「plasma source」に関連した英語例文の一覧と使い方(10ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a plasma light source and a plasma light generating method that emit EUV light in an effective wavelength region (nearby 13.5 nm) by heating plasma up to desired excitation level and greatly reducing heat input caused by Joule heating.例文帳に追加

プラズマを所望の励起準位まで加熱して有効波長領域（１３．５ｎｍ近傍）のＥＵＶ光を発光させることができ、かつジュール加熱による入熱を大幅に低減することができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。 - 特許庁

As to the microwave ion source introducing a microwave into a plasma generating chamber in which a given magnetic field is formed and a predetermined gas is guided, and generating ion by turning the gas into a plasma with microwave discharge, the capacity of the plasma generating chamber is made variable.例文帳に追加

所定磁場が形成されており且つ所定ガスが導入されたプラズマ生成室にマイクロ波を導入し、マイクロ波放電によりガスをプラズマ化してイオンを生成させるマイクロ波イオン源において、プラズマ生成室を容積可変とする。 - 特許庁

The apparatus for manufacturing the carbon film includes: an electron beam generating device 7 wherein supply gas is irradiated with electron beams to generate plasma; a carbon source container 4 which stores a carbon source and allows the carbon source to be heated and vaporized; and a substrate 3 for depositing the carbon source thereon.例文帳に追加

本発明の炭素膜製造装置は、供給ガスに電子ビームを照射し、プラズマを発生させる電子ビーム発生装置７と、炭素源を収容し、炭素源を加熱して気化させる炭素源容器４と、炭素膜を堆積させる基板３を有する。 - 特許庁

The radical source 5 has a feed pipe 10 including SUS and a plasma generation pipe 11 connecting to the feed pipe 10.例文帳に追加

ラジカル源５は、ＳＵＳからなる供給管１０と、供給管１０に接続するプラズマ生成管１１を有している。 - 特許庁

To heighten a degree of vacuum and cleanliness in a plasma generating chamber by a simple structure, in a LPP type EUV light source device.例文帳に追加

ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置において、簡単な構成によりプラズマ発生室内の真空度や清浄度を高める。 - 特許庁

To increase a degree of vacuum and cleanliness in a plasma generating chamber by a simple structure in a LPP type EUV light source device.例文帳に追加

ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置において、簡単な構成によりプラズマ発生室内の真空度や清浄度を高める。 - 特許庁

The gate insulation layer 6 among them is formed by plasma-polymerizing a source gas and depositing an obtained polymerized material.例文帳に追加

このうち、ゲート絶縁層６は、原料ガスをプラズマ重合し、得られた重合物を堆積させることにより形成されている。 - 特許庁

Laser generation plasma (LPP) is formed by using an LPP target system 40 having a light source portion 41 and a target portion 42.例文帳に追加

レーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）は、光源部４１およびターゲット部４２を備えるＬＰＰターゲットシステム４０を使用して形成される。 - 特許庁

A plasma-generating high frequency is applied to the second upper electrode 86 through a matching unit from a high-frequency power source 96.例文帳に追加

この第２上部電極８６には高周波電源９６より整合器を介してプラズマ生成用の高周波が印加される。 - 特許庁

As a result, the manufacturing costs are reduced to the specification change of the ECR ion source such as size increase of the plasma chamber.例文帳に追加

この結果、プラズマチャンバーの大型化などＥＣＲイオン源の仕様変更に対して、製造コストを低減させることができる。 - 特許庁

The plasma light source includes a pair of oppositely disposed coaxial electrodes 10, a discharge environment protective device 20 and a voltage applying device 30.例文帳に追加

対向配置された１対の同軸状電極１０と放電環境保持装置２０と電圧印加装置３０とを備える。 - 特許庁

To provide a laser plasma X-ray source device capable of generating an X-ray having a wave length necessary for an LIGA process.例文帳に追加

ＬＩＧＡプロセスに必要な波長のＸ線を発生させることができるレーザープラズマＸ線源装置を提供する。 - 特許庁

In this plasma generator 1, a cathode 2 and an anode 3 are provided opposite to each other and are connected by an accelerating power source A.例文帳に追加

このプラズマ発生装置１は、カソード２とアノード３とが対向して設けられ、加速用電源Ａによって接続されてなる。 - 特許庁

Each arc type evaporating source 42 melts a cathode 46 by vacuum arc discharge to generate plasma containing a cathodic substance.例文帳に追加

各アーク式蒸発源４２は、真空アーク放電によって陰極４６を溶解させて陰極物質を含むプラズマを生成する。 - 特許庁

IPC SOURCE FOR IPVD FOR UNIFORM PLASMA IN COMBINATION OF HIGH PRESSURE DEPOSITION AND LOW PRESSURE ETCHING PROCESS例文帳に追加

高圧力蒸着及び低圧力エッチング処理の組み合わせにおける均一プラズマのためのＩＰＶＤのためのＩＣＰ源 - 特許庁

An output unit 36 outputs the result that the plasma processing has reached the endpoint, to a high frequency power source 12 of an etching device 10.例文帳に追加

出力部３６は、プラズマ処理がエンドポイントに至ったことをエッチング装置１０の高周波電源１２に出力する。 - 特許庁

METHOD OF AND APPARATUS FOR CONTROLLING REACTIVE IMPEDANCE OF MATCHING NETWORK CONNECTED BETWEEN RF SOURCE AND RF PLASMA PROCESSOR例文帳に追加

ＲＦ源とＲＦプラズマ・プロセッサの間に接続された整合ネットワークのリアクタンス性インピーダンスを制御する方法および装置 - 特許庁

An induction connecting type plasma source 43 is provided between the container 3 and the container 2 to form the reaction chamber in an electrodeless structure.例文帳に追加

外容器３と内容器２との間に誘導結合型プラズマ源４３を設けて反応室を無電極構造とする。 - 特許庁

To suppress irradiation of light emitted from a plasma source on a processed object and photograph stably a processing point of the processed object.例文帳に追加

プラズマ源から放射される光が被加工物に照射されるのを抑制し、被加工物の加工点を安定して撮像する。 - 特許庁

By this arrangement, the DC potential of the plasma discharge electrode EL1 is kept at an electromotive force value of the DC voltage source VV.例文帳に追加

このことにより、プラズマ放電電極ＥＬ１の直流電位は、直流電圧源ＶＶの起電力値に維持される。 - 特許庁

The plasma source power supply generates a first RF power for the first antenna and a second RF power for the second antenna.例文帳に追加

プラズマ源電源は、第１のアンテナへの第１のＲＦ電力と、第２のアンテナへの第２のＲＦ電力とを発生させる。 - 特許庁

The method generally includes a process of generating plasma exerting an influence upon the release of halogen species from a given supply source.例文帳に追加

この方法は、一般に、所与の供給源からのハロゲンの種の放出に影響するプラズマを発生する処理、を含む。 - 特許庁

To provide a cathode assembly used as a cathode ion source performing a function of shielding a filament from plasma inside an arc chamber.例文帳に追加

アークチェンバー内のプラズマからフィラメントをシールドする機能を果たすカソードイオン源に使用されるカソード組立体を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma generator which is capable of efficiently generating both molecular ions and atomic ions by using a single ion source.例文帳に追加

一つのイオン源を用いて、分子イオンも、原子イオンも効率よく発生させることのできるプラズマ発生装置を提供する。 - 特許庁

The apparatus includes a plasma gun 30 for evaporating the vapor deposition material, an atmosphere gas supply source 106, and a main control unit 80.例文帳に追加

蒸着材料を蒸発させるプラズマガン３０と、雰囲気ガス供給源１０６と、主制御装置８０と、を備える。 - 特許庁

In the carbon nano wall comprising the hetero atom, material gas comprising the hetero atom and a carbon source can be manufactured by a plasma CVD method.例文帳に追加

ヘテロ原子を含むカーボンナノウォールは、ヘテロ原子と炭素源とを含む原料ガスをプラズマＣＶＤ法により製造できる。 - 特許庁

By using an apparatus for generating an electron-beam-excited plasma, a chemical species having extremely high energy can be produced from a carbon source.例文帳に追加

電子線励起プラズマ発生装置を用いることで、炭素源から極めてエネルギーの高い化学種を生成させることができる。 - 特許庁

Oxygen is supplied from a gas source 4 into the reaction tube 2, and a mixed gas is plasma gasified by a microwave from a microwave generator 5.例文帳に追加

酸素をガス源４から反応管２に供給し、マイクロ波発振器５からのマイクロ波により混合ガスをプラズマ化する。 - 特許庁

In order to maintain a film formation speed, a super high frequency current of 30 to 100 MHz is used for a power source for plasma generation.例文帳に追加

成膜速度を維持するために、プラズマ発生用電源には３０〜１００ＭＨｚの超高周波電流を使用する。 - 特許庁

To provide a plasma display device capable of displaying an image by using a power source for a data electrode whose power supply amount is suppressed.例文帳に追加

電力供給量を抑えたデータ電極用電源を用いて画像表示できるプラズマディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁

To provide an LPP (laser-produced plasma) type EUV light source apparatus which increases an amount of EUV light without increasing an amount of a target material.例文帳に追加

ＬＰＰ型ＥＵＶ光源装置において、ターゲット材料の量を増加させることなくＥＵＶ光量を増加させる。 - 特許庁

To provide a plasma light source capable of stably generating plasma light for EUV emission for a long time (on the order of μsec), reducing erosion of a center electrode tip part due to an arc discharge to greatly prolong the life of the part, and increasing the amount of supply of a plasma medium to increase the density of plasma.例文帳に追加

ＥＵＶ放射のためのプラズマ光を長時間（μｓｅｃオーダーで）安定して発生させることができ、アーク放電による中心電極先端部のエロージョンを低減してその寿命を大幅に延ばすことができ、かつプラズマ媒体の供給量を増加させてプラズマを高密度化できるプラズマ光源を提供する。 - 特許庁

The side face of a film deposition chamber is connected with one or more sets of plasma travelling pipes, while the object to be film-deposited is vertically arranged to the travelling direction of the plasma travelling pipes, and plasma particles generated by a plasma source are emitted to the surface of the object to be film-deposited to deposit a thin film on the surface of the object to be film-deposited.例文帳に追加

成膜チャンバの側面に一組以上のプラズマ進行管が接続されており、該プラズマ進行管の進行方向に対し被成膜物が垂直に配置されており、プラズマ源より発生したプラズマ粒子が被成膜物の表面に照射されることによって被成膜物の表面に薄膜が形成される。 - 特許庁

A plasma ejector 10 of the plasma CVD apparatus 3 includes gas branching units 61-64 with their atmospheres isolated from each other while raw material gas is supplied to each of them from a raw material gas supply source 3B, and a plasma forming chamber 51 for forming plasma of raw material gas diffused in the gas branching units 61-64.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ装置３のプラズマ放出器１０は、原料ガス供給源３Ｂから原料ガスがそれぞれ供給され互いの雰囲気が隔離されたガス分岐ユニット６１〜６４と、ガス分岐ユニット６１〜６４において拡散された原料ガスのプラズマを形成するプラズマ形成室５１とを有する。 - 特許庁

When a high frequency electric power of 13.56 MHz is supplied to a coil 6 via a matching circuit 5 for a plasma generation device by a high frequency power source 4 for the plasma generation device, plasma is generated in a vacuum vessel 1 and plasma processing such as etching, piling and so on is performed for a substrate 8 which is mounted on an electrode 7.例文帳に追加

プラズマ発生装置用高周波電源４により１３．５６ＭＨｚの高周波電力を、プラズマ発生装置用整合回路５を介して、コイル６に供給すると、真空容器１内にプラズマが発生し、電極７上に載置された基板８に対してエッチング、堆積等のプラズマ処理を行うことができる。 - 特許庁

To provide a structure in which a converging solid angle of laser light condensed and made incident in a plasma container can be enlarged in a laser-driven light source which includes the plasma container having a light-emitting medium sealed therein and condensing means for condensing the laser light in the plasma container, and generates plasma in the plasma container by the condensed laser light.例文帳に追加

発光媒体が封入されたプラズマ容器と、レーザ光を該プラズマ容器内に集光させる集光手段とを備え、該集光されたレーザ光によって前記プラズマ容器内にプラズマを生成するレーザ駆動光源において、プラズマ容器に集光入射されるレーザ光の集光立体角を大きくとることができるような構造を提供することである。 - 特許庁

The power source for plasma welding includes: a plasma arc voltage detector VD for detecting a plasma arc voltage Vp between a plasma electrode 1 and a material 4 to be welded; and a keyhole penetration determination means for determining that the keyhole is penetrated when a detection voltage Vd becomes higher than a preliminarily set reference value by inputting the detection voltage Vd of the plasma arc voltage detection detector VD.例文帳に追加

プラズマ電極１と被溶接物４との間のプラズマアーク電圧Ｖｐを検出するプラズマアーク電圧検出器ＶＤと、このプラズマアーク電圧検出器ＶＤの検出電圧Ｖｄを入力して、この検出電圧Ｖｄが予め定めた基準値以上になったときに、キーホールが貫通したと判別するキーホール貫通判別手段とを備えたプラズマ溶接用電源である。 - 特許庁

The temperature of a heat source of a plasma jet is about 1,000°C, and the heat sources are such as the surplus heat source of the factory, and solar light, wind power/hydraulic electricity generations.例文帳に追加

プラズマジェットの熱源の温度は約１，０００度であり、熱源は、工場の余剰熱源、その他、太陽光や風力、水力発電等、二酸化炭素の排出量が少ない方法による。 - 特許庁

In a plasma display device, first and second transistors (yp and Yn) are coupled between a first power source for supplying a first voltage and a second power source for supplying a second voltage lower than the first voltage.例文帳に追加

第１電圧を供給する第１電源及び第１電圧より低い第２電圧を供給する第２電源の間に第１及び第２トランジスタ（Ｙｐ、Ｙｎ）が連結されている。 - 特許庁

To provide a radiation system having a foil trap arranged between a collector such as a vertical incidence collector and a (plasma) light source such that radiation from the light source passes the foil trap twice.例文帳に追加

光源から生じる放射がフォイル・トラップを２度通過するように、垂直入射コレクタなどのコレクタと（プラズマ）光源の間にフォイル・トラップを有する放射システムを提供すること。 - 特許庁

To provide an extreme ultraviolet light source apparatus provided with a magnetic field forming unit having sufficient capability of protection against ions radiated from plasma while using a relatively small magnetic source.例文帳に追加

比較的小型の磁気源を使用しながら、プラズマから放射されるイオンを防御するのに十分な性能を有する磁場形成手段を備えた極端紫外光源装置を提供する。 - 特許庁

A plasma generator 22 has a constitution the same as the plasma generator 12 provided with two electrode plates 23, 24, a high-frequency power source 26, and a NO_x-occluding composition 25 placed between the electrode plates 23, 24.例文帳に追加

プラズマ発生装置２２は、プラズマ発生装置１２と同じ構成であり、２つの電極板２３，２４と、高周波電源２６と、電極板２３，２４間に設けられたＮＯＸ吸蔵材２５とを備えている。 - 特許庁

In this method, the vacuum chamber of a plasma unit contains a step wherein a wafer, having a plurality of integrated circuits including electrical coupling members, is arranged so that the polymer covered surface faces a plasma source.例文帳に追加

前記方法は、前記ポリマー被覆された表面がプラズマ源に面するように、プラズマ装置の真空チャンバ内に、前記結合部材を含む複数の集積回路を有するウエハを配置するステップを有する。 - 特許庁

If a high-frequency power source is connected to the first electrode 2 and high frequency is applied, then plasma is generated between the first electrode 2 and second electrode 17, thus a substrate to be processed is plasma-processed.例文帳に追加

第一の電極２に高周波電源を接続して高周波を印加すると、第一の電極２と第二の電極１７との間にプラズマが発生し、被処理基板にプラズマ処理を施すことができる。 - 特許庁

The radiation source includes: a chamber in which a plasma is generated during usage; and an evaporation surface configured to evaporate a material formed as a by-product from the plasma and emitted to the evaporation surface.例文帳に追加

放射源は、使用中に内部でプラズマが発生するチャンバと、プラズマから副生成物として形成され蒸着面へと放出される材料を蒸着させるように構成された蒸着面を含む。 - 特許庁