

例文

A pattern classifying device is provided with a pattern dictionary optimizing means 19 for performing optimization on the basis of a classifying category name 9 stored in a pattern dictionary 6 and the pattern characteristic quantity 10 for forming a Mahalanobis dictionary 8.例文帳に追加

パターン辞書６に格納されている分類カテゴリ名９とパターン特徴量１０とに基づいて最適化処理を行ってマハラノビス辞書８を作成するパターン辞書最適化手段１９を設けた。 - 特許庁

例文

The dimensional variation of the mask pattern by a bias amount of the mask pattern and the dimensional variation of the resist pattern are calculated on a computer by an expansion processing of the pattern or an optical intensity simulation so that the generation of the MEF is confirmed.例文帳に追加

マスクパターンのバイアス量によるマスクパターンの寸法変動およびレジストパターンの寸法変動をパターンの拡大処理、或いは光強度シミュレーションにより計算機上で算出しＭＥＦの発生を確認する。 - 特許庁

When the exposure pattern is not accorded with the reference pattern, the microlens arrays 2 are inclined from a direction parallel to the substrate 1 to adjust the exposure area on the substrate by the microlens arrays 2 and make the exposure pattern of the mask accord with the reference pattern.例文帳に追加

不一致の場合に、マイクロレンズアレイ２を基板１に平行な方向から傾斜させ、マイクロレンズアレイ２による基板上の露光領域を調整して、マスクの露光パターンを基準パターンに一致させる。 - 特許庁

To form an image of a tracking pattern for tracking an image formation source on a paper sheet and to prevent a pattern from being conspicuous, the pattern being generated by tracking pattern dots in a side face of a bundle of image-formed paper sheets.例文帳に追加

画像形成元を追跡するための追跡パターンを用紙に画像形成するとともに、その画像形成された用紙束の側面に追跡パターンドットによって発生する模様を目立たなくすることである。 - 特許庁

The code pattern having angle information is concentric with the formed circumference, and at least one track pattern for providing positional information for reading the angle from the code pattern to a code pattern detecting means is formed on the disc.例文帳に追加

角度情報を持つコードパターンが形成された円周と同心であって、コードパターン検出手段にコードパターンからの角度を読み取る位置情報を与える少なくとも１個のトラックパターンをディスクに形成する。 - 特許庁

例文

When a fluctuation display in a first pattern row C1 and a third pattern row C3 are stopped and a ready-to-win pattern arrangement: 7, ↓, 7 is displayed on a line L1, a partition line 70b for partitioning between a fourth pattern row C4 and a second pattern row C2 moves right.例文帳に追加

第１図柄列Ｃ１及び第３図柄列Ｃ３における変動表示が停止して、ラインＬ１上に「７，↓，７」のリーチ図柄配列が表示されると、第４図柄列Ｃ４と第２図柄列Ｃ２との間を仕切る仕切線７０ｂが右方向に移動する。 - 特許庁

例文

This method of preparing sewing data designates an optional position on a first sewing pattern 1 as a dividing position CP, connects the head of a second sewing pattern 9 to the end CP of a head pattern 7, and connects the head of the end pattern 8 to the end CP of the second sewing pattern 9.例文帳に追加

縫製データ作成方法は、第１縫いパターン１上の任意の位置を分割位置ＣＰとして指定し、先頭パターン７の末尾ＣＰに第２の縫いパターン９の先頭を接続し、第２の縫いパターン９の末尾に末尾パターン８の先頭を接続する。 - 特許庁

To provide a mask pattern forming method and a fine pattern forming method wherein a process for slimming a resist pattern is eliminated in forming a fine pattern by forming a silicon oxide film on a pattern organic film, and the cost of the process is reduced.例文帳に追加

パターン有機膜にシリコン酸化膜を成膜して微細パターンを形成する際に、レジストパターンをスリミング処理する工程を削減することができ、プロセスのコストを低減することができるマスクパターンの形成方法及び微細パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁

A reversed pattern number is renewed for every starting winning by a reversed pattern number counter, and when generation of a reach (ready- for-winning) condition is decided, a reversal starting pattern is determined based on the reversed pattern number at the time and an expected stopped pattern (S73-S77).例文帳に追加

逆転図柄数カウンタにより始動入賞毎に逆転図柄数を更新し、リーチ状態を発生させることが決定された場合に、その時の逆転図柄数と予定停止図柄とに基づいて逆転開始図柄を決定する（Ｓ７３〜Ｓ７７）。 - 特許庁

This game machine is provided with the pattern display device variably displaying the plurality of patterns, a pattern variation shortening switch operable by the player, and a control device shortening the pattern variation to be displayed on the pattern display device according to the operation of the pattern variation shortening switch.例文帳に追加

この遊技機は、複数の図柄を変動表示する図柄表示器と、遊技者によって操作可能な図柄変動短縮スイッチと、図柄変動短縮スイッチの操作に応じて図柄表示器に表示される図柄変動を短縮する制御装置を備える。 - 特許庁

When forming an objective fine pattern on a resist film using electron beam lithography, an auxiliary pattern, with due consideration to a pattern density, is formed simultaneously in the periphery of the objective fine pattern to suppress the change in the size of the fine pattern near the boundary thereof.例文帳に追加

目的とする微細パターンを、電子線リソグラフィーを用いてレジスト膜上に形成する際、目的とする微細パターン周辺に、パターン密度を考慮した補助パターンを同時に形成することにより、微細パターン境界近傍での寸法変化を抑制する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern on lumber, formable of a three-dimensional pattern by making wood-grain more conspicuous than that of real lumber, in the lumber with an unclear grain-pattern, and a high-grade feeling lumber imparted with the pattern formed by the method for forming the pattern.例文帳に追加

木目模様のはっきりしない木材に、本物の木材以上に木目を際立たせ、立体的な模様を形成することのできる木材の模様形成方法と、この模様形成方法によって模様が付与された、高級感のある木材を提供すること。 - 特許庁

The test pattern is composed of a horizontal line pattern (pattern 1) which forms an electrostatic latent image with laser beams radiated from laser diodes on both ends and a horizontal line pattern (pattern 2) which forms an electrostatic latent image with laser beams irradiated from inner laser diodes.例文帳に追加

このテストパターンは、両端のレーザーダイオードから照射されるレーザー光で静電潜像パターンを形成する横線パターン（パターン１）と、内側のレーザーダイオードからの照射されるレーザー光で静電潜像パターンを形成する横線パターン（パターン２）とで構成されている。 - 特許庁

In the pattern forming method for forming a transfer pattern for a design pattern by performing lithographic processing, the line width measuring position of the design pattern is extracted on the basis of a previously set condition and a length measuring position recognition pattern is added to the extracted position (ST101).例文帳に追加

リソグラフィ処理を行うことで設計パターンの転写パターンを形成するパターン形成方法において、予め設定された条件に基づいて設計パターンにおける線幅測長箇所を抽出し、抽出箇所に測長箇所認識パターンを追加する（ST101）。 - 特許庁

The present invention relates to the positioning pattern which is provided on the top surface 2 and reverse surface 3 of the photomask substrate 1 and formed on the same normal of the photomask 1, the positioning pattern comprising a transmission pattern 4 formed on the reverse surface and a light shield pattern 5 formed on the top surface such that the transmission pattern 4 is larger in area than the light shield pattern 5.例文帳に追加

本発明は、フォトマスク基板１のフォトマスク基板表面２とフォトマスク基板裏面３に設けられ、フォトマスク基板１の同一法線上に略形成される位置あわせパターンであって、裏面に形成される透過パターン４と、表面に形成される遮光パターン５とからなり、透過パターン４の面積が遮光パターン５の面積より大きいことを特徴とする。 - 特許庁

After a conductive pattern is formed on a substrate and a first ramp is formed on an edge of the conductive pattern by forming a first insulating film at a sidewall of the conductive pattern, the edge of the conductive pattern has an improved sharpness by forming a second ramp on the edge of the conductive pattern by forming a second insulating film on the upper face of the conductive pattern.例文帳に追加

基板上に導電性パターンを形成し、導電性パターンの側壁に第１絶縁膜を形成して導電性パターンのエッジに第１傾斜を形成した後、導電性パターンの上面に第２絶縁膜を形成して導電性パターンのエッジに第２傾斜を形成することで、導電性パターンのエッジが向上されたシャープネスを有するようにすることができる。 - 特許庁

Solid pattern 10 appears on a surface of the resin sheet.例文帳に追加

樹脂シートの表面には立体模様１０が現出されている。 - 特許庁

A film pattern is formed by locating a functional solution on a pattern forming region divided by banks 34 disposed on a substrate 18.例文帳に追加