| 例文 |
rough alignmentの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 26件
Rough alignment using the alignment mark M1 is conducted, a first conductive layer 3 is patterned, and the alignment mark M2 is constituted.例文帳に追加
アライメントマークM_1を用いたラフアライメントを行い、第1の導電層3をパターンニングしてアライメントマークM_2を構成する。 - 特許庁
The sheets S1, R1 are provided with alignment patterns including rough alignment patterns and fine alignment patterns.例文帳に追加
シートS1,R1は、ラフ位置合せ用パターンおよび精細位置合せ用パターンを含む位置合せ用パターンが付与されている。 - 特許庁
To provide a coordinate-measuring method capable of measuring the coordinates of alignment marks, even when the accuracy of the coordinate measurement of the alignment mark is low in rough alignment.例文帳に追加
ラフアライメントにおけるアライメントマークの座標測定の精度が低い場合であっても、アライメントマークの座標を測定できる座標の測定方法を提供する。 - 特許庁
To provide a position detector capable of performing rough alignment and high precision alignment of two members, e.g. a mask and a wafer, easily.例文帳に追加
マスクとウエハ等の2つの部材の粗い位置合わせ及び高精度の位置合わせを容易に行うことが可能な位置検出装置を提供する。 - 特許庁
To provide an improved optical alignment method to be used for fabricating a light emitting diode (LED) having a rough surface.例文帳に追加
粗面を有する発光ダイオード(LED)加工時の改良された光学アライメント方法を提供する。 - 特許庁
To provide a position detection apparatus capable of easily performing the rough alignment of a mask and a wafer.例文帳に追加
マスクとウエハとの粗い位置合わせを容易に行うことが可能な位置検出装置を提供する。 - 特許庁
The alignment pattern in the device-forming region is detected through rough alignment based on the reference position provided in the external side of the device-forming region (S15).例文帳に追加
そして、デバイス形成領域外に設けられた基準位置に基づきおおよそのアライメントをしてデバイス形成領域内のアライメント・パターンを検出する(S15)。 - 特許庁
At this time, since the side end S2 of the sheet S is removed, the sheet restriction flag 53 is returned to the alignment position and becomes a rough guide in a sheet width direction.例文帳に追加
このとき、シート規制フラグ53は、シートSの側端S2が外れるので、整合位置に復帰し、シート幅方向のラフガイドとなる。 - 特許庁
In order to make the alignment layer 3 rugged, a solvent composition which makes mesh depth/mesh pitch rough with respect to an alignment plate mesh structure and easily makes the surface rugged with respect to an aligning material is selected.例文帳に追加
配向膜3に凹凸を形成するために、配向板メッシュ構造としてメッシュ深度・メッシュピッチをラフ化し、配向材として表面に凹凸が生じ易い溶剤組成のものを選択する。 - 特許庁
To realize a sharp picture layer display free of a rough surface feel by fixing a position where disclination occurs in a liquid crystal device of a vertical alignment type.例文帳に追加
垂直配向型の液晶装置において、ディスクリネーションの発生位置を固定し、ザラツキ感のない鮮明な画層表示を実現する。 - 特許庁
The positional relation between each inching stage and the alignment sensor for the object is unchanged with respect to all the inching stages even when the rough movement stage is moved.例文帳に追加
微動ステージと、対象物用アライメントセンサとの相対的な位置関係は、粗動ステージを移動させても、すべての微動ステージに関して同じになる。 - 特許庁
To provide a liquid crystal display device with which a display with few rough stains can be obtained by preventing alignment disorder caused in the vicinity of a switching element.例文帳に追加
スイッチング素子近傍に生じる配向の乱れを防止して、ざらしみの少ない表示を得られるようにした液晶表示装置を提供する。 - 特許庁
To provide a fastening screwdriver provided with a screw alignment mechanism capable of retaining a screw on a tip of a bit and continuously fastening screws, and enabling to carry out automatic setting even under a rough screw attitude.例文帳に追加
ビスをビット先端に保持し連続締め付けを可能なビス整列機構備えると共に、ラフなビス姿勢でも自動セット可能とした締結ドライバを提供する。 - 特許庁
A substrate 2 onto which an alignment mark 3 is put is moved from a carry-in position toward a processing position by a moving stage 5, and a first region of the substrate 2 including the alignment mark 3 is imaged at a first magnification by each imaging section 6 for rough adjustment.例文帳に追加
移動ステージ5によって、アライメントマーク3が形成された基板2を、搬入位置から処理位置へ向かって移動させるとともに、各粗調用撮像部6によって、基板2のアライメントマーク3を含む第1領域を、第1倍率で撮像する。 - 特許庁
Though the directivity of the infrared ray light is narrow in the second adjustment, since rough optical axis alignment is already completed by the first adjustment, the optical axis is easily aligned.例文帳に追加
第2の調整においては赤外線光の指向性は狭いが、第1の調整によって既に大まかな光軸合わせが完了しているため、容易に光軸合わせを行うことができる。 - 特許庁
To make a strain in a waveform hardly generated even in rough alignment between a rotary disc and a photoreceiving element or a fixed slit to enhance division precision after multiplied.例文帳に追加
回転ディスクと受光素子もしくは、固定スリットのラフな位置合わせでも波形に歪みを生じにくくすることによって、逓倍後の分割精度を向上させる光学式エンコーダを提供する。 - 特許庁
To provide a vertical alignment type liquid crystal display element wherein liquid crystal molecules in each pixel are stably fall-aligned by applying voltage and which can display an image having satisfactory quality and no rough feeling.例文帳に追加
各画素の液晶分子を電圧の印加により安定に倒れ配向させ、ざらつき感の無い良好な品質の画像を表示することができる垂直配向型の液晶表示素子を提供する。 - 特許庁
On a semiconductor substrate 1, a first wiring 48 and a first alignment wiring 49 embedded in a first low dielectric constant film 47 are formed, and a substrate 30, where a conductor protruding pattern comprising an alignment electrode 45 and a wiring original mold 46 is formed, faces a substrate where a polymer film 50, on which a low dielectric constant film resin is formed, is formed, for rough alignment.例文帳に追加
半導体基板1上に第1の低誘電率膜47に埋め込まれた第1の配線48および第1の目合わせ配線49を形成し、その上に低誘電率膜樹脂を形成するプレポリマー膜50を形成した基板に、目合わせ電極45と配線元型46からなる導電体凸パタンの形成された基板30を対向し、粗目合わせを行なう。 - 特許庁
To keep alignment accuracy and a uniform gap to some extent between substrates by rough alignment and to suppress decrease in a voltage holding rate in a method for manufacturing a liquid crystal display device by using a dripping injection method by dripping a liquid crystal onto a first transparent substrate in a reduced pressure atmosphere and superposing the other transparent substrate thereon to seal the liquid crystal.例文帳に追加
減圧雰囲気中で一の透明基板上に液晶を滴下した後、もう一方の透明基板を重ね合わせて液晶を封入する滴下注入法を用いた液晶表示装置の製造方法に関し、粗合わせである程度の位置合わせ精度と基板間の均一な隙間を保持し、電圧保持率の低下を抑制する。 - 特許庁
To prevent destruction of wiring due to static electricity caused by rubbing and to prevent a C2 orientation by preventing local rough rubbing at a rubbing mask edge (1), to prolong the service life of a rubbing cloth (2), and to reduce the production cost of the rubbing mask (3) in the rubbing mask for alignment control of a liquid crystal panel.例文帳に追加
▲1▼ラビングすることで生じる静電気によって配線が破壊される事を防ぐ、▲2▼ラビングマスク際での極所的な強いラビングを防止してC2配向を防ぐ、▲3▼ラビング布の寿命を延ばす、▲4▼ラビングマスクの製作コストを下げる。 - 特許庁
In wafer exposure (lot processing), a smaller number of alignment marks are detected in a step 608 or 606 to obtain the strain of the wafer, and the plurality of predetermined (conditions for) models are selected based upon rough results thereof in a step 618.例文帳に追加
そして、ウエハ露光(ロット処理)時には、ステップ608又は606において少ない数のアライメントマークを検出してウエハの歪みを求め、ステップ618においてそのラフな結果に基づいて予め決定された複数のモデル(に対する条件)を選択する。 - 特許庁
A photographer, when making rough alignment between the eye to be examined of a subject and a fundus camera while observing the anterior chamber of the eye to be examined, inputs the ID number or name, or the like, of the subject from a control command input means 8 to a control means 5 via a second interface port 7.例文帳に追加
撮影者は被検者の前眼部を観察しながら、被検眼と眼底カメラのラフアライメントを行う際に、被検者のIDナンバ又は患者名等を制御コマンド入力手段8から第2のインタフェースポート7を介して制御手段5に入力する。 - 特許庁
A rough adjustment correction is performed at the initial power on time at the device delivery time in reducing detection data by making the sampling time (width) longer by extending sampling interval correction marks, at the time of performing alignment correction of the respective image forming unit by detecting this by detecting means.例文帳に追加
これを検出手段13により検出して各色画像形成ユニットの位置合わせ補正を行う際の、補正用マークのサンプリング間隔を大きくしてサンプリング時間(幅)を長くして検出データを少なくした粗調補正を装置納入時の初期電源投入時に行う。 - 特許庁
When the switch is turned off, the eyeground observation condition is maintained, a photographer continuously takes another photo, or when he/she judges that the alignment with an eye E to be examined is largely deviated, the mode is switched to the anterior eye portion observation condition by operating an anterior eye portion/eyeground changing switch 7 for rough positioning.例文帳に追加
また、オフである場合には、眼底観察状態が維持されるので、撮影者はそのまま続けて更に1枚撮影してもよいし、被検眼Eとの位置合わせが大きくずれたと判断した場合には、前眼部/眼底切換えスイッチ7を操作して前眼部観察状態に切換え、大まかな位置合わせをし直してもよい。 - 特許庁
The occupied area is reduced by using a continuous structure in which is called the theta mark function for performing comparatively rough alignment against the direction of rotation of a semiconductor wafer and the trimming mark function for accurate alignment against the individual semiconductor integrated circuit that is repetitively arranged can be used for a double purpose.例文帳に追加
また、レーザトリミング位置決め用パターンを、半導体集積回路チップ内の既存のパッド領域内やブリーダ抵抗領域内に形成したり、スクライブラインの交点に配置して、半導体ウエハの回転方向に対する比較的荒い位置合せを行なうためのいわゆるシータマークの機能と、繰り返し配置された半導体集積回路一つ一つに対して正確な位置合せを行なうためのトリミングマークの機能とを兼用できる連続した構造として占有面積の縮小を図った。 - 特許庁
| 例文 |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|