「second exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Exposure calculation is carried out based on an obtained photometric brightness after the photometry in the second frame, and exposure values (diaphragm value, exposure time) are determined to pick up an image in the second frame.例文帳に追加

２駒目の測光の後、得られた測光輝度に基づいて露出演算が行われ、露出値（絞り値、露光時間）が決定され、２駒目の撮像が行われる。 - 特許庁

To accurately expose a second pattern in alignment by compensating the error of a first exposure and the distortion of a printed board when the first exposure is a D/D system and a second exposure is a GA system.例文帳に追加

第１露光がＤ／Ｄ方式で、第２露光がＧＡ方式の場合に、第１露光の誤差とプリント基板の歪みを補償して第２パターンを精度良くアライメントにて露光させる。 - 特許庁

During a second exposure time, the first substrate set is patterned by the second reticle, and the first substrate set is patterned by the second reticle and the first substrate set is exchanged for a second substrate set; then during the second exposure time, the second substrate set is patterned by the second reticle and the second reticle is exchanged for the first reticle.例文帳に追加

第２露光期間中、第２のレチクルにより第１の基板セットをパターニングし第１の基板セットを第２の基板セットと交換し、第２露光期間中、第２の基板セットを第２のレチクルによりパターニングし第２のレチクルを第１のレチクルと交換する。 - 特許庁

In order to obtain a resist pattern of a first exposure pattern in a proximity effect correction process 3, the proximity effect is corrected in respect with the first exposure pattern based on the distribution function of exposure intensity to obtain a second exposure pattern whose pattern size is further changed and to obtain exposure data.例文帳に追加

近接効果補正工程３では、該第１露光パターンのレジストパターンが得られるように、露光強度分布関数に基づき該第１露光パターンに対し近接効果補正して、パターンサイズをさらに変更した第２露光パターンを得るとともに露光量のデータを得る。 - 特許庁

Exposure head displacement mechanisms 33, 34 and 40 are provided for changing the position of the exposure head 31 between a first position for exposure where the optical emission element approaches the photosensitive material 3 on the exposure stand 80, and a second position where the optical emission element moves away from the exposure stand 80.例文帳に追加

露光ヘッド３１を、光出射素子が露光台８０上の感光材料３に近接した露光用の第１位置と、光出射素子が露光台８０から離間した第２位置との間で位置変更する露光ヘッド変位機構３３，３４，４０が設けられている構成とした。 - 特許庁

Exposure is next performed exclusively on the alignment-mark forming regions 22 using second exposure masks for forming the post electrodes for alignment.例文帳に追加

次に、アライメント用ポスト電極形成用の第２の露光マスクを用いて、アライメントマーク形成領域２２のみに対して露光を行なう。 - 特許庁

Alternatively, the first exposure unit 103 may be formed by irradiation of ion beam, and the second exposure unit 104 may be formed by irradiation of electron beam.例文帳に追加

なお、イオンビームの照射により第１露光部１０３を形成し、電子ビームの照射により第２露光部１０４を形成してもよい。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus capable of also implementing photographing under first exposure control together during a photographing mode wherein characteristics of second exposure control are effectively utilized.例文帳に追加

第２の露光制御の特性を活かした撮影モード時において、第１の露光制御による撮影も併せて実施可能な撮像装置を提供する。 - 特許庁

The second resist film 34 in the region B inside the region A is thus subjected to multi-exposure by which the exposure light spreads in the depth direction.例文帳に追加

領域Ａの内側に在る領域Ｂの第２のレジスト膜３４は多重露光され、露光が深さ方向まで行き渡ることになる。 - 特許庁

The first exposure and the second exposure are performed in parallel, by using a number of projection systems, thereby achieving multiple exposures which save time.例文帳に追加

多数の投影系を使用することにより、並行して行なわれるとともに、したがって時間が節約される多重露光が可能になる。 - 特許庁

In the second exposure, photographing sensitivity, a stop value and a shutter speed are determined so that exposure is reduced by two or more steps from the brightness of the background.例文帳に追加

第２露光では、背景の明るさに対して２段階以上の露光アンダとなるように撮影感度，絞り値，シャッタ速度を決定する。 - 特許庁

The semiconductor device includes: a first conductivity type semiconductor substrate 10; and a first exposure part 26 and a second exposure part 26 exposed to the outside.例文帳に追加

半導体装置は、第１導電型の半導体基板１０と、外部に露出した第１露出部２６及び第２露出部２６とを具備する。 - 特許庁

After optimization alignment operation conditions of the exposure device B are determined, the second wafer is fed to the exposure device B.例文帳に追加

露光装置Ｂの最適化アライメト作業条件が決定した後に２枚目のウエハを露光装置Ｂに投入する。 - 特許庁

The first exposure is carried out, for example, using an amplitude mask (6), and the second exposure is carried out using a phase mask (9).例文帳に追加

前記第１の露光は、たとえば振幅マスク（６）を用いて、前記第２の露光は位相マスク（９）を用いて行なわれうる。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and an exposure method which can perform very precise alignment of a first and a second mask and a work.例文帳に追加

第１、第２マスクとワークとの位置決めを高精度に実行することが可能な露光装置および露光方法を提供すること。 - 特許庁

USING SECOND EXPOSURE TO ASSIST PSM EXPOSURE IN PRINTING TIGHT SPACE ADJACENT TO LARGE FEATURE例文帳に追加

大きいフィーチャに隣接する狭いスペースをプリントする際にＰＳＭ露光を支援するための第２の露光の使用 - 特許庁

For example, the first exposure is performed using an amplitude mask (6), and the second exposure is performed using a phase mask (9).例文帳に追加

前記第１の露光は、たとえば振幅マスク（６）を用いて、前記第２の露光は位相マスク（９）を用いて行なわれうる。 - 特許庁

A second shutter member 112 shortens the quantity-of-light increase period and the optical developing period during an exposure period to prevent exposure irregularity.例文帳に追加

第２シャッタ部材１１２は露光期間における光量増加期間および光現象期間を短縮して露光ムラを防止する。 - 特許庁

A period from the completion of exposure to the start of baking after exposure is controlled to be the same for the first and second processings.例文帳に追加

露光処理の終了時から露光後ベークの開始時までの時間は、１回目と２回目で同じになるように制御される。 - 特許庁

The insertion exposure part 35 is inserted in a second exposure port 55 of the outer shield 50, and is operably exposed to the outside.例文帳に追加

この挿通露出部３５は、アウターシールド５０の第２露出口５５に挿通して、操作可能に外部に露出するようになっている。 - 特許庁

The resist pattern, given the first pattern exposure and the second pattern exposure, is developed to form the resist pattern.例文帳に追加

第１回目のパターン露光及び第２回目のパターン露光が行なわれたレジスト膜を現像してレジストパターンを形成する。 - 特許庁

To provide an exposure system for forming a circuit pattern of a first direction and a line/space circuit pattern of a second direction through only one exposure.例文帳に追加

第１の方向の回路パターン及び第２の方向のライン／スペース回路パターンを一回の露光に形成するための露光システムを提供する。 - 特許庁

The second cycle is equal to a time at which exposure data are taken in from the image pickup element in one field after exposure.例文帳に追加

第２周期は、露光終了後に１つのフィールドにおいて撮像素子から露光データが取り込まれる時間と等しい。 - 特許庁

The correction part obtains from an imaging part, which takes a first image in a first exposure period and takes a second image in a second exposure period shorter than the first exposure time, the first image and the second image and corrects displacement of the obtained first image and second image.例文帳に追加

補正部は、第１の露光時間で第１の画像を撮影するとともに、第１の露光時間よりも短い第２の露光時間で第２の画像を撮影する撮影部から、第１の画像と第２の画像とを取得するとともに、取得した第１の画像と第２の画像との位置ずれを補正する。 - 特許庁

As boundary exposure control, processing which changes a synthetic ratio in a second signal processing means, a compression rate and a mixing ratio of brightness information for exposure control is performed in a form which connects the exposure control at the time of a function of a first signal processing means and the exposure control at the time of a function of the second signal processing means.例文帳に追加

境界露出制御として、第２の信号処理手段での合成比率、圧縮率や、露出制御のための輝度情報の混合比を変化させる処理が、第１の信号処理手段の機能時の露出制御と、第２の信号処理手段の機能時の露出制御をつなぐかたちで行われる。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus and an image forming program, for reducing misalignment between exposure positions of a first light source for exposure and a second light source for exposure, due to a difference in temperature and for reducing an image failure occurring due to light emission from the second light source for exposure.例文帳に追加

温度差により生じる第１の露光光源と第２の露光光源との露光位置のズレを減少させるとともに、第２の露光光源の発光により生じる画像欠陥を減少させることができる画像形成装置及び画像形成プログラムを提供する。 - 特許庁

Therefore, by half exposure in a half-exposed region F, a first resist layer R1 is not subjected to exposure reaction, but rather the regions J and K of a second resist layer R2 are made to react to half-exposure light, and the exposure reactions of the first resist layer R1 and the second resist layer R2 can be separated from each other.例文帳に追加

このため、ハーフ露光によりハーフ露光領域Ｆにおいて、第１のレジスト層Ｒ１を露光反応させずに第２のレジスト層Ｒ２の領域Ｊ、Ｋを露光反応させて、第１、第２のレジスト層Ｒ１、Ｒ２の露光反応を分離することができる。 - 特許庁

Thereby, first side portions 91y of the device patterns 91a are formed in a linear manner along the exposure pattern in the first exposure step, and second side portions 91x of the device patterns 91a are formed in a linear manner along the exposure pattern in the second exposure step.例文帳に追加

このため、デバイスパターン９１ａの第１辺部９１ｙは、第１露光工程での露光パターンに沿って直線的に形成され、デバイスパターン９１ａの第２辺部９１ｘは、第２露光工程での露光パターンに沿って直線的に形成される。 - 特許庁

In the multi-exposure method for at least one substrate which is covered with a light sensitive layer, a first exposure is carried out in a first projection system (17) corresponding to an exposure parameter of a first group, and a second exposure is carried out in a second projection system (18) spatially separated from the first projection system (17) using an exposure parameter of a second group.例文帳に追加

感光層により被覆される少なくとも１個の基板の多重露光方法において、第１の露光は、第１組の露光パラメータにしたがって第１の投影系（１７）において行なわれ、第２の露光は、第２組の露光パラメータを用いて、前記第１の投影系（１７）から空間的に分離される第２の投影系（１８）において行なわれる。 - 特許庁

Exposure to a resist film 12 is divided into first exposure (thus forming an exposure section 6) using a first photomask having a first transmitter, and second exposure (thus forming an exposure section 13) using a second photomask 5b having a region where a second light transmitter 4b having a larger area than that of the first transmitter is not overlapped to the first transmitter.例文帳に追加

レジスト膜１２への露光を、第１透過部を有する第１フォトマスクを用いた第１露光（これにより露光部６を形成）と、第１透過部に比して大面積の第２透過部４ｂを第１透過部に重複しない領域において有する第２フォトマスク５ｂを用いた第２露光（これにより露光部１３を形成）とに分割する。 - 特許庁

An additional third layer may be secured to the second layer with a second adhesive to protect the second layer (e.g. fire protection or fluid exposure).例文帳に追加

さらに、第３層が第２層を保護（例えば防火、流体への露出）するために第２接着剤を用いて、第２層に固定されてもよい。 - 特許庁

A mobile phone 1 includes: a housing 10; a display part (a first display part 15 and a second display part); a plurality of exposure openings (from a first side face exposure opening to a second operation surface exposure opening 11d); and a movement means (a first movement mechanism and a second movement mechanism).例文帳に追加

携帯電話機１は、筐体１０と、表示部（第１表示部１５及び第２表示部）と、複数の露出口（第１側面露出口から第２操作面露出口１１ｄ）と、移動手段（第１移動機構及び第２移動機構）とを備える。 - 特許庁

Therefore, even when the second region 65 is exposed by the leaked light in the first exposure step a11, the second region 65 is further exposed to spot light in the second exposure step a12 to eliminate the influence of the exposure by the leaked light.例文帳に追加

したがって第１露光段階ａ１１で第２領域６５が漏れ光によって露光されても、第２露光段階ａ１２でさらに第２領域６５をスポット光によって露光することによって、漏れ光による露光の影響をなくすることができる。 - 特許庁

If the exposure time of the image pickup element is longer than one second, a vertical synchronization signal is outputted at a second cycle longer than the first cycle in a second period during the exposure.例文帳に追加

撮像素子の露光時間が１秒よりも長い場合には、露光の間の第２期間は第１周期よりも長い第２周期で垂直同期信号が出力される。 - 特許庁

The combination of the first range and the second range is larger than the prescribed range of the exposure level.例文帳に追加

上記第１の範囲及び第２の範囲の組合せは、上記露光レベルの所定範囲よりも大きい。 - 特許庁

A predetermined masking exposure 13 is executed to a photoresist layer 9 in a second processing step.例文帳に追加

第２処理ステップにて、予め定められたマスキング露光１３をフォトレジスト層９に施す。 - 特許庁

During a fourth exposure period, the third substrate set is patterned by the second reticle.例文帳に追加

第４露光期間中、第３の基板セットを第２のレチクルによりパターニングする。 - 特許庁

Exposure and storage of the second subframe are finished when reaching the storage time (step S6).例文帳に追加

そして、この蓄積時間に到達すると（ステップＳ６）、第２サブフレームの露光及び蓄積を終了する。 - 特許庁

In a second exposure area UVy2, the polymerization reaction of the ultraviolet curing agent is started again.例文帳に追加

第２照射エリアＵＶｙ２では、紫外線硬化剤の重合反応が再開する。 - 特許庁

The first photodiode 4 and the second photodiode 4' are also capable of performing exposure control separately.例文帳に追加

第１のフォトダイオード４と第２のフォトダイオード４’は、別個に露光制御を行うことも出来る。 - 特許庁

The fluid Lq is sent from the power extraction part 20 to the light exposure part 10 through a second transfer path 32.例文帳に追加

流体Ｌｑを、第２移送路３２にて電力取り出し部２０から光曝露部１０へ送る。 - 特許庁

In the case of a second operating state, the distribution gate is opened overlapping with the other distribution gates during the exposure.例文帳に追加

第二動作状態の場合、露光中に振り分けゲートは他の振り分けゲートと重複して開く。 - 特許庁

Two arms for the first blade and second blade never enter an exposure opening during operation.例文帳に追加

先羽根と後羽根の各々の二つのアームは、作動中も露光開口に入らない。 - 特許庁

The exposure system includes a first holding part 1, a first change part 3 and a second change part 4.例文帳に追加

露光装置は、第１保持部１と第１変更部３と第２変更部４とを備える。 - 特許庁

In the imaging apparatus, the images are picked up under the same exposure condition separately twice for the first half part and the second half part within a field.例文帳に追加

１フィールド内の前半部と後半部の２回に分けて同一露光条件で撮像する。 - 特許庁