「plasma source」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

The conduit may supply radicals from the plasma radical source to a surface to be cleaned.例文帳に追加

導管は、プラズマラジカル源からクリーニングされる表面へラジカルを供給してもよい。 - 特許庁

SYSTEM FOR PROTECTING INTERNAL COMPONENT OF EUV LIGHT SOURCE FROM PLASMA-GENERATED DEBRIS例文帳に追加

ＥＵＶ光源の内部構成要素をプラズマ生成デブリから保護するためのシステム - 特許庁

In some aspects, the ICP source is used to plasma oxidize the substrate.例文帳に追加

いくつかの局面では、基板をプラズマ酸化するためにＩＣＰ源が用いられる。 - 特許庁

The radiation system comprises a plasma-produced discharge source for generating EUV radiation.例文帳に追加

放射システムは、ＥＵＶ放射を生成するためのプラズマ生成放電源を含む。 - 特許庁

DEVICE HAVING PLASMA RADIATION SOURCE, METHOD OF FORMING RADIATION BEAM, AND LITHOGRAPHY DEVICE例文帳に追加

プラズマ放射源を有する装置、放射ビームを形成する方法、およびリソグラフィ装置 - 特許庁

The apparatus 10 includes the controller of the plasma torch 16 connected to an electric power source 12.例文帳に追加

装置１０は、電力源１２へ接続されたプラズマトーチ１６のコントローラを含む。 - 特許庁

METHOD FOR AUTOMATICALLY JUDGING QUALITATIVE ANALYSIS RESULT IN PLASMA ION SOURCE MASS SPECTROMETER例文帳に追加

プラズマイオン源質量分析装置における定性分析結果の自動判定方法 - 特許庁

In such a case, the substrate is located on a chuck within a reaction chamber, and fluorocarbon gas is led into the reaction chamber under influences of a first plasma source and a second plasma source.例文帳に追加

この場合、基板を反応チャンバ内のチャック上に配置し、第１のプラズマ源及び第２のプラズマ源の影響下でフルオロカーボンガスを反応チャンバ内に導入する。 - 特許庁

This eliminator is provide with a power source, and a plasma discharge electrode part comprising electrodes and a dielectric material covering the electrodes for executing plasma discharge by power supplied from the power source.例文帳に追加

電源と、電極と該電極を覆う誘電体からなりかつ前記電源から供給された電力によりプラズマ放電を行なうプラズマ放電電極部とを備える。 - 特許庁

To provide a high-frequency inductively-coupled plasma source capable of forming plasma having a large outer diameter while restraining a coil diameter.例文帳に追加

コイル径を抑えつつより大きな外径を有するプラズマを形成することができる高周波誘導結合プラズマ源の提供。 - 特許庁

To provide an ion source which can form a superior plasma even when using a raw material gas such as helium ion that is difficult to convert into the plasma.例文帳に追加

ヘリウムイオンのようにプラズマ化しにくい原料ガスであっても良好なプラズマを生成できるイオン源を提供すること。 - 特許庁

Plasma is generated by turning on a plasma power source 8 and applying DC pulse voltage between a partition wall 2 and a base 5.例文帳に追加

プラズマ電源８をオンすることにより、隔壁２と基台５との間に直流パルス電圧を印加してプラズマを発生させる。 - 特許庁

Normally, the step of performing the HD plasma process includes a step of connecting the top electrode to an inductive coupling HD plasma source.例文帳に追加

通常、ＨＤプラズマプロセスを実行するステップは、上部電極を誘導結合ＨＤプラズマソースへ接続するステップを含む。 - 特許庁

The plasma device is constituted so that a plasma gas may be fed to a passage 10 formed in the plasma torch 5 from a gas feeder 6, and each of the electrodes 1, 3, 4 is connected to a power source device 7.例文帳に追加

プラズマトーチ５に形成された通路10にガス供給装置６からプラズマガスを供給し得るように構成し、各電極１，３，４を電源装置７に接続する。 - 特許庁

To provide a plasma light source and a method for generating plasma light capable of stably generating plasma light for EUV irradiation over a long period of time of the order of a μsec.例文帳に追加

ＥＵＶ放射のためのプラズマ光を長時間（μｓｅｃオーダーで）安定して発生させることができるプラズマ光源とプラズマ光発生方法を提供する。 - 特許庁

In this plasma treatment method, an object 9 to be treated arranged in a chamber 1 is treated with a plasma by causing plasma discharge by impressing high-frequency power upon an electrode 5 from a high-frequency power source 15.例文帳に追加

高周波電源１５から電極５に高周波電力を印加してプラズマ放電を発生させ、チャンバー１内に配置された被処理物９をプラズマ処理する。 - 特許庁

Therefore, it becomes possible to induce a plasma beam produced from a plasma source 7 to the main hearth 21 side, and it also becomes possible to induce the plasma beam to the cover 28 side.例文帳に追加

よって、プラズマ源７から生成されたプラズマビームを主ハース２１側へ誘導することが可能となり、プラズマビームをカバー２８側へ誘導することも可能となる。 - 特許庁

The high-density plasma is generated from a cathode 4 of a plasma gun 2 within a vacuum vessel 1 arranged with an evaporation source and the material of the evaporation source is deposited by evaporation on a substrate within the vacuum vessel 1 in the presence of this plasma.例文帳に追加

蒸発源を配置した真空容器１内に、プラズマガン２の陰極４から高密度のプラズマを発生させ、このプラズマの存在下で上記蒸発源の材料を真空容器１内の基体に蒸着させる。 - 特許庁

An asher device 10 includes a plasma source section 430 generating plasma, a susceptor 459 mounting a wafer 600 and two layers of non-metal shield plates 510, 540 disposed between the plasma source section 430 and the susceptor 459.例文帳に追加

アッシャ装置１０は、プラズマを生成するプラズマソース部４３０と、ウエハ６００を載置するサセプタ４５９と、プラズマソース部４３０とサセプタ４５９との間に設けられた、２層の非金属性の遮蔽板５１０、５４０とを有する。 - 特許庁

To provide a high-frequency plasma source, which is configured so that film formation materials on a substrate are not irradiated with generated ions in plasma, a thin film forming device equipped with this plasma source and a thin film forming method using the device.例文帳に追加

プラズマ中の生成イオンが基板上の成膜物質に照射されないように構成された高周波プラズマ源、このプラズマ源を備えた薄膜形成装置、及びこの装置を用いる薄膜形成方法の提供。 - 特許庁

A plasma light source system comprises: a plurality of plasma light sources 10 for periodically emitting plasma light 8 at predetermined light emitting points 1a; and a light-focusing device 40 for focusing the plasma light at the plurality of light emitting points of the plasma light sources, on a single focal point 9.例文帳に追加

所定の発光点１ａでプラズマ光８を周期的に発光する複数のプラズマ光源１０と、プラズマ光源の複数の発光点におけるプラズマ光を単一の集光点９に集光する集光装置４０とを備える。 - 特許庁

An extreme ultraviolet radiation source includes a radiation source material delivery system configured to transmit a radiation source material to a plasma starting site along a predetermined orbit.例文帳に追加

極端紫外線放射源は、放射源材料を所定の軌道に沿ってプラズマ開始サイトへ送るように構成された放射源材料デリバリシステムを含む。 - 特許庁

PLASMA ANALYSIS METHOD AND DEVICE OF HIPIMS SPUTTER SOURCE BY TOF MASS SPECTROSCOPY例文帳に追加

ＴＯＦ質量分析によるＨＩＰＩＭＳスパッタ源のプラズマ解析方法及びその装置 - 特許庁

To prevent damage on an optical mirror due to debris generated by a laser plasma X-ray source.例文帳に追加

レーザプラズマＸ線源で発生したデブリによる光学ミラーの損傷を防止する。 - 特許庁

The cleaning apparatus 42 may comprise a plasma radical source, a conduit, and a radical confinement system.例文帳に追加

クリーニング装置は、プラズマラジカル源、導管およびラジカル閉じ込めシステムを含んでもよい。 - 特許庁

To provide an electron source which has the function of plasma generation, which is not deteriorated, and includes a simple structure.例文帳に追加

プラズマ発生の機能が低下しない、簡単な構造でなる電子源を提供する。 - 特許庁

The oxygen absorbent is provided at the flow passage which originates at a power source device 20 and leads to the plasma torch 10.例文帳に追加

電源装置20を出てプラズマトーチ10にいたる流路に、酸素吸収剤を配設した。 - 特許庁

The dry etching device is provided with a plasma source (ICP) 11 for generating a high-density plasma, a high frequency power source 12 for ICP for controlling the plasma density and a high frequency power source 13 provided on the side of a lower electrode in order to give a bias potential to the substrate.例文帳に追加

ドライエッチング装置は、高密度プラズマを生成するプラズマ源（ＩＣＰ）１１と、プラズマ密度を制御するＩＣＰ用高周波電源１２と、基板に対してバイアス電位を与えるために下部電極側に設けた高周波電源１３とを具備する。 - 特許庁

PLASMA GENERATION METHOD, AND EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

プラズマ発生方法およびこのプラズマ発生方法を用いた極端紫外光光源装置 - 特許庁

LASER PLASMA EXTREME ULTRAVIOLET RADIOACTIVE RAY SOURCE AND METHOD OF GENERATING EXTREME ULTRAVIOLET RADIOACTIVE RAY例文帳に追加

レーザープラズマ極紫外放射線源及び極紫外放射線の発生方法 - 特許庁

Wavelength correction is performed in two stages for an EUV spectroscope using a plasma light source.例文帳に追加

プラズマ光源を用いたＥＵＶ分光器において２段階で波長校正を行なう。 - 特許庁

DEVICE AND METHOD FOR GENERATING MIRROR FIELD FOR CONFINING PLASMA USED IN ECR ION SOURCE例文帳に追加

ＥＣＲイオン源に用いられるプラズマ閉じ込め用のミラー磁場発生装置及び方法 - 特許庁

PLASMA IMMERSION ION IMPLANTATION IN HIGHLY UNIFORM CHAMBER SEASONING PROCESS FOR TOROIDAL SOURCE REACTOR例文帳に追加

トロイダルソースリアクタのための極めて均一なチャンバシーズニングプロセスにおけるプラズマ浸漬イオン注入 - 特許庁

To reduce arcing generation and nozzle erosion in a laser plasma extreme ultra violet radiation source.例文帳に追加

レーザープラズマ極紫外線源におけるアーキングの発生とノズルの浸食を減少させる。 - 特許庁

The plasma opening switch has a transmission line (51, 52) coupling the current source to a load (41).例文帳に追加

このプラズマ開放スイッチは、負荷(41)に電流源を接続する伝送線(51,52)を有する。 - 特許庁

The film deposition system comprises: a plasma chemical vapor growth means having a plasma linear source 7; an ion etching treatment means having an ion etching roller 5 arranged at prescribed intervals with the plasma linear source 7; and a film conveying means making a film 3 pass between the plasma linear source 7 and the ion etching roller 5.例文帳に追加

本発明の成膜装置は、プラズマリニアソース７を有するプラズマ化学気相成長手段と、プラズマリニアソース７と所定間隔をおいて配置されているイオンエッチングローラー５を有するイオンエッチング処理手段と、プラズマリニアソース７とイオンエッチングローラー５との間においてフィルム３を通過させるフィルム搬送手段と、を具備する。 - 特許庁

Plasma 10 pulled out to a deposition chamber from plasma 9 generated by a plasma source 2 is affected by negative substrate bias potential 81, and it becomes plasma 11 where molecular species distribution by negative potential is changed near a substrate.例文帳に追加

プラズマ源２で生成されたプラズマ９から製膜室中へ引き出されたプラズマ１０は、負の基板バイアス電位８１の影響を受け、基板近辺では負電位により分子種分布が変化したプラズマ１１となる。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus and a plasma processing method supplying sufficient power to plasma, avoiding risk of breaking a pulse wave power source by the reflected power, eliminating emission delay of plasma, and depositing a film having excellent performance.例文帳に追加

十分なパワーをプラズマに供給するとともに、反射電力によりパルス波電源が破損するという危険を回避でき、しかも、プラズマの発光遅れを無くして、性能のよい膜を形成可能とする。 - 特許庁

A system and a method are provided for protecting an optical element surface of an EUV light source plasma production chamber from debris generated by plasma formation.例文帳に追加

ＥＵＶ光源プラズマ生成チャンバ光学要素表面をプラズマ形成から生じるデブリから保護するためのシステム及び方法。 - 特許庁

Harmonic ECR (Electron Cyclotron Resonance) plasma is generated by introducing plasma source gas and microwave and applying the mirror magnetic field to perform the sputtering.例文帳に追加

プラズマソースガスを導入するとともに、マイクロ波導入とミラー磁場印加により、ハーモニックＥＣＲプラズマを発生させてスパッタリングを行なう。 - 特許庁

The ion source has a discharge vessel 1a producing plasma and extraction electrodes 4a, 4b and 4c for extracting and accelerating the produced plasma.例文帳に追加

イオン源は、プラズマを生成する放電容器１ａと、生成されたプラズマを引出し加速する引出電極４ａ，４ｂ，４ｃを有する。 - 特許庁

The plasma etch cleaning of a substrate is carried out by using a plasma discharge device provided with an electron source cathode (5) and an anode device (7).例文帳に追加

電子源カソード（５）およびアノード機器（７）を備えたプラズマ放電機器を用いることによって、基板のプラズマエッチ洗浄が実行される。 - 特許庁

To efficiently discharge charged particles such as ions emitted from plasma, in a laser-excited plasma type extreme ultraviolet light source device.例文帳に追加

レーザ励起プラズマ方式の極端紫外光源装置において、プラズマから放出されるイオン等の荷電粒子を効率よく排出する。 - 特許庁

The ion implanter has a plasma source 32 which generates plasma in a vacuum vessel 21 and implants ion in the object W.例文帳に追加

イオン注入装置は真空容器２１内に放電によりプラズマを生成し、基体Ｗにイオンを注入するプラズマ源３２を備える。 - 特許庁

To provide a plasma generating method and a plasma generating device capable of quickly realizing an intended reaction at a low cost, hardly generating malfunction of power source.例文帳に追加

安価に所望の反応が高速で実現でき、電源の故障が生じにくいプラズマ発生方法及び装置を提供する。 - 特許庁