| 例文 |
pattern on patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 29471件
To provide a wafer pincette which causes no damage on the pattern on both sides of a wafer.例文帳に追加
ウェハの表裏のパターンを損傷させないウェハピンセットを提供する。 - 特許庁
To efficiently form a predetermined micro pattern on a processing film on a substrate.例文帳に追加
基板上の被処理膜に所定の微細なパターンを効率よく形成する。 - 特許庁
On this statue, linear kirikane is used in the hair, and a kagome pattern is used on the chest armor. 例文帳に追加
頭髪に線状の截金、胸甲に籠目文様が施されている - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
When the pattern displayed in the stopped state is only partially differed from the hit pattern, and has a display order falling in a prescribed range around the hit pattern, a change position limiting means 42 limits the scrolling position of pattern in pattern fitting games on and after this only to the position where the pattern different from the hit pattern is displayed.例文帳に追加
停止状態で表示された図柄が当たりの図柄と一部のみ異なり、かつそれが当たりの図柄に対してその表示順序が前後所定範囲内の図柄であるとき、変更箇所制限手段42は、次回以降行われる図柄合わせゲームで図柄のスクロールされる箇所を当たりの図柄と異なる図柄の表示された箇所だけに限定する。 - 特許庁
To inexpensively form the same pattern as a decoration pattern being provided on a dial surface on the surface of a recessed part being provided at one part on the surface.例文帳に追加
文字板表面に設けた装飾模様と同一模様を、その表面の一部分に設けた凹部の面にも安いコストで形成する。 - 特許庁
A resist film is formed on the wafer, the exposure light is radiated on the resist film through the mask pattern, and a resist pattern is formed on the wafer.例文帳に追加
ウェーハ上にレジスト膜を形成し、マスクパターンを介してレジスト膜に露光光を露光し現像し、ウェーハ上にレジストパターンを形成する。 - 特許庁
When a special pattern 31 appears on the reel 28, the special pattern 31 becomes valid on the corresponding cell on the corresponding matrix 30.例文帳に追加
リール28上に特別図柄31が現れると、対応するマトリックス30上の対応するセルにおいて、この特別図柄31は有効になる。 - 特許庁
When an arbitrary pattern is stopped and displayed on a prescribed position in the continuous figure patterns fluctuatingly displayed on a liquid crystal display screen 15M of a pattern display device 15, another pattern is stacked on the top or under the bottom of the pattern to be stopped and displayed.例文帳に追加
図柄表示装置15の液晶表示画面15M上に変動表示されている連続数字図柄のうち任意の図柄が所定位置に停止表示されると、その図柄の上または下にさらに他の図柄が重ねられて停止表示される。 - 特許庁
To provide a pattern forming method by which a permanent pattern can be efficiently formed with high definition by using a pattern forming material which suppresses distortion of an image formed on the pattern forming material and excels in conformability to the unevenness of a substrate on which the permanent pattern is formed.例文帳に追加
パターン形成材料上に結像させる像の歪みを抑制し、かつ、永久パターンが形成される基体に対して凹凸追従性に優れたパターン形成材料を用いることにより、前記永久パターンを高精細に、かつ、効率よく形成可能なパターン形成方法の提供。 - 特許庁
A text pattern generating device 11 acquires a test pattern with pattern length based on an index value by automatic test pattern generation (ATPG) based on a net list 21 of an LSI, and extracts only a part related with a circuit function operation, and outputs it as a test pattern 18 for power analysis.例文帳に追加
LSIのネットリスト21をもとに、テストパターン生成装置11は、自動テストパターン生成(ATPG)により指標値に基づくパターン長のテストパターンを得、そのうち回路機能動作に関する部分のみを抽出して電力解析用テストパターン18として出力する。 - 特許庁
Based on the displacement quantity of both patterns to be obtained by measuring an alignment mark for a light shielding pattern and an alignment mark for the phase shift pattern, displacement quantity of pieces of design data of both patterns is compensated and pattern defect inspection of a pattern to be inspected is performed on the basis of a reference pattern obtained by compensation of the displacement quantity.例文帳に追加
遮光パターン用のアライメントマークと位相シフトパターン用のアライメントマークを計測して得られる両パターンの位置ずれ量に基づき、両パターンの設計データの位置ずれ量を補正し、それにより得られた参照パターンを基準として披検査パターンのパターン欠陥検査を行う。 - 特許庁
Visible light and infrared light after entering a first alignment pattern and a second alignment pattern are focused on a detector by a focusing device and an object is aligned for the following feature pattern based on the detected first alignment pattern and second alignment pattern.例文帳に追加
フォーカシング装置により第1のアライメントパターンおよび第2のアライメントパターンへ入射した後の可視光および赤外光が検出器へフォーカシングされ、検出された第1のアライメントパターンおよび第2のアライメントパターンに基づき後続のフィーチャパターンに対してオブジェクトがアライメントされる。 - 特許庁
In more particularly disclosed procedure, the etching selection ratio at each position corresponding to the pattern is obtained in accordance with the pattern to be formed on a substrate, the figure of the resist pattern is determined based on the etching selection ratio, and a gray scale mask pattern resulting the resist pattern is determined.例文帳に追加
手順をより細かく分解すると、基板上に形成すべきパターンの形状に応じて、そのパターンに対応する各場所でのエッチング選択比を求め、このエッチング選択比を元に、レジストパターンの形状を決定し、そのレジストパターンを与えるようなグレースケールマスクパターンを決定する。 - 特許庁
Further, a fourth insulating film 10 is deposited on the first insulating film pattern 9, a resist pattern is formed again, and spacer processing and anisotropic etching processing are performed to form a spacer part with the width F/2 on a line part of the first insulating film pattern 9 and form a line and spacer pattern with a pattern pitch F.例文帳に追加
更に、第1の絶縁膜パターン9上に第4の絶縁膜10を堆積させ、再びレジストパターン形成、スペーサ加工、及び異方性エッチング処理を施すことで、第1の絶縁膜パターン9のライン部にF/2の幅のスペース部を形成してパターンピッチFのラインアンドスペースパターンを形成する。 - 特許庁
The mask for forming a prescribed pattern on a substrate is provided with, the pattern forming member 10 provided with the opening parts 16 corresponding to the prescribed pattern, and the pattern-holding member 12 laminated on the pattern-forming member 10.例文帳に追加
本発明のマスクは、基板上に所定パターンを形成するためのマスクであって、所定パターンに対応する開口部16が設けられたパターン形成部材10と、前記パターン形成部材10の一面に重ねて設けられたパターン保持部材12と、を備えることを特徴とする。 - 特許庁
The kind and the quantity of the aromatic substance to be applied to the pattern are set based either on pattern sewing data to sew the pattern or the intrinsic data indicating the attributes or characteristics of the pattern to be sewn based on the pattern sewing data (S105 and S115).例文帳に追加
そして、模様を縫製するための模様縫製データ及び、その模様縫製データに基づき縫製される模様の属性又は特徴を示す固有データの少なくともいずれかに基づき、模様に付与する芳香剤の種類とその付与量とを設定する(S105,S115)。 - 特許庁
Dummy patterns 4 are arranged on a membrane film 1 except an exposure region 7, and the pattern rule and pattern density of the dummy patterns 4 is practically made equal to the pattern rule and pattern density of an X-ray absorber pattern 3 which is provided on the membrane film 1 in the exposure region 7.例文帳に追加
露光領域7以外のメンブレン膜1上にダミーパターン4を配置するととも、このダミーパターン4のパターンルール及びパターン密度を露光領域7のメンブレン膜1上に設けたX線吸収体パターン3のパターンルール及びパターン密度と実効的に等しくする。 - 特許庁
By a pattern forming step, there are formed, on a dielectric substrate 110, a waveguide pattern 120a having a loopback part 123a, a conductor pattern 312 situated on the outer circumference of the loopback part 123a, and a dummy pattern 130a for connecting the loopback part 123a and the conductor pattern 312.例文帳に追加
パターン形成工程によって、折り返し部123aを有する導波路パターン120aと、折り返し部123aの外周側に位置する導体パターン312と、折り返し部123aと導体パターン312を接続するダミーパターン130aと、を誘電体基板110上に形成する。 - 特許庁
A circuit board covers the mounted circuit element 5 with the resin mold 7 after mounting the circuit element 5 on a substrate 1, flattens the circuit pattern formation face of the resin mold 7, and forms the circuit pattern 8 such as a wiring pattern and a passive element pattern of an ink jet printing device on the circuit pattern formation face.例文帳に追加
基板1上に回路素子5を実装した後に、実装した回路素子5を樹脂モールド7で覆い、この樹脂モールド7の回路パターン形成面を平坦面として、この回路パターン形成面にインクジェット印刷装置で配線パターン、受動素子パターン等の回路パターン8を形成する。 - 特許庁
To provide a pattern drawing device for drawing a pattern on a substrate which is continuously moved relative to a projection optical system while increasing the moving speed of the substrate to improve the drawing speed of the pattern on the substrate, resulting in the improved pattern drawing efficiency of the pattern drawing device.例文帳に追加
投影光学系に対して相対的に連続移動する基板に対してパターンを描画するパターン描画装置において、基板の移動速度を増大させて基板に対するパターンの描画速度を向上し、パターン描画装置におけるパターンの描画効率を向上する。 - 特許庁
A process for producing the glass plate having an electric conductor pattern, which comprises using such the toner to form the pattern of the toner on the surface of the glass plate by an electronic printing system, then heating the glass plate having the pattern of the toner formed on its surface at a predetermined temperature to convert the pattern of the toner to the pattern of the electric conductor.例文帳に追加
該電子印刷用トナー使用し、ガラス板面に電子印刷方式で該トナーからなるパターンを形成した後、ガラス板を所定温度に加熱することにより前記トナーパターンを焼成して導電体パターンに変換する、導電体パターンをガラス板面に形成する方法。 - 特許庁
In the printed wiring board in which a required circuit pattern is formed on one surface, a jumper wire 14 is mounted in parallel to the specific wiring pattern 13 of the circuit pattern on another surface corresponding to the specific wiring pattern 13.例文帳に追加
一方の面に所望の回路パターンが形成されたプリント配線板において、この回路パターンの所定の配線パターン13に対応する他方の面にこの所定配線パターン13と並列にジャンパーワイヤー14をマウントしたものである。 - 特許庁
To provide a method of forming a conductive pattern on a substrate that can form a wiring pattern without using photolithography and improve adhesion between a region on the substrate where the wiring pattern should be formed and the wiring pattern.例文帳に追加
フォトリソグラフィを用いずに配線パターンを形成することが可能で、基板上の配線パターンを形成すべき領域と配線パターンとの密着性を向上することができる基板上への導電パターンの形成方法を提供する。 - 特許庁
The first pattern 131 of the semiconductor element 100 is optimally operated on the basis of the CD of the first pattern 131, and the second pattern 132 is optimally operated on the basis of the CD of the second pattern 132.例文帳に追加
半導体素子100の第1パターン131は第1パターン131のCDに基づいて最適の状態で駆動させられ、第2パターン132は第2パターン132のCDに基づいて最適の状態で駆動させられる。 - 特許庁
A pattern can be formed on the adhesive by forming protruded ridges 11 and irregularity 9 on a pattern paper 10, pasting the pattern paper to the adhesive face and pressing the adhesive face through the pattern paper with a roller 19.例文帳に追加
接着剤に紋様を整形するには、型紙10に凸型溝11、凹凸9を形成して、型紙を接着面に接着し、型紙の上から接着剤にローラ19で圧力をかけ、接着面に紋様を整形する。 - 特許庁
The resist pattern 3 and the coating layer 4 are heat treated to form a modified layer 5 insoluble with a developing solution on the surface of the resist pattern 3, and then developed to obtain a pattern having the modified layer 5 on the resist pattern surface.例文帳に追加
レジストパターン3及び被覆層4を加熱処理することにより、レジストパターン3の表面に現像液不溶性の変性層5を形成し、現像することによりレジストパターン表面に変性層5を有するパターンを得る。 - 特許庁
To eliminate luster of the surface while color tone of a pattern is held in a molded article prepd. by providing the pattern on the surface and forming a pattern protective layer by applying a surface coating in which a varnish is a main ingredient on this pattern.例文帳に追加
表面に模様を付し、この模様上にワニスを主成分とする表面コート剤を塗布して模様保護層を形成してなる成形品において、かかる模様の色調を保持しつつ表面の光沢を消さんとする。 - 特許庁
A resistor element pattern 30 is formed by laying a lowermost level pattern 30a, a step-like pattern 30b and a highest level pattern 30c on a step-like oxide film 31 formed on a semiconductor substrate 33.例文帳に追加
抵抗素子パターン30は、半導体基板33上に形成された階段状の酸化膜31上に、最下段パターン30a、階段状パターン30b、最上段パターン30cから形成されていることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a method of forming an antenna pattern and an electromagnetic shielding pattern on a sheetlike substrate, capable of forming an electrode layer to serve as the antenna pattern or the electromagnetic shielding pattern on the substrate at a low cost without adversely influencing environments.例文帳に追加
環境に悪影響を与えることなく、ローコストで基材上にアンテナパターンや電磁シールドパターンとなる電極層を形成することができるアンテナパターンおよび電磁シールドパターンのシート状基材への形成方法を得る。 - 特許庁
In the boundary between a first pattern region 9a and a first pattern region 9b which are formed on a diffraction grating 3 as well as in a second pattern region 10a and a second pattern region 10b which are formed on the diffraction grating 3, an isolation area 11a and an isolation area 11b or an isolation area 11c which isolate the regions are formed.例文帳に追加
回折格子3に設けられた第1パターン領域9a,9bと第2パターン領域10a,10bとの境界にそれらを隔離する隔離エリア11a,11bあるいは11cを設けている。 - 特許庁
In dry etching for forming a pattern involving isolated pattern regions and dense pattern regions on a substrate having conductive members formed thereon using a hard mask, the thickness of the hard mask is set so that the pattern size of the dry etched hard mask minus the size of a pattern formed on a resist film is less than a specified (allowable) value at the isolated pattern regions and the dense pattern regions.例文帳に追加
導電部材が形成された基板上に、孤立パターンと密集パターンを含むパターンをハードマスクによりドライエッチングする場合に、ハードマスクの厚さを、レジスト膜に形成したパターン寸法からハードマスクをドライエッチングした後のハードマスクのパターン寸法を差し引いた値が、前記孤立パターン領域と前記密集パターン領域とで所定の値(許容値)以下となるような膜厚とする。 - 特許庁
Then, a conductor pattern 6 is formed as a wiring circuit pattern on the base insulating layer 5, and a cover insulating layer 7 is formed on the base insulating layer 5 so as to cover the conductor pattern 6.例文帳に追加
次いで、ベース絶縁層5の上に導体パターン6を配線回路パターンとして形成し、ベース絶縁層5の上に導体パターン6を被覆するようにカバー絶縁層7を形成する。 - 特許庁
The light-emitting element includes an active pattern arranged on the substrate, an upper mirror provided on the active pattern, and a lower mirror provided under the active pattern and can emit a light which is perpendicular to the substrate.例文帳に追加
前記発光部は、前記基板上に配置されたアクティブパターンと、前記アクティブパターンの上部に備えられた上部鏡と、前記アクティブパターンの下部に備えられた下部鏡とを含む。 - 特許庁
An L-pattern 20 is formed on a photomask 17, and pattern matching is performed using the L-pattern 20 and a straight line or a nearly straight line (side) around a pseudo monocrystal region 11 on a substrate.例文帳に追加
フォトマスク17にL字パターン20を設け、このL字パターン20と基板上の擬似単結晶領域11の周囲の直線あるいは略直線(辺)でパターンマッチングを行う。 - 特許庁
A gold wiring pattern is formed on a substrate, the wiring pattern is covered with a copper metal layer, an aperture is then provided on the metal layer by photolithography, and a wiring pattern surface is exposed.例文帳に追加
基板上に金の配線パターンを形成し、配線パターン上を銅の金属層で覆った後、フォトリソグラフィにより金属層に開口穴を設けて配線パターン表面を露出させる。 - 特許庁
A watermark pattern generation means 104 generates a digital watermark pattern based on digital watermark information and adjusts the digital watermark pattern on the basis of the information obtained from the content information calculation means.例文帳に追加
透かしパターン生成手段104は電子透かし情報を元に電子透かしパターンを生成し、コンテンツ情報算出手段から得られる情報を元に調整を行う。 - 特許庁
The pattern forming method on the surface of the resin film is characterized by forming a pattern on the surface of the resin film by using an ultrasonic horn and a pattern roller.例文帳に追加
樹脂フィルム表面へのパターン形成方法であって、超音波ホ−ンとパターンローラを用いて樹脂フィルムの表面にパターンを形成するパターン形成方法により、上記課題を解決する。 - 特許庁
The silicon film 100 is formed on the metal pattern by applying a voltage on the metal pattern of the microheater to heat the metal pattern and exposing the microheater in a source gas including silicon.例文帳に追加
マイクロヒーターの金属パターンに電圧を印加して金属パターンを加熱し、シリコンを含むソース気体にマイクロヒーターを露出させて金属パターン上にシリコン膜100を形成することができる。 - 特許庁
Pattern recognition and a retrieval structure, based on the Web, permit online pattern retrieval and a selection using various pattern renderings and similarity techniques, including a system based on the edge properties mentioned above.例文帳に追加
ウェブに基づくパターン認識と検索構造は、上述のエッジ特性に基づくシステムを含む、種々のパターン表現と類似性技術を利用して、オンラインパターン検索と選択を可能とする。 - 特許庁
A first display control part 111 displays a complete pattern or an incomplete pattern in pattern display areas 41-49 on a variable display means 30 based on the establishment of a starting condition.例文帳に追加
第1表示制御部111は、始動条件の成立に基づき、完成図柄または未完成図柄を可変表示手段30上の図柄表示領域41〜49に表示する。 - 特許庁
The forming roll is provided with a principal pattern body 20, which forms a principal pattern on the central part of the metal band, and with end-part pattern forming bodies 22, which form end-part patterns on both sides of the metal band.例文帳に追加
成形ロールは、金属帯の中央部に本柄を形成する本柄形成体20と、金属帯の両側に端部柄を形成する端部柄形成体22とを備える。 - 特許庁
To provide a means for easily obviating a defect of the lift-off method being one of the forming methods of an electrode pattern, that is, a residual substance formed on a side face of a resist pattern without giving effect on the electrode pattern.例文帳に追加
電極パターンの形成法の1であるリフトオフ法の欠点、即ちレジストパターンの側面に形成される残渣を電極パターンに影響を及ばさず容易に取り去る手段を得る。 - 特許庁
The end pattern is previously selected by the main controller based on the result in the determination in the shortened time and the figure controller sets a display pattern based on the end pattern.例文帳に追加
この終了パターンはメイン制御装置が時間短縮の判定結果に基づいて選択したものであり、図柄制御装置は終了パターンに基づいて表示パターンを設定する。 - 特許庁
To provide an inspection device capable of simply discriminating the flaw on a transmission pattern or the flaw on a shading pattern, and to provide an inspection method and a manufacturing method of a pattern substrate.例文帳に追加
透過パターン上の欠陥か、遮光パターン上の欠陥かを簡便に判別することができる検査装置及び検査方法ならびにパターン基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁
The designed pattern image is put on the prescribed line pattern including the cutting lines (the heavy lines in Figure 3), the folding lines (dotted lines) and the parts to be stuck (the shaded parts) and they are printed on a flat face material (which is called a pattern model).例文帳に追加
切取線(図3の太線)、折曲線(点線)及び貼合部(斜線部)を含む所定の線パターン上に絵柄イメージを配置し、平面素材に印刷する(これを雛形と呼ぶ)。 - 特許庁
The substrate having the projecting parts and recessed parts of a circuit pattern on the surface is transferred first to a surface observing apparatus where pattern information corresponding to the position and the density of the pattern on the substrate is grasped.例文帳に追加
表面に回路パターンの凹凸を有する基板を、先ず表面観察装置に搬送し、ここで基板上における位置とパターンの密度とを対応させたパターン情報を把握する。 - 特許庁
A carrier pattern generating section 103 outputs a carrier pattern by changing the carrier pattern based on the information on the characteristics of a watermark burying picture printing section 104 inputted from the section 104.例文帳に追加
搬送波パターン発生部103は、透かし埋込画像印刷部104から入力された印刷部の特性情報に基づいて搬送波パターンを変化させて出力する。 - 特許庁
The spherical spacers 15 are disposed on the pixel pattern and are disposed using an ink jet method or a print method on one kind of the dummy pattern part among the two or more kinds of the dummy pattern parts.例文帳に追加
球状スペーサ15は、画素パターン上に配置され、かつ、複数種類のダミーパターン部の1種類のダミーパターン部上にインクジェット工法又は印刷法を用いて配置されている。 - 特許庁
A metal electrode pattern 3 with an intended pattern is formed on a heat resistant insulation board 2, and a high dielectric thick film layer 4 as an insulation layer is formed on the metal electrode pattern by using high dielectric material.例文帳に追加
耐熱性絶縁基板2上に、所望のパターンの金属電極パターン3を形成し、その上に絶縁層として高誘電材料で厚膜高誘電体層4を形成する。 - 特許庁
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