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pattern onの部分一致の例文一覧と使い方

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例文

To provide a conductor pattern which can suppress a phenomenon, in which the corner parts of the pattern are peeled off from a substrate to float up on the substrate, and to provide an electronic component provided with the said conductor pattern.例文帳に追加

コーナ部が基板から剥がれて浮いてしまう現象を抑えることができる導体パターンおよび該導体パターンを備えた電子部品を提供する。 - 特許庁

The pattern 60 is a pair displaying on the cell areas 50 with the different color tones of blue, yellow and red and divided into 3 pairs of the first pattern 60a to the third pattern 60c.例文帳に追加

パターン６０は、セル領域５０を青色、黄色、赤色の異なる色調で表示させる組であって、第１パターン６０ａ〜第３パターン６０ｃの３組に分けられている。 - 特許庁

In the case that a groove pattern 18 is provided on the upper face 11 of the base material 3 for the floor material, a decorative pattern 2 is laminated along the inner face of a recess part of the groove pattern 18.例文帳に追加

床材用基材３の上面１１に溝模様１８が設けられている場合には、該溝模様１８の凹部の内面に沿って化粧シート２を積層する。 - 特許庁

A mask 100 is configured in such a manner that transmittance of a wiring pattern 2 formed on the mask 100 is made different from that of a via hole pattern 3 disposed right under the wiring pattern 2.例文帳に追加

マスク１００上に形成されている配線パターン２と該配線パターン２の直下に配置されるビアパターン３との透過率が異なるように構成する。 - 特許庁

例文

The pattern sheet is manufactured by printing a pattern on a transfer paper in a sublimable ink containing the sublimable dye and thermally transferring the pattern of the transfer paper to one surface of the resin sheet.例文帳に追加

柄シートは、インクジェットプリンターを用いて、昇華性染料を含んだ昇華インクで転写紙に柄をプリントし、この転写紙の柄を樹脂シートの片面に熱転写して造る。 - 特許庁

例文

Both beams, formed in pattern forming so that they might have patterns formed in complement, detect the failure of the pixel on the basis of a comparison with a desired pattern and an overlay with a complement pattern.例文帳に追加

両ビームは補完形のパターンを有するようにパターン形成され、所望パターンとの比較および補完パターンとの重ね合わせに基づいてピクセルの不具合を検出する。 - 特許庁

A reference position of a second servo pattern having an absolute position specified on a magnetic disk is obtained based on a positional relationship between a first servo pattern having absolute position information on the magnetic disk and a second servo pattern having relative position information.例文帳に追加

磁気ディスク上での絶対位置情報を有する第１のサーボパターンと相対位置情報を有する第２のサーボパターンとの位置関係から、磁気ディスク上での絶対位置が特定される第２のサーボパターンの基準位置を求める。 - 特許庁

A semiconductor device is provided with a semiconductor substrate 100, a reflecting pattern formed on the substrate 100, antireflection caps 110P formed on the upper surface of the pattern, and antireflection spacers 130S formed on the sidewalls of each component of the pattern.例文帳に追加

半導体基板と、前記半導体基板上に形成された反射性パターンと、前記反射性パターンの上面に形成された反射防止キャップと、前記反射性パターンの側壁に形成された反射防止スペーサとを含む。 - 特許庁

A picture pattern display device 30 provided on a center case 23 installed on almost the central part of a play area 20 on a play panel 10 has picture pattern display areas 31-33 for variably displaying a plurality of picture patterns and displays a character as a background picture pattern.例文帳に追加

遊技盤10の遊技領域20の略中央部に配置されたセンターケース23に設けられた図柄表示装置30は、複数の図柄を変動表示する図柄表示領域31〜33を有すると共に背景図柄としてキャラクタを表示する。 - 特許庁

例文

The opening-restricting filter is arranged so as to form the film pattern on a transparent substrate, the opening restricting film pattern is formed on a surface of the transparent substrate and the rim strength correcting film pattern is formed on the rear side of the transparent substrate.例文帳に追加

開口制限フィルタは、膜パターンを透明基板上に形成して成るものであり、透明基板の表面に開口制限用膜パターンが形成されており、透明基板の裏面にリム強度補正用膜パターンが形成されている。 - 特許庁

例文

The organic EL display device 1 includes a transparent substrate 10, a first electrode pattern 14 arranged on the transparent substrate 10, an insulating pattern 16, an organic EL layer 20 arranged on the first electrode pattern 14, a second electrode pattern 22 arranged on the organic EL layer 20, and a wiring pattern 12A arranged on the transparent substrate 10 and physically and electrically connected with the second electrode pattern 22.例文帳に追加

有機ＥＬ表示装置１は、透明基板１０と、透明基板１０上に配置された第１電極パターン１４と、絶縁パターン１６と、第１電極パターン１４上に配置された有機ＥＬ層２０と、有機ＥＬ層２０上に配置された第２電極パターン２２と、透明基板１０上に配置されると共に、第２電極パターン２２と物理的且つ電気的に接続された配線パターン１２Ａとを備える。 - 特許庁

The method of manufacturing the photomask for evaluating an exposure apparatus comprises processes for designing an original pattern 14 including a pattern 1 for evaluation, forming a pattern in which the designed original pattern 14 is located on a grid 90, and forming a photomask 5 including a mask pattern by transferring the pattern located on the grid 90 on a transparent substrate 11.例文帳に追加

本発明における露光装置評価用フォトマスクの製造方法は、評価用パターン１を含む原画パターン１４を設計する工程と、設計された原画パターン１４をグリッド９０上に位置づけられたパターンとする工程と、グリッド９０上に位置づけられたパターンを透明基板１１上に転写することで、マスクパターンを有するフォトマスク５を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

The resist pattern forming method for forming a resist pattern on a surface of a substrate includes a step of forming the resist pattern so that the size of an end of the resist pattern on the substrate side is longer than that of an end thereof on a side opposed to the end on the substrate side.例文帳に追加

基体の表面にレジストパターンを形成するレジストパターンの形成方法であって、前記レジストパターンの基体側端部の寸法が、前記基体側端部と対向する側の端部の寸法よりも長くなるように前記レジストパターンを形成する工程を有したこと、を特徴とするレジストパターンの形成方法が提供される。 - 特許庁

A pattern-forming layer 2 containing resin and particles which are substantially restrained from being disclosed on the surface is formed on a base 1, the particles are disclosed on the surface of the pattern forming layer 2, and a conductive or a resistive pattern (elements 4) is formed on the part of the pattern-forming layer 2, where the particles are exposed.例文帳に追加

基台１上に実質的に粒子がほぼ表面に表出しないように樹脂と粒子を含むパターン形成層２を設け、パターン形成層２の表面に前記粒子を表出させ、前記粒子を表出させた部分に導電性或いは抵抗性のパターン（素子部４）を形成する。 - 特許庁

One or plural playing patterns for lottery on a pattern display means 19 change in a given direction on condition that a pattern starting means 13 detects game balls and a special playing state advantageous for a player is brought on condition that game pattern for lottery on the pattern display means 19 after changing becomes a particular display.例文帳に追加

図柄始動手段13が遊技球を検出することを条件に図柄表示手段19の１個又は複数個の抽選用遊技図柄が所定方向に変動し、図柄表示手段19の変動後の抽選用遊技図柄が特定表示となることを条件に遊技者に有利な特別遊技状態を発生させる。 - 特許庁

Plural game patterns for lottery on a pattern display means 19 change on condition that a pattern starting means 13 detects game balls and a special playing state advantageous for a player is brought on condition that each game pattern for lottery on the pattern display means 19 after changing becomes a particular display of combined particular patterns.例文帳に追加

図柄始動手段13が遊技球を検出することを条件に図柄表示手段19の複数個の抽選用遊技図柄が変動し、図柄表示手段19の変動後の各抽選用遊技図柄が特定図柄の組み合わせである特定表示となることを条件に遊技者に有利な特別遊技状態を発生させる。 - 特許庁

In displaying an image on the liquid crystal panel 21, luminance distribution of the image is detected, a pattern image containing a dot pattern of black dots is generated with a pattern generating section 17 on a dark region in accordance with the luminance distribution, and the generated pattern image is displayed on the monochromatic liquid crystal panel 24 in synchronization with the image displayed on the liquid crystal panel 21.例文帳に追加

液晶パネル２１に画像を表示する場合、その画像の輝度分布を検出して、輝度分布に応じて暗い領域に黒ドットのドットパターンを含むパターン画像をパターン発生部１７で生成し、液晶パネル２１での画像表示に同期させて、生成したパターン画像をモノクロ液晶パネル２４に表示する。 - 特許庁

Plural playing patterns for lottery on a pattern display means 19 change in a given direction on condition that a pattern starting means 13 detects game balls and a special playing state advantageous for a player is brought on condition that a game pattern for lottery on the pattern display means 19 after changing becomes a particular display.例文帳に追加

図柄始動手段13が遊技球を検出することを条件に図柄表示手段19の複数個の抽選用遊技図柄が所定方向に変動し、図柄表示手段19の変動後の抽選用遊技図柄が特定表示となることを条件に遊技者に有利な特別遊技状態を発生させる。 - 特許庁

To reduce the thickness of an oxide film on the side face of a trench formed on a substrate, and inhibit etching on the edge in the upper portion of a pattern on the trench.例文帳に追加

基板に形成されたトレンチ側面の酸化膜を薄膜化し、且つトレンチ上のパターン上部の角がエッチングされることを抑制する。 - 特許庁

The transfer is performed such that the peripheral edge of an evaluation shot on which the evaluation pattern 2a is formed is overlapped on the peripheral edge of an adjacent shot on which the evaluation pattern 2b is formed.例文帳に追加

転写する際に、評価パターン２ａが設けられている評価ショットの外周縁部を、評価パターン２ｂが設けられている隣接ショットの外周縁部と重なるように転写する。 - 特許庁

Masks 20 are formed on the part, corresponding to connection edge parts 14a on a conductor pattern 12 of an alumina laminated substrate 11 with the conductor pattern 12 on the surface in this manufacturing method as shown in Figure (b).例文帳に追加

表面に導体パターン１２を有するアルミナ積層基板１１（ａ）に対し、導体パターン１２上のうち接続端部１４ａに対応する部分にマスク２０を形成する（ｂ）。 - 特許庁

The phase conversion memory device includes a lower electrode formed on a semiconductor substrate, a phase conversion pattern formed on the lower electrode, and an upper electrode formed on the pattern.例文帳に追加

この記憶素子は半導体基板上に形成された下部電極と、下部電極上に形成された相変換パターンと、相変換パターン上に形成された上部電極と、を含む。 - 特許庁

By a liquid phase deposition method (LPD), a dielectric film is not deposited on a resist pattern but selectively deposited on a gallium nitride compound semiconductor layer on which no resist pattern is formed.例文帳に追加

液相堆積法（ＬＰＤ）により、誘電体膜を、レジストパターン上には堆積させず、レジストパターンが形成されていない窒化ガリウム系化合物半導体層上に選択的に堆積させる。 - 特許庁

A catalyst agent is made to be covered by a squeezee over the printing plate material pattern and the catalyst agent covered on the printing plate material pattern is printed on the ion exchange membrane placed on the thin plate substrate.例文帳に追加

スキージで触媒剤に印刷板材パターン上を均一に被覆させ、更に印刷板材パターンを被覆した触媒剤を薄板基板上に置いたイオン交換膜に印刷する。 - 特許庁

This mask pattern forming method comprises a first process of forming a prescribed photoresist on a polysilicon film 5, a second process of projecting a wiring pattern onto the photoresist for light exposure, a third process of forming a resist pattern by developing the exposed photoresist, and a fourth process of correcting the resist pattern 7A on a pattern shape by irradiating the resist pattern 7A with far ultraviolet rays.例文帳に追加

ポリシリコン膜５上に所定のフォトレジストを形成する工程と、このフォトレジストを配線パターン形状に露光する工程と、露光したフォトレジストを現像処理してレジストパターン７Ａを形成する工程と、このレジストパターン７Ａに深紫外線を照射して、当該レジストパターン７Ａのパターン形状を補正する工程とを有するものである。 - 特許庁

In this imprint mold 100, a first mold pattern 40 and a second mold pattern 50 are formed on one surface of a substrate 11, and a first phase difference compensating pattern 45 and a second phase difference compensating pattern 55 are so formed on the other surface of the substrate as to face the first mold pattern 40 and the second mold pattern 50, respectively.例文帳に追加

本発明のインプリントモールド１００は、基板１１の一方の面に第一モールドパターン４０と第二モールドパターン５０が形成され、基板の他方の面に前記第一モールドパターン４０と相対するように第一位相差補正用パターン４５が、前記第二モールドパターン５０と相対するように第二位相差補正用パターン５５がそれぞれ形成されている。 - 特許庁

The system consists of a function that receives the pattern allocated with the commodities, a storage device that records difference information when the unique shelf space allocation pattern is generated on the basis of the previous pattern received, and a pattern generator that generates unique shelf space allocation pattern for the pattern received this time, on the basis of the difference information recorded.例文帳に追加

商品を棚に割り当てたパターンを受信する手段と、前回の受信したパターンをもとに独特の棚割してパターンを作成したときの差分情報を記憶する手段と、受信した今回のパターンに対して、記憶した差分情報をもとに独特の棚割したパターンを作成する手段とを備えるように構成する。 - 特許庁

The apparatus is equipped with a first data buffer 10 storing pattern data corresponding to a pattern to be exposed and a second data buffer 12 storing pattern variation data corresponding to at least one change to a part of the pattern, wherein at least one variation of the pattern is transferred by exposure on one of the areas on a substrate by using pattern variation data.例文帳に追加

露光すべきパターンに対応するパターン・データを記憶する第１のデータ・バッファ１０とパターンの一部に対する少なくとも１つの変更に対応するパターン変化データを記憶する第２のデータ・バッファ１２とを備え、パターンの少なくとも１つの変化がパターン変化データを使用して基板上の複数の領域のうちの１つに露光される。 - 特許庁

Based on the illumination environmental pattern data selection instructions from the remote control operation part 25, the illumination environmental pattern data selection part 65 chooses the pattern data corresponding to these selection instructions, from among two or more pattern data stored by an illumination environmental pattern data memory part 63, and controls the lamplight 23 through the dimmer drive part 33 based on the selected pattern data.例文帳に追加

照明環境パターンデータ選択部６５は、リモコン操作部２５からの照明環境パターンデータ選択指令に基づいて、照明環境パターンデータ記憶部６３に記憶されている複数のパターンデータの中から上記選択指令に対応するパタ−ンデータを選択し、選択したパターンデータに基づき調光駆動部３３を通じて灯火２３を制御する。 - 特許庁

The pattern manufacturing system comprises exposure to directly draw a resist overlying on a copper foil formed on both the faces of the substrate by using the line width of the pattern line and an exposure amount designated by processing pattern data 100, forming a resist pattern by developing the exposed resist, and forming a pattern by etching the copper foil of both the faces of the substrate forming the resist pattern.例文帳に追加

加工用パターンデータ１００により指定されたパターン線の線幅と露光量を用いて、基板の両面に形成された銅箔上にラミネートされたレジストに直接描画して露光し、露光されたレジストを現像してレジストパターンを形成して、レジストパターンが形成された基板の両面の銅箔をエッチングしてパターンを形成する。 - 特許庁

The wiring pattern 12 to which the pattern 111 is connected is connected with a wiring pattern 31 which is connected with an external terminal 21, and the wiring pattern 13 to which the pattern 112 is connected is connected with a wiring pattern 33 which is connected with a low impedance line 25, and these four wiring patterns are formed on the same straight line on a substrate.例文帳に追加

パターン部１１１が接続される配線パターン１２は、外部端子２１に接続されている配線パターン３１と接続され，パターン部１１２に接続される配線パターン１３は、低インピーダンスライン２５に接続される配線パターン３３と接続され、これらの４つの配線パターンは、同一直線上で基板に形成されている。 - 特許庁

Each solder wettable pattern 21a of a planar shape obtained by radially protruding protrusions from a center of the mounting substrate 1 is formed on the mounting substrate 1, a solder pattern 23a having substantially the same planar shape as the solder wettable pattern is selectively formed on the solder wettable pattern and the solder pattern is depressed to flatten the surface of the solder pattern.例文帳に追加

実装基板１の中央部から放射状に突起部を突出させた平面形状の半田濡れ性パターン２１ａを実装基板上に形成し、半田濡れ性パターンと略同一の平面形状の半田パターン２３ａを、半田濡れ性パターン上に選択的に形成し、この半田パターンを押圧することにより半田パターンを表面平坦化する。 - 特許庁

A dielectric film pattern including a first dielectric film pattern 49a formed on the surfaces of the pattern 48 and the pattern 45 exposed from the pattern 48 and a second dielectric film pattern 49b continuously formed on the surfaces of the pattern 48 in a second direction with which the first direction intersects, the regions 43 adjacent to the pattern 48 and the pattern 48 adjacent to the regions 43 is formed.例文帳に追加

第１ゲートパターン４８の表面及び第１ゲートパターン４８から露出するトンネル酸化膜パターン４５の表面上に形成される第１誘電膜パターン４９ａと、第１方向に直交する第２方向へ第１ゲートパターン４８の表面、第１ゲートパターン４８に隣接するフィールド領域４３の表面及びフィールド領域４３に隣接する第１ゲートパターン４８の表面上に連続的に形成される第２誘電膜パターン４９ｂとを含む誘電膜パターンが形成される。 - 特許庁

Diffraction patterns 2 are formed on a plurality of spots on a wafer 1A, and each inspection pattern 3 which is larger than one diffraction pattern 2, and on which the same pitch as the diffraction pattern 2 is formed, is formed on mutually separated positions, to thereby constitute the mother board 1.例文帳に追加