「second exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

An optical exposure period is calculated on the basis of a maximum effective value Hr2D of the first histogram and a maximum effective value Hr1D of a second histogram regarding image data obtained by the next shortest Tr1, at exposure time which is next shortest to a first histogram exposure time Tr2.例文帳に追加

第１のヒストグラムの最大有効値Ｈｒ２Ｄと、第１のヒストグラムの露光時間Ｔｒ２の次に短い露光時Ｔｒ１によって得られた画像データに関する第２のヒストグラムの最大有効値Ｈｒ１Ｄとに基づいて最適露光時間を算出する。 - 特許庁

At each exposure spot, the organic EL elements 33 of the first light emitting part Ha1 are made to emit light in the case of exposure by low-luminance emission, while the organic EL elements 33 of the second light emitting part Ha2 are made to emit light in the case of exposure by high-luminance emission.例文帳に追加

そして、各露光スポットにおいて、低輝度発光で露光する場合には第１露光用発光部Ｈａ１の有機ＥＬ素子３３を発光させ、高輝度発光で露光する場合には第２露光用発光部Ｈａ２の有機ＥＬ素子３３を発光させるようにした。 - 特許庁

A distance to the exposure surface of the instant film is measured by a range sensor provided on the exposure head 40, and one of the first correction plate 56a and the second correction plate 56b is inserted between the lens array 54 and the exposure surface, based on this measured result.例文帳に追加

露光ヘッド４０に設けられた測距センサによってインスタントフイルムの露光面までの距離が測定され、この測定結果に基づいてレンズアレイ５４と露光面との間に第１補正板５６ａと第２補正板５６ｂとのいずれか一方が挿入される。 - 特許庁

The exposure device is provided with a first blowout part 150a for blowing out a temperature-controlled gas toward a measurement processing region 120a in the alignment station 120, and a second blowout part 150b for blowing out a temperature-controlled gas toward an exposure processing region 111a in the exposure station 111.例文帳に追加

露光装置は、アライメントステーション１２０内の計測処理領域１２０ａに向けて温調された気体を吹出す第１吹出部１５０ａと、露光ステーション１１１内の露光処理領域１１１ａに向けて温調された気体を吹出す第２吹出部１５０ｂとを備える。 - 特許庁

Moreover, the imaging apparatus 100 calculates an exposure adjustment amount on the basis of a result of the discrimination of the photographing scene of the first image and controls the exposure when acquiring the first image for the live view display and acquiring the second image for the recording on the basis of the exposure adjustment amount.例文帳に追加

また、第１の画像の撮影シーンの判別結果に基づいて露出調整量を算出し、この露出調整量に基づいて、ライブビュー表示用の第１の画像を取得する際と、記録用の第２の画像を取得する際の露出を制御する。 - 特許庁

The method includes an exposure step of irradiating the transfer object body with exposure light using a photomask, wherein the photomask 5 used in the exposure step has a first light shielding pattern 53 and a second light shielding pattern 55 different from the first light shielding pattern formed on the same transparent substrate 51.例文帳に追加

フォトマスクを用いて被転写体に露光光を照射する露光工程を有し、露光工程で用いるフォトマスク５は、同一の透明基板５１上に形成された、第１遮光パターン５３と、該第１遮光パターンとは異なる第２遮光パターン５５とを有する。 - 特許庁

Thus even if the movable blade moves by a large extent during the light exposure, this involves generation of vibration in the first system part IOP1 and residual vibration remains during the light exposure and the vibration will have no adverse effect on the second optical system part and the light exposure main body provided therewith.例文帳に追加

このため、露光動作中に可動ブレードが大きく動き、それに伴って第１部分光学系ＩＯＰ１に振動が発生し、この振動の残留振動が露光中に残ったとしても、その振動は第２部分光学系及びこれが設置された露光本体部に悪影響を殆ど与えることがなくなる。 - 特許庁

A second row of the array of exposure channels 310 is activated to produce a second component of the input of energy assigned to each column of the array when a point 314 of projection of the exposure channel 310 of a second row of the array comes to lie on the image element of the row already exposed by the exposure channel 310 of the first row and the same column.例文帳に追加

アレイの第２の行の露光チャンネル３１０の投影点３１４が、第１の行の同じ列の露光チャンネル３１０によってすでに露光されている行の画素のところに来たときに、アレイの各列に割り当てられたエネルギー注入の第２の割合を生成するために露光チャンネル３１０のアレイの第２の行が制御される。 - 特許庁

In a second exposure step subsequent to first exposure and developing steps, the luminous intensity of irradiation light R2 is decreased to such a degree that, in an area of a second photoresist film 3' irradiated with the irradiation light R2, a saturation exposure region d`exposed enough to be dissolved and removed in the subsequent second developing step has a tapered trapezoid cross section as shown in the figure.例文帳に追加

第１の露光、現像工程に引き続くの第２露光工程において、照射光Ｒ2の光度を、第２フォトレジスト膜３´の照射光Ｒ2により照射されたエリアにおいて後順の第２現像工程で溶解除去され得る程度に感光した飽和感光領域ｄ´が、図示されるような断面が台形の先窄み形状となるまで低減させる。 - 特許庁

In a second exposure step following a first exposure and development step, the luminous intensity of irradiation light R2 is decreased to such a degree that a region d' with saturation exposure in the area irradiated with the irradiation light R2 in a second photoresist film 3' to be dissolved and removed in the succeeding second development step has a trapezoidal converged profile in the cross section as shown in the figure.例文帳に追加

第１の露光、現像工程に引き続くの第２露光工程において、照射光Ｒ2の光度を、第２フォトレジスト膜３´の照射光Ｒ2により照射されたエリアにおいて後順の第２現像工程で溶解除去され得る程度に感光した飽和感光領域ｄ´が、図示されるような断面が台形の先窄み形状となるまで低減させる。 - 特許庁

In a double exposure system for acquiring first and second video images of a camera for first and second exposure times and composing these video images in order to acquire video image of the outside of a vehicle by utilizing the camera, set one or more adjustment indexes are calculated and any one or more of the first and second exposure times are adjusted on the basis of the adjustment indexes.例文帳に追加

カメラを利用して車両の外部の映像を取得するために、第１及び第２露出時間によってカメラの第１及び第２映像を各々取得して、これらを合成する２重露出方式において、設定された一つ以上の調整指数を算出し、前記第１及び第２露出時間のうちの一つ以上を前記調整指数に基づいて調整する。 - 特許庁

A first exposure unit 103 on which electron beam is irradiated and a second exposure unit 104 on which ion beam is irradiated are formed by irradiating electron beam and ion beam on a resist film 102.例文帳に追加

レジスト膜１０２に電子ビームおよびイオンビームを照射して電子ビームが照射された第１露光部１０３およびイオンビームが照射された第２露光部１０４を形成する。 - 特許庁

Then, the optimum exposure amount at which the target resist is satisfied in the second mask is calculated from the difference between the optimum exposure amount in the first mask and the optical intensity (step S14).例文帳に追加

そして、第１のマスクでの最適露光量と光強度の差から、第２のマスクでの目標レジスト寸法を満足する最適露光量を算出する（ステップＳ１４）。 - 特許庁

A film unit 2 with a lens has a first photographing mode to obtain an optimum exposure light quantity when an object is bright, and a second photographing mode to obtain an optimum exposure light quantity when an object is dark.例文帳に追加

レンズ付きフイルムユニット２は、被写体が明るい場合に最適な露光量を得られる第１撮影モードと、被写体が暗い場合に最適な露光量を得られる第２撮影モードとを備えている。 - 特許庁

In the second imaging device, imaging timing and exposure periods can be set on the basis of the received data D4 of imaging timing and data D3 of exposure periods.例文帳に追加

第２の撮像装置では、受信した撮像タイミングのデータＤ４及び露光期間のデータＤ３に基づいて、撮像タイミング及び露光期間を設定することができる。 - 特許庁

The alignment between the substrate layer and the reticles are offset by a predetermined amount (235), the photoresist is subjected to a second exposure (240), and at least one of the photoresist lines printed by the first exposure is branched.例文帳に追加

基板層とレチクル間の整列を所定量だけオフセットして（２３５）、フォトレジストは２回目の露光がされ（２４０）、第１の露光によってプリントされたフォトレジストラインの少なくとも１つを分岐させる。 - 特許庁

Thus, the misalignment in the exposure positions occurring due to the temperature difference is reduced and the image failure occurring due to the light emission by the second light source for exposure is reduced.例文帳に追加

これによれば、温度差により生じる露光位置のズレを減少させるとともに、第２の露光光源の発光により生じる画像欠陥を減少させることができる。 - 特許庁

By exposure, magenta particles 24 are electrified into positive charges and move in the direction to the second substrate 18 so that the magenta particles 22 appear with white insulating particles 26 as the background along the exposure pattern based on the image data.例文帳に追加

露光によりマゼンタ色の粒子２４はプラスに帯電し、第２の基板１８の方向に移動するので、画像データに基いた露光パターンに沿って、マゼンタ色の粒子２２が、白色絶縁性粒子２６を背景として現れる。 - 特許庁

When the photomask 60 is irradiated with the first irradiation light, a trench pattern can be formed by the exposure; and when the photomask is irradiated with the second irradiation light, a contact hole pattern can be formed by the exposure.例文帳に追加

フォトマスク６０に第１照射光を照射すれば、トレンチのパターンを露光でき、第２照射光を照射すればコンタクトホールのパターンを露光できる。 - 特許庁

Each second scribe line 20 extending between adjacent exposure printing regions 14 is wider than each first scribe line 18 extending between adjacent semiconductor devices 12 in each exposure printing region (reticle region) 14.例文帳に追加

隣接する露光焼付け領域の間に延在する第２のスクライブライン２０の幅は、露光焼付け領域（レチクル領域）１４内で隣接する半導体素子１２の間に延在する第１のスクライブライン１８の幅より大きい。 - 特許庁

First original glass 10 has a circuit pattern 14, formed in its first exposure region 12 and an alignment pattern 15 formed in its second exposure region 13.例文帳に追加

第１の原板１０は、その露光用の第１領域１２に回路パターン１４を形成し、露光用の第２領域１３に位置合わせパターン１５を形成する。 - 特許庁

A license plate reader 1 takes an image of the vehicle advancing into an imaging area with an imaging part 3 at a first exposure amount and at a second exposure amount.例文帳に追加

ナンバープレート読取装置１は、撮像部３において撮像領域に進入してきた車両を第１の露光量で撮像するとともに、第２の露光量で撮像する。 - 特許庁

The at least one sensor is operable to output a first set of pixels substantially in the end of the exposure term and to output a second set of pixels substantially in the end of the exposure window.例文帳に追加

少なくとも１つのセンサは、実質的に露出期間の終わりに第１組の画素を出力し、実質的に露出ウィンドウの終わりに第２組の画素を出力するように動作可能である。 - 特許庁

The first inspection unit EE1 inspects the state of a substrate W before exposure processing, and the second inspection unit EE2 inspects the state of the substrate W after the exposure processing.例文帳に追加

第１の検査ユニットＥＥ１は、露光処理前の基板Ｗの状態の検査を行い、第２の検査ユニットＥＥ２は、露光処理後の基板Ｗの状態の検査を行う。 - 特許庁

When exposing, about imaging spot diameter, a first value is set for the normal exposure, and a second value smaller than the first value is set for the high-definition exposure.例文帳に追加

露光時には、結像スポット径に関し、通常露光の場合には第１の値を設定し、高精細露光の場合には第１の値より小さい第２の値を設定する。 - 特許庁

When an output image is formed, the photoreceptor is controlled such that while the regular image area is exposed with the first exposure intensity, the isolated dot area is exposed with the second exposure intensity.例文帳に追加

出力画像を形成する際に、感光体に対して、通常の画像領域では第１の露光強度で露光する一方、孤立ドット領域では第２の露光強度で露光する制御を行う。 - 特許庁

Here, the surface of the substrate faces the emission surface and the first, the second and the third surfaces in at least a part of the exposure of the substrate, and the substrate is exposed with the exposure light from the emission surface via the liquid between the emission surface and the surface of the substrate.例文帳に追加

基板の露光の少なくとも一部において、射出面、第１面、第２面、及び第３面に基板の表面が対向し、射出面と基板の表面との間の液体を介して射出面からの露光光で基板を露光する。 - 特許庁

An exposure calculator 30 includes a first calculator circuit 31, an SDRAM 32, a zone selector 50, an exposure determiner 60 and a second calculator circuit 33.例文帳に追加

露出量算出部３０は第１の算出回路３１、ＳＤＲＡＭ３２、領域選択部５０、露出量決定部６０、および第２の算出回路３３を有する。 - 特許庁

Furthermore, the control part 101 executes setting for changing the exposure time of a camera imaging part 15 to second exposure time when the instruction for illuminating the object is set by the key operation part 104.例文帳に追加

さらに、制御部１０１は、キー操作部１０４よって被写体を照明する指示が設定された際に、カメラ撮像部１５の露光時間を第２の露出時間へ変更する設定を実行する。 - 特許庁

Further, an exposure parameter is changed (S3) to obtain a distance between the centers of gravity of a chief opening in a resist pattern and a second opening in the case of exposure using the half tone type phase shift mask (S4).例文帳に追加

露光パラメータを変化させて（Ｓ３）、ハーフトーン型位相シフトマスクを用いて露光した場合のレジストパターンにおける主開口と第２開口との重心間距離を求める（Ｓ４）。 - 特許庁

In addition, by the control of the exposure amount of a remaining second light beam excepting the first light beam, an exposure control for correcting the characteristic distribution (unevenness by the electrostatic charge or unevenness by the sensitivity) on the surface of the photo-conductor drum 1 is performed.例文帳に追加

さらに，前記第１ビーム光を除く残りの第２ビーム光による露光量制御により感光体ドラム１の表面における特性分布（帯電ムラや感度ムラ）を補正する露光制御を行う。 - 特許庁

Additionally, in the second monitor mark 102, the substrate 1 has, for example, a bent of 124 nm to make the phase difference between exposure light passing through a transparent film 2 and exposure light passing through the openings.例文帳に追加

なお、第２のモニタマーク１０２では、半透明膜２を通過する露光光と開口部を通過する露光光とに９０度の位相差を付けるために、基板１が例えば１２４ｎｍ堀込まれている。 - 特許庁

In picking up the flicker detection image, the exposure control section sequentially controls exposure while alternately switching a first shutter speed and a second shutter speed per predetermined line of the imaging element.例文帳に追加

露光制御部は、フリッカ検出画像の撮像時には、撮像素子の所定のラインごとに、第１シャッタ速度と第２シャッタ速度とを交互に切り替えて順次露光制御する。 - 特許庁

A line sensor is exposed by using a first, a second and a third exposure periods different from one another and image data corresponding to a color image recorded in a negative film is obtained at each exposure period.例文帳に追加

相互に異なる第１、第２および第３の露光時間を用いてラインセンサを露光して、ネガフィルムに記録されたカラー画像に対応した画像データを露光時間毎に得る。 - 特許庁

A first exposure is made with an optical aligner using an L/S pattern, and a second exposure is made using the same L/S pattern but 90° tilted to expose a square lattice pattern 9 on a photoresist film.例文帳に追加

光学露光装置を用いて、 Ｌ／Ｓパタ−ンにより第１の露光を行い、これと９０°傾けたＬ／Ｓパタ−ンにより第２の露光を行ってフォトレジストに正方格子パターン９を露光する。 - 特許庁

A second wafer having the photoresist film formed thereon is disposed in an exposure chamber, an atmosphere pressure or a pressure in the exposure chamber is measured, and a defocus value corresponding to the measured pressure is predicted based on the characteristics (S110 and S111).例文帳に追加

フォトレジスト膜が形成された第２のウェハを前記露光室内に配置し、大気圧又は該露光室内の圧力を測定し、測定された圧力に対応するデフォーカス値を特性に基づいて予測する（Ｓ１１０〜Ｓ１１１）。 - 特許庁

Moreover, the license plate reader 1 associates a taken image taken at the first exposure amount with a taken image taken at the second exposure amount and stores them in a taken image storage part 6.例文帳に追加

また、ナンバープレート読取装置１は、第１の露光量で撮像した撮像画像と、第２の露光量で撮像した撮像画像と、を対応づけて撮像画像記憶部６に記憶する。 - 特許庁

Then, the paper 7 is exposed at two of a first and a second exposure places by the exposure mechanism 22 so that the picture obtained by connecting two pictures is formed on the paper 7.例文帳に追加

そして、露光機構２２によって第１及び第２の２つの露光地点で印画紙７に露光処理が施され、印画紙７上には、２つの画像がつながった画像が形成される。 - 特許庁

The first pattern display member is displayed on the upper surface of the slider, and the second pattern display member is blocked by the slider when the slider is at a block position, and displayed at a position by exposure when the slider is at an exposure position.例文帳に追加

そのスライダの上面部には第１模様表示部材を表示し、スライダの下方の機枠にはスライダが遮蔽位置のときにスライダによって遮蔽され露出位置のときに露出する位置に第２模様表示部材を表示した。 - 特許庁

A second cleaning head 2 is attached to a side of a carry-out hand 4 close to the exposure unit 20, and during a moving and/or carry-out operation of the carry-out hand 4 to the exposure unit 20, the hand removes dust on a photomask M.例文帳に追加

第２クリーニングヘッド２は搬出ハンド４の露光部２０側に装着され、搬出ハンド４の露光部２０への移動及び／又は搬出動作の際に、フォトマスクＭの除塵を行う。 - 特許庁

The illumination control unit also includes a signal supply means for supplying the first rectangular wave signal to the illuminating means when the exposure period is shorter than a fixed length of time whereas it supplies the second rectangular wave signal to the illuminating means when the exposure period is longer than the fixed length of time.例文帳に追加

露光時間が一定時間より短い場合には第１矩形波信号を、露光時間が一定時間以上長い場合には第２矩形波信号を、照明手段に供給する信号供給手段を備える。 - 特許庁

In the B microcomputer 50, the exposure for performing the exposure to a CCD unit 40 is computed by the correction of the first signal according to the second signal.例文帳に追加

このＢμｃｏｍ５０では、ＣＣＤユニット４０への露光を行うための露出量が、上記第２の信号に応じて上記第１の信号が補正されて演算される。 - 特許庁

Exposure is performed once for red color and blue color during single main scanning, and exposure is performed twice for green color of low sensitivity with recording lights from the LEDs 21 and 22 for first and second green.例文帳に追加

１回の主走査中に赤色，青色については１回の露光が行われ、感度の低い緑色については第１，第２緑色用ＬＥＤ２１，２２からの記録光で２回の露光を行う。 - 特許庁

When after-exposure baking in the second patterning is performed, the wafer W is placed at a position that is the same as that in post-exposure baking of the first patterning, with respect to the hot plate 140.例文帳に追加

２回目のパターニングの露光後ベークにおいては、ウェハＷが、熱板１４０に対して１回目のパターニングの露光後ベーク時と同じ位置に載置される。 - 特許庁

To provide a switch knob mechanism and a switch mechanism wherein it can be easier to grasp a situation of target equipments which are directed to be operated by a relative position of a first exposure part and a second exposure part.例文帳に追加

第１露出部と第２露出部との相対位置により操作指示される対象機機の態様を把握し易くすることができるスイッチノブ機構及びスイッチ機構を提供する。 - 特許庁