「plasma source」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a plasma display apparatus and a driving method that prevent an excessive state of picture quality when the power source is turned off.例文帳に追加

電源が遮断された際の画質の過度状態を防止できるプラズマディスプレイ装置及び駆動方法を提供する。 - 特許庁

The negative electrode 1 for arc plasma source comprises a negative electrode body 2 having a gas outlet tube 3 which extends concentrically with the electrode.例文帳に追加

アーク・プラズマ源用陰極１は、同心的に延びたガス放出管３が形成された陰極本体２を有する。 - 特許庁

The plasma excitation device 1 has a DC power-feeding part 2 arranged and the DC power-feed part 2 is connected to a power source terminal 3.例文帳に追加

プラズマ励起装置１にはＤＣ給電部２が配置され、ＤＣ給電部２は電源端子３に接続される。 - 特許庁

To reduce damage caused on a mirror in a photolithography device which generates EUV radiation by using a plasma source.例文帳に追加

プラズマ源を用いてＥＵＶ放射を発生させるフォトリソグラフィ装置においてミラーに引き起こされる損傷を低減する。 - 特許庁

MAGNETRON REACTOR MADE OF METAL AND FEEDING HIGH DENSITY INDUCTION COUPLING HIGH FREQUENCY PLASMA SOURCE SPUTTERING DIELECTRIC FILM例文帳に追加

金属製及び誘電体膜をスパッタリングする高密度誘導結合高周波プラズマ源を供給するマグネトロンリアクタ - 特許庁

INTERLAYER INSULATING FILM, DIFFUSION PREVENTING FILM AND SOURCE MATERIAL THEREOF, FILM FORMING METHOD AND PLASMA CVD DEVICE FOR FORMING FILM例文帳に追加

層間絶縁膜及び拡散防止膜とこれらのソース材料、膜形成方法、膜形成用プラズマＣＶＤ装置 - 特許庁

The irradiation of an electromagnetic wave such as an RF wave plasmatizes the source material 32 to form a plasma atmosphere 34.例文帳に追加

これによりＲＦ波等の電磁波を照射して、原料ガス３２がプラズマ化したプラズマ雰囲気３４を形成する。 - 特許庁

The ion deflection part 23 shields light emitted from the plasma source 21 and suppresses leakage of light from a housing 27.例文帳に追加

イオン偏向部２３は、プラズマ源２１から放射された光を遮光し、ハウジング２７から光が洩れるのを抑制する。 - 特許庁

The electric power source 12 includes a processor 13 which accepts a feedback signal, and monitors the operation of the plasma cutting-off apparatus 10.例文帳に追加

電力源１２は、フィードバック信号を受け取りプラズマ切断装置１０の作動を監視するプロセッサ１３を含む。 - 特許庁

A reactor 10 contains a plasma reactor chamber 12 for being charged with treating working gas composed so as to be connected to an exhausting source 17.例文帳に追加

リアクタは、処理加工ガスを入れるため及び排気源に接続するように構成されたプラズマリアクタ室を含む。 - 特許庁

A power source 41 is connected between a cathode 11 and a nozzle 12 surrounding the cathode 11 and conducting gas for plasma generation.例文帳に追加

カソード１１と、カソード１１を取り囲み、プラズマ発生用のガスを通すノズル１２との間に電源４１を接続する。 - 特許庁

A power source of the plasma generation is preferably AC of RF frequency, VHF frequency or microwave frequency.例文帳に追加

プラズマ発生用の電源は、ＲＦ周波数、ＶＨＦ周波数またはマイクロ波周波数の交流であることが好ましい。 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR STABILIZING SOURCE LOCATION OF GENERATION OF EXTREME ULTRAVIOLET (EUV) RADIATION BASED ON DISCHARGE PLASMA例文帳に追加

放電プラズマに基づいた極紫外（ＥＵＶ）放射線発生のソース位置を安定させるための方法および装置 - 特許庁

Reactant gases are supplied from the first buffer portion in which the plasma is generated; and source gases are supplied from the second buffer portion.例文帳に追加

第１のバッファ部から反応ガスを供給し、プラズマを発生させ、第２のバッファから原料ガスを供給する。 - 特許庁

The ion plating method is pref. a method using a pressure gradient type DC discharge system as a plasma source.例文帳に追加

また前記イオンプレーティング法が、プラズマ源に圧力勾配型直流放電方式を用いた方法であることが好ましい。 - 特許庁

To provide an energy saving power source for plasma harmful substance removing machine capable of restraining consumption of electrodes.例文帳に追加

電極の消耗を抑えることができると共に、省エネルギー化が可能なプラズマ除害機用の電源装置を提供する。 - 特許庁

To provide a high-density plasma chemical vapor deposition system capable of minimizing the reaction of a source gas in a nozzle.例文帳に追加

ノズル内でソースガスの反応を最小化することができる高密度プラズマ化学気相蒸着装置を提供する。 - 特許庁

To provide a laser plasma light source capable of outputting high EUV while keeping adhesion of debris as low as possible.例文帳に追加

デブリの付着をできるだけ低減しつつ、高いＥＵＶを出力することが可能なレーザプラズマ光源を提供する。 - 特許庁

Further, the plasma light source comprises: a virtual electrode formation device 40 which forms virtual electrodes 41 having lower potentials than that of center electrodes 12 at an isolated position apart from a light emission position of plasma light when residual plasma 3a is discharged after the plasma light emission, so that the residual plasma is accelerated with electrostatic force of the virtual electrodes 41 to be discharged at a high speed.例文帳に追加

さらに、プラズマ光発光後の残留プラズマ３ａの排出時に、プラズマ光の発光位置から離れた離隔位置に、中心電極１２より電位の低い仮想電極４１を形成する仮想電極形成装置４０を備え、残留プラズマを仮想電極４１による静電気力により加速させて高速排気する。 - 特許庁

This mirror magnetic field generation device 1 of the ECR ion source includes: a plasma chamber 2 which generates plasma to be closed in it; and a mirror magnetic field generation part 3 which generates a mirror magnetic field in which a plurality of regular polygonal or circular permanent magnets 32 are arranged around the plasma chamber 2, and for closing the plasma in the plasma chamber 2 in it by the plurality of permanent magnets 32.例文帳に追加

ＥＣＲイオン源のミラー磁場発生装置１は、プラズマを生成し閉じ込めるプラズマチャンバー２と、正多角形または円形の複数の永久磁石３２がプラズマチャンバー２の周囲に配置され、該複数の永久磁石３２によりプラズマチャンバー２内のプラズマを閉じ込めるミラー磁場を生成するミラー磁場生成部３と、を備える。 - 特許庁

After the formation of the plasma, a flow of a fluorine source gas is introduced therein, such that the fluorine source flow accelerates at a rate which is not greater than 1.67 standard cubic centimeters per second 2 (scc/s2).例文帳に追加

プラズマの形成後、フッ素ソースガスフローが導入され、フッ素ソースの流れは１．６７標準立方センチメートル／秒^2（ｓｃｃ／ｓ^2）以下の加速度で加速される。 - 特許庁

A plasma processing device 100 starts supplying an Ar gas from a first inert gas supply source 19a and a second inert gas supply source 19c at t1.例文帳に追加

プラズマ処理装置１００では、ｔ１で第１の不活性ガス供給源１９ａ，第２の不活性ガス供給源１９ｃから、それぞれＡｒガスの供給を開始する。 - 特許庁

A plasma processing apparatus includes: a processing gas supply source 8 installed outside a vacuum chamber 12; and a radical emitter 10 for discharging processing gas supplied from the processing gas supply source 8.例文帳に追加

真空槽１２の外部に設けられた処理ガス供給源８と、処理ガス供給源８から供給された処理ガスを放電させるラジカル放出器１０とを備える。 - 特許庁

To provide a discharge lamp and a discharge lamp device stabilizing a light source by preventing deformation of a pillar of plasma and easily focusing a concave reflector on the light source.例文帳に追加

プラズマ柱の変形を防止して光源を安定させるとともに、光源が凹面反射鏡の焦点に合わせ易くなる放電灯及び放電灯装置を得る。 - 特許庁

To provide a plasma source having a filament made of tantalum and having little deformation due to its own weight at heating of the filament, and to provide an ion source equipped with the same.例文帳に追加

タンタル製のフィラメントを有しており、しかも当該フィラメントの加熱時の自重による変形が少ないプラズマ源およびそれを備えるイオン源を提供する。 - 特許庁

The invention realizes smoothing of surfaces by use of a low energy ion or neutral noble gas beam, which may be formed in an ion source or a remote plasma source.例文帳に追加

本発明は、イオン源またはリモートプラズマ源で形成できる低いエネルギーのイオンまたは中性希ガスのビームを使用して表面の平滑化を実現するものである。 - 特許庁

To provide a microwave ion source capable of changing kinds and the number of charges of the ion as well as operating modes without changing a plasma generating room or an ion source as a whole.例文帳に追加

プラズマ生成室又はイオン源全体を交換せずとも、イオンの種類及び荷数、並びに操作モードを変化させることが可能なマイクロ波イオン源の提供。 - 特許庁

The treatment fluid containing a starting material CF_4 from a treatment fluid source 1 is introduced into a plasma making means 20 and made into plasma and a primary reactant gas containing COF_2, HF and CF_4, etc., is obtained.例文帳に追加

処理流体源１からの出発物質ＣＦ_４を含む処理流体を、プラズマ化手段２０に導入してプラズマ化し、ＣＯＦ_２、ＨＦ、ＣＦ_４等を含む一次反応ガスを得る。 - 特許庁

It is possible to apply the bias voltage which must be varied in accordance with the sustain voltage of a plasma display panel without an additional external power source, as a result, it is possible to reduce the manufacturing cost of the plasma display apparatus.例文帳に追加

パネルのサステイン電圧に応じて可変されなければならないバイアス電圧を別の外部電圧源無しで印加できるので、プラズマディスプレイ装置の製造費用を低減できる。 - 特許庁

In an embodiment of the present invention, an insulating protective layer is formed on a multilayered magnetic layer by a plasma CVD apparatus in which a plasma source and a deposition chamber are separated from each other by a partition plate.例文帳に追加

本発明の一実施形態では、プラズマ源と成膜室を隔壁板により隔離したプラズマＣＶＤ装置により多層磁性層上に絶縁性の保護層を形成する。 - 特許庁

When the plasma discharge is ignited, the switch 32 is closed, and the direct current from the DC power source 7 is applied to the load 31 which is the impedance of the magnitude substantially equal to that of the plasma impedance.例文帳に追加

そして、プラズマ放電に着火すると、スイッチ３２を閉じて、プラズマインピーダンスと略同等の大きさのインピーダンスである負荷３１に、ＤＣ電源７の直流が印加される。 - 特許庁

By moving the local minimum point of the voltage distribution through the change of the output frequency of the high-frequency power source during the plasma discharge, the plasma generation amount within a pair of discharge electrodes is made uniform.例文帳に追加

プラズマ放電中に、高周波電源の出力周波数を変化させ、電圧分布の極小点を移動させ、一対の放電電極内でのプラズマ生成量を均一化させる。 - 特許庁

A system and a method include controlling of particle composition in plasma, by controlling the interaction with electron energy distribution in plasma and a wall, at depositing a thin film on a circuit board by decomposing the source gas.例文帳に追加

原料ガスを分解して基板上に薄膜を堆積する際、プラズマ中の電子エネルギー分布や壁との相互作用を制御することによって、プラズマ中の粒子組成を制御する。 - 特許庁

To provide an electron beam source capable of extremely increasing a discharge current in a plasma generating porous anode without causing the thermal damage to the plasma generating porous anode.例文帳に追加

プラズマ発生用多孔陽極に熱損傷を生じさせることなくプラズマ発生用多孔陽極に流れる放電電流を大電流化することができる電子ビーム源を提供する。 - 特許庁

The dual mode inductively coupled plasma reactor 100 includes a process chamber 110 having a dielectric lid 120 and a plasma source assembly 160 disposed above the dielectric lid 120.例文帳に追加

デュアルモード誘導結合プラズマリアクタ１００は、誘電性蓋部１２０を有する処理チャンバ１１０及び誘電性蓋部１２０の上に配置されたプラズマソースアセンブリ１６０を含む。 - 特許庁

To provide a plasma source that enables to extract a low-energy high-current plasma flow suitable for manufacturing induction fullerenes, and a manufacturing method that allows large-quantity synthesis of induction fullerenes.例文帳に追加

誘導フラーレンの製造に適した低エネルギー大電流のプラズマ流を取り出すことが可能なプラズマ源と、誘導フラーレンの大量合成が可能な製造方法を提供する。 - 特許庁

The discharge source comprises: a pair of electrodes provided with a voltage difference; and a system for producing a plasma between the pair of electrodes so as to provide a discharge in the plasma between the electrodes.例文帳に追加

放電源は、電圧差を提供する１対の電極と、電極間にプラズマ内の放電を提供するために１対の電極間にプラズマを発生させるためのシステムとを含む。 - 特許庁

The plasma reactor has a pair of electrodes sandwiching an exhaust gas flow passage, and is constituted such that voltage is applied to the electrodes by the power source for the plasma reactor.例文帳に追加

本発明のプラズマリアクターは、排ガス流れ流路を挟む電極対を有し、本発明のプラズマリアクター用電源によってこの電極に電圧を印加されることを特徴とする。 - 特許庁

Moreover, a load impedance converting circuit 30 has, for example, a coil and a capacitor, and it puts a plasma generator 2 being the load of a power source 1 for plasma in "delay load" when viewed from the amplifier circuit 20.例文帳に追加

また、負荷インピーダンス変換回路３０は、例えばコイルやコンデンサを有し、プラズマ用電源１の負荷であるプラズマ発生装置２を、増幅回路２０からみて“遅れ負荷”とする。 - 特許庁

Each channel is surrounded by RF coils 54 and 56, to which electric power is independently supplied, and plasma density is made to be variable in each channel 38 and 44 of the plasma source 16.例文帳に追加

各チャネルは、個別に給電されるＲＦコイル５４，５６により囲まれて、プラズマ源１６の各チャネル３８，４４内でプラズマ密度を可変することができるようになっている。 - 特許庁

To provide a plasma light source which is capable of significantly enhancing output of plasma light to be generated and is capable of prolonging a device life by suppressing a thermal load and electrode wear.例文帳に追加

発生するプラズマ光の出力を大幅に高めることができ、かつ熱負荷及び電極消耗を抑えて装置寿命を延ばすことができるプラズマ光源を提供する。 - 特許庁

The substrate treatment equipment is provided with a reaction tube 203 for forming the treatment chamber 201 inside, and treats a wafer 200 by utilizing plasma generated by the plasma source 250 in the treatment chamber 201.例文帳に追加

基板処理装置は、処理室２０１を内部に形成する反応管２０３を備え、処理室２０１内のプラズマ源２５０で生成したプラズマを利用してウェハ２００を処理する。 - 特許庁

In generating this plasma, a high frequency voltage is applied to the discharging electrode 12 by a first high frequency power source 22, and simultaneously to the counter electrode 14 by a second high frequency power source 26; charged particles are thereby enclosed in the plasma to increase plasma density.例文帳に追加

前記プラズマの形成にあたり、第１の高周波電源２２によって放電発生用電極１２に高周波電圧を印加すると同時に、第２の高周波電源２６によって対向電極１４にも高周波電圧を印加し、これによって荷電粒子をプラズマ中に閉じ込めてプラズマ密度を高める。 - 特許庁

The power source control method for the plasma reactor includes a process for calculating the thrown power amount from the measured voltage value and the current value to the plasma reactor; and a process for feedback-controlling the high voltage power source such that the required power amount is fed to the plasma reactor based on the calculated thrown power amount.例文帳に追加

また本発明のプラズマリアクター電源制御方法は、測定された電圧値及び電流値からプラズマリアクターへの投入電力量を算出し、算出された投入電力量に基づいて、要求電力量がプラズマリアクターに供給されるように、高電圧電源をフィードバック制御することを含む。 - 特許庁

In this component analysis method and this component analyzer, while supplying helium gas to an atmospheric pressure plasma source 2 arranged close to an analysis object body, a high-frequency power is supplied from a power source 4, and thereby plasma 5 is generated, and light is emitted from the analysis object body exposed to the plasma 5.例文帳に追加

本発明の成分分析方法及び成分分析装置においては、被分析対象物体に近接して配置された大気圧プラズマ源２にヘリウムガスを供給しつつ、電源４より高周波電力を供給することにより、プラズマ５を発生させて、プラズマ５にさらされた被分析対象物体を発光させる。 - 特許庁