「second exposure」に関連した英語例文の一覧と使い方(7ページ目) - Weblio英語例文検索

When exposure is finished, a second handler 12a carries the first mask M1 to the pre-alignment stage 5.例文帳に追加

露光が終わると第２のハンドラ１２ａが第１のマスクＭ１をプリアライメントステージ５まで運ぶ。 - 特許庁

The first insulator film, the oxide semiconductor film, and the second insulator film are successively formed without exposure to the atmosphere.例文帳に追加

第１の絶縁膜、酸化物半導体膜および第２の絶縁膜は、大気に曝されることなく連続して形成される。 - 特許庁

Then, light exposure alignment to the GaN-based epitaxial layer is carried out referring to the second alignment mark 120.例文帳に追加

続いて、第２のアライメントマーク１２０を参照しながら、ＧａＮ系エピタキシャル層に対する露光の位置合わせを行う。 - 特許庁

An exposure apparatus radiates light to a display layer of the display medium for a first period indicated by the indicator and a subsequent second period.例文帳に追加

露光装置は、表示媒体の表示層に対して、指示体により指示された第１の期間と、その後の第２の期間とに光を照射する。 - 特許庁

A second composition part 56b sets the composition rate of the short exposure image to the target correction image for each pixel position.例文帳に追加

第２合成部５６ｂは、画素位置ごとに目標補正画像に対する短露光画像の合成比率を設定する。 - 特許庁

The imaging optical system of an opposite pupil type, which is applicable to an exposure apparatus, includes six reflecting mirrors and forms an image of a first plane on a second plane.例文帳に追加

露光装置に適用可能な逆瞳タイプの結像光学系は、６つの反射鏡を備え、第１面の像を第２面上に形成する。 - 特許庁

After exposure of the work piece 208 is completed, an exchange system 216 removes the work piece 208 and replaces it with a second work piece.例文帳に追加

ワークピース２０８の露光が完了した後、交換システム２１６がワークピース２０８を取り出し、第２ワークピースに置き換える。 - 特許庁

A second conductive part 16 is provided at an upper layer of a first conductive part 14 so that an exposure region F including a missing part β is covered.例文帳に追加

第一導電部１４の上層には、欠落部βを含む露呈領域Ｆを 覆うように第二導電部１６が配される。 - 特許庁

Composition of a second and a third pictures photographed by division exposure, such as (f), is started from an image two comas prior in time.例文帳に追加

（ｆ）のように分割露光撮影した２枚目、３枚目の合成を時間的に２コマ分前の画像から始める。 - 特許庁

The exposure condition in a cycle of interest in second and after cycles is determined by also referring to photographing results in past cycles.例文帳に追加

２サイクル目以降の着目サイクルの露出条件は、過去サイクルの撮影結果をも参照して決定する。 - 特許庁

An image processing unit 21 provides the same drawing data to the exposure part 17 in the first period and in the second period.例文帳に追加

画像処理ユニット２１は、第１期間と第２期間とにおいて、露光部１７に同一の描画データを与える。 - 特許庁

The adjustable resist layer provides first and second sets of optical characteristics before and after exposure, respectively.例文帳に追加

その調節可能なレジスト層は、露光前に第１組の光学特性、及び露光後に第２組の光学特性を供する。 - 特許庁

A still picture in long-second exposure during motion picture recording is created by composing a plurality of pieces of motion picture recording data.例文帳に追加

動画記録時の長秒露光時における静止画を動画記録データを複数枚合成して作成する。 - 特許庁

Then, the control unit 9 makes the imaging element 5 output an image signal P3 accumulated in second exposure time.例文帳に追加

続いて、制御部９は撮像素子５に第２露光時間において蓄積された画像信号Ｐ３を出力させる。 - 特許庁

To provide a self-alignment technique capable of forming a fine pattern regardless of the overlay error between first and second exposure masks.例文帳に追加

第１の露光マスクと第２の露光マスクのオーバーレイ誤差によらず、微細なパターンを形成できる自己整合技術を提供する。 - 特許庁

In a second process B, exposure based on the middle-order bit data is performed by using an extinction filter of 1/7 transmittance.例文帳に追加

第２工程Ｂでは透過率１／７の減光フィルターを用いて中位ビットデータに基づく露光を行う。 - 特許庁

To provide an exposure drawing device wherein an alignment mark required to draw a circuit pattern is formed on a second surface of a substrate.例文帳に追加

回路パターンの描画に必要なアライメントマークを基板の第２面に形成するようにする露光描画装置を提供する。 - 特許庁

In an exposure process, a prescribed pattern is exposed on a piece of wafer using a first aligner and a second aligner.例文帳に追加

露光工程においては、第１の露光装置と第２の露光装置とを用いて、１枚のウェハに予め定められたパターンが露光される。 - 特許庁

The first translucent region B and the second translucent region C have approximately the same effective transmittance to exposure light.例文帳に追加

第１半透光領域Ｂ部及び第２半透光領域Ｃは、露光光に対する実効透過率がほぼ等しい。 - 特許庁

Then, the control unit 9 makes the imaging element 5 output an image signal P1 accumulated in the second exposure time.例文帳に追加

続いて、制御部９は撮像素子５に第２露光時間において蓄積された画像信号Ｐ１を出力させる。 - 特許庁

An adder 103 corrects the second image data input to the exposure unit 19 by using the correction amount.例文帳に追加

加算器１０３は、この補正量を用いて、露光装置１９に入力される第２の画像データを補正する。 - 特許庁

The substrate 11 has a first principal surface and a second principal surface opposite to the first principal surface and is transparent to light for exposure.例文帳に追加

透明基板１１は、第１の主面とこの第１の主面と対向する第２の主面を持ち、露光光に対して透明である。 - 特許庁

The second external body portion is normally less than the first external body portion in the degree of exposure to at least one environmental factor.例文帳に追加

第２の身体外部部位は、通常、第１の身体外部部位より、少なくとも１つの環境要因に対する露出度が低い。 - 特許庁

In exposure by the imaging device, the TG generates the vertical transfer pulse of the second frequency and transmits it to the imaging device.例文帳に追加

撮像素子に露光させるときにＴＧは第２の周波数の垂直転送パルスを生成し、撮像素子に送信する。 - 特許庁

To maintain the number of photographed sheets per one second and a frame rate while ensuring a sufficient exposure of an object.例文帳に追加

被写体の十分な露光量を確保しながらも，１秒あたりの撮影枚数やフレームレートを維持する。 - 特許庁

And also, the valve-closing member includes a first surface, a second surface, and a means to reduce the exposure of the first surface to a compressed gas supply.例文帳に追加

該弁閉止部材が、第一面と、第二面と、該第一面が該圧縮ガスの供給源へさらされることを低減するための手段とを含んでいる。 - 特許庁

In 101a, the blanking is applied, and a deflector serving as the main deflector is set to an optimum value of second time exposure and the follower deflector is set to an initial position.例文帳に追加

101aではブランキングをかけ、主偏向器である偏向器２回目の露光の最適値に設定し追従偏向器は初期位置に設定する。 - 特許庁

Also, when the trigger switch is operated in the middle of the second exposure, whether or not any valid image data are stored in the image memory is judged.例文帳に追加

また、２回目の露光の途中でトリガスイッチが操作された場合には、画像メモリに有効な画像データが記憶されているかを判定する。 - 特許庁

After exposure of the work piece 208 is completed, an exchange system 216 removes the work piece 208 and replaces it with a second work piece.例文帳に追加

ワークピース２０８の露光が完了した後、交換システム２１６がワークピース２０８を取り出し、第２ワークピースに置き換える。 - 特許庁

An operation part determines the quantity of exposure of the first light receiving part 510 based on a signal of the second light receiving part 520.例文帳に追加

演算部は、第２受光部５２０の信号に基づき第１受光部５１０の露光量を決定する。 - 特許庁

As a result, the boundary exposure control is performed in a transition period wherein the operation of the first signal processing means and the operation of the second signal processing means are switched.例文帳に追加

つまり第１の信号処理手段の動作と第２の信号処理手段の動作が切り換えられる遷移期間に境界露出制御が行われる。 - 特許庁

To display a photographed image to be predicted on a display almost in real time when performing a long-second exposure.例文帳に追加

長秒時露光を行なっている場合に、予測される撮影後画像をほぼリアルタイムでディスプレイに表示する。 - 特許庁

Thereby, the circuit patterns in the first direction and the second direction different from each other can be transferred to the wafer through only one exposure process.例文帳に追加

これにより、一回の露光工程に相異なる第１の方向及び第２の方向の回路パターンをウェーハに転写できる。 - 特許庁

A second dielectric material 1202 is formed so as to be overlapped with the first structure 1102 having an exposure area of a switching element.例文帳に追加

第２誘電体材料１２０２は、スイッチング素子の露出領域を含む第１構造１１０２に重なるように形成される。 - 特許庁

The blur correction optical system is held at the drive position until the exposure second time Tsh is attained, and thereafter, this system is locked.例文帳に追加

ブレ補正光学系は、経過時間ｔが露光秒時Ｔshに達するまで駆動位置で保持された後にロックされる。 - 特許庁

A first heat exchange member 70 and a second heat exchange member 80 are provided under a heater plate 65 within a post exposure baking device 44.例文帳に追加

ポストエクスポージャーベーキング装置４４内の熱板６５の下方に第１の熱交換部材７０と第２の熱交換部材８０を設ける。 - 特許庁

The mask for charged particle beam exposure includes a first wafer 4 and a second wafer 1 bonded to the first wafer 4.例文帳に追加

本発明の荷電粒子線露光用マスクは、第１のウエハ４と、第１のウエハ４に接合されている第２のウエハ１と、を具備している。 - 特許庁

If the exposure time of the image pickup element is equal to or shorter than one second, a vertical synchronization signal is outputted at the first cycle.例文帳に追加

撮像素子の露光時間が１秒以下の場合には、第１周期で垂直同期信号が出力される。 - 特許庁

The surgical retractor frame being a means for keeping a surgically dissected part in an open or exposure state consists of the first part 12 and the second part 14.例文帳に追加

この外科用レトラクタ・フレ−ムは、容易に種々の所望の形状に調節され得る第一および第二部分剛体フレ−ムから作られている。 - 特許庁

The plurality of pixel circuits 100 sharing the second capacitance are controlled so that exposure periods of the pixel circuits do not overlap with one another.例文帳に追加

各第２容量を共有する複数の画素回路１００は、それぞれの露光期間が重複しないよう制御される。 - 特許庁

On the other hand, when the exposure part is located in a retreat position, the toner collecting container 49 is located in a second position (Fig.7(a)) so that the opening/closing cover cannot be closed.例文帳に追加

一方、露光部が退避位置にあるときには、トナー回収容器４９が第２の位置にあり（図７（ａ））、開閉カバーを閉じることができない。 - 特許庁

Then, when performing long second period exposure, the accuracy of a predictive image is high because the predictive image can be confirmed almost in real time.例文帳に追加

したがって、長秒時露光を行なっている場合に、ほぼリアルタイムで予測画像を確認できるので、予測画像の精度が高い。 - 特許庁

The mask pattern of a phase shift mask has a light shielding pattern and first and second transmitting patterns which transmit exposure light.例文帳に追加

位相シフトマスクのマスクパターンを、遮光パターンと、露光光を透過する第１、第２の透過パターンとから構成する。 - 特許庁

To provide an exposure device capable of accurately correcting the deviation of a projecting position due to the positional deviation of a first stage or a second stage.例文帳に追加

第１ステージまたは第２ステージの位置ずれによる投影位置のずれを正確に補正できる露光装置を提供する。 - 特許庁

The performance inspection of the projection optical system 9 is executed by calculating the difference in the optical characteristics searched using the first and second exposure lights.例文帳に追加

そして、第１及び第２の露光光で求めた前記光学特性の差を算出して投影光学系９の性能検査を行う。 - 特許庁