「semiconductor process」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor integrated circuit device that obtains a driving voltage from atmosphere temperature using a semiconductor process.例文帳に追加

半導体プロセスを用いて、雰囲気温度から駆動電圧を得る半導体集積回路装置を提供する。 - 特許庁

LASER IRRADIATING APPARATUS AND SEMICONDUCTOR FILM CRYSTALLIZING METHOD USING THE SAME AND SEMICONDUCTOR DEVICE MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

レーザー照射装置及びそれを用いた半導体膜の結晶化方法、並びに半導体装置の作製方法 - 特許庁

DIE ATTACH FILM HAVING DICING SHEET FUNCTION AND MANUFACTURING PROCESS OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND SEMICONDUCTOR DEVICE USING IT例文帳に追加

ダイシングシート機能付きダイアタッチフィルム及びそれを用いた半導体装置の製造方法及び半導体装置。 - 特許庁

Additionally, only confirming semiconductor chips can be selected from individually separated semiconductor chips to carry out the soldering process.例文帳に追加

また、個々に分割された半導体チップから良品だけを選別して半田付け工程を行うことができる。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR ELEMENT WITH REINFORCEMENT, WIRING BOARD CONSISTING OF SEMICONDUCTOR ELEMENT, REINFORCEMENT AND SUBSTRATE, AND ITS PRODUCING PROCESS例文帳に追加

補強材付き半導体素子、半導体素子と補強材と基板とからなる配線基板及びその製造方法 - 特許庁

EPOXY RESIN COMPOSITION FOR SEALING OPTICAL SEMICONDUCTOR LIGHT RECEIVING ELEMENT, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND OPTICAL SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

光半導体受光素子封止用エポキシ樹脂組成物およびその製造方法、ならびに光半導体装置 - 特許庁

To provide a process of making a semiconductor lens that can easily form the semiconductor lens in an arbitrary shape.例文帳に追加

任意形状の半導体レンズを容易に形成することが可能な半導体レンズの製造方法を提供する。 - 特許庁

STATIC ELIMINATOR OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATE AND LIQUID CRYSTAL SUBSTRATE SURFACE IN SEMICONDUCTOR AND LIQUID CRYSTAL MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

半導体および液晶製造工程における半導体基板および液晶基板表面の静電除去装置 - 特許庁

To provide a semiconductor device using an SOI substrate without the damage of a semiconductor element during a plasma process.例文帳に追加

プラズマプロセス中における半導体素子の損傷のないＳＯＩ基板を用いる半導体装置を提供する。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device includes a process of bonding the lead 20 to the pad 12 of a semiconductor chip 10.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、半導体チップ１０のパッド１２にリード２０をボンディングすることを含む。 - 特許庁

To perform a sealing process implemented during manufacture of a semiconductor device simultaneously for respective semiconductor devices.例文帳に追加

半導体装置を製造する際に行う封止工程を各半導体装置に対して同時に行えるようにする。 - 特許庁

To prevent the corrosion of a semiconductor layer in a semiconductor device in a cleaning process of the semiconductor device on the semiconductor device and a manufacturing method of the semiconductor device.例文帳に追加

本発明は半導体装置および半導体装置の製造方法に関し、半導体装置の洗浄工程において半導体装置の半導体層の腐食防止を可能とすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a fabrication process of a semiconductor device in which the electrical characteristics of the semiconductor device is improved furthermore, and also to provide a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の電気的特性のさらなる改善を可能とした半導体装置の製造方法及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for molding semiconductor elements which can simplify manufacturing process of a semiconductor apparatus, and a method for cutting the molded semiconductor apparatus.例文帳に追加

半導体装置の製造工程を簡素化できる半導体素子のモールド装置及びモールドされた半導体装置の切断方法を提供する。 - 特許庁

In a fourth process, the semiconductor substrate side surface 23 of the semiconductor apparatus 3 is dry-etched, and the semiconductor substrate is retreated to the thickness direction.例文帳に追加

第４工程では、半導体装置３の半導体基板側表面部２３をドライエッチングして、半導体基板を厚み方向に後退させる。 - 特許庁

Provided is a semiconductor device manufacturing method for manufacturing a gallium nitride-based semiconductor device which comprises: a first semiconductor layer formation process where a first semiconductor layer composed of a gallium nitride-based semiconductor is formed; and a recess part formation process where a recess part is formed by partially dry-etching the first semiconductor layer by means of a micro wave plasma process while using bromine-based gas.例文帳に追加

窒化ガリウム系半導体からなる第１の半導体層を形成する第１半導体層形成工程と、第１の半導体層の一部を、臭素系ガスを用いて、マイクロ波プラズマプロセスでドライエッチングして、リセス部を形成するリセス部形成工程と、を備え、窒化ガリウム系半導体装置を製造する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The growth method of the nitride semiconductor layer comprises (a) a process for forming a first crystalline nitride semiconductor layer on the substrate, (b) a process for forming a nitride semiconductor buffer layer on the first crystalline nitride semiconductor layer and (c) a process for removing the obtained nitride semiconductor buffer layer and forming a second crystalline nitride semiconductor layer.例文帳に追加

（ａ）基板の上に、第１の結晶質窒化物半導体層を形成する工程と、（ｂ）該第１の結晶質窒化物半導体層上に、窒化物半導体バッファ層を形成する工程と、（ｃ）得られた窒化物半導体バッファ層を除去するとともに、第２の結晶質窒化物半導体層を形成する工程とを含む窒化物半導体層の成長方法。 - 特許庁

The manufacturing method for a semiconductor device of thin thickness by cutting a semiconductor substrate 1 comprises a film formation process for forming a film 2 in a side surface 1a of a semiconductor substrate which intersects one principal surface 1b of the semiconductor substrate 1, and a cutting process for cutting the semiconductor substrate 1 thinly after the film formation process.例文帳に追加

半導体基板１を削ることによって薄厚の半導体装置を製造する方法であって、 前記半導体基板１の一つの主面１ｂに対して交差する半導体基板の側面１ａに膜２を設ける成膜工程と、 前記成膜工程の後で半導体基板１を薄く削る削工程とを具備する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which can be manufactured by simpler process than before.例文帳に追加

従来よりも簡単な工程で製造できる半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing a highly reliable semiconductor device efficiently.例文帳に追加

信頼性の高い半導体装置を効率よく製造する方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR CONTROLLING THICKNESS OF THIN FILM IN THIN FILM FORMING PROCESS FOR SEMICONDUCTOR SUBSTRATE例文帳に追加

半導体基板への薄膜形成工程における薄膜厚さ制御方法 - 特許庁

METHOD AND SYSTEM FOR ANALYZING EXHAUST GAS IN SEMICONDUCTOR PROCESS例文帳に追加

半導体プロセス排ガスの分析方法および半導体プロセス排ガスの分析システム - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR MEASUREMENT OF PATTERN FILM THICKNESS IN SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

半導体製造工程におけるパターン部膜厚の測定方法と測定装置 - 特許庁

To reduce the number of photolithography steps in a process for manufacturing a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の作製工程において、フォトリソグラフィ工程数を削減する。 - 特許庁

To provide a highly reliable semiconductor device with its process cost cut.例文帳に追加

工程加工費を削減した信頼性の高い半導体装置を提供する。 - 特許庁

GROOVING PROCESS AND EQUIPMENT FOR CLEAVING/SEPARATING SEMICONDUCTOR MATERIAL例文帳に追加

半導体材料を劈開・分離させるための溝加工方法並びに溝加工装置 - 特許庁

To provide a process in which depositing performance of organic semiconductor features is improved.例文帳に追加

有機半導体フィーチャの堆積性能が改善されたプロセスを提供する。 - 特許庁

To improve the process margin in a semiconductor device and a formation method of the same.例文帳に追加

半導体素子及びその形成方法に関し、工程マージンを向上させる。 - 特許庁

ALIGNER AND PROCESS FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR ELEMENT OR LIQUID CRYSTAL ELEMENT EMPLOYING IT例文帳に追加

露光装置とそれを用いた半導体素子または液晶素子の製造方法 - 特許庁

PROCESS FOR FABRICATING SEMICONDUCTOR DEVICE, INTEGRATED CIRCUIT, ELECTROOPTICAL DEVICE, AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

半導体装置の製造方法、集積回路、電気光学装置、及び電子機器 - 特許庁

DEVICE FOR PRODUCING COMPOUND SEMICONDUCTOR SINGLE CRYSTAL AND PRODUCTION PROCESS USING THE SAME例文帳に追加

化合物半導体単結晶の製造装置及びそれを用いた製造方法 - 特許庁

INTEGRATED REAL-TIME MANAGEMENT METHOD FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING PROCESS AND YIELD ANALYSIS例文帳に追加

半導体製作工程及び歩留まり分析の統合的実時間管理方法 - 特許庁

To provide an electrode structure superior in process damage resistance in a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置に関し、耐プロセスダメージ性に優れた電極構造を提供する。 - 特許庁

MONITOR FET AND PROCESS FOR FABRICATING COMPOUND SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME例文帳に追加

モニターＦＥＴおよびそれを用いた化合物半導体装置の製造方法 - 特許庁

To provide a semiconductor memory which can process data at high speed.例文帳に追加

高速にデータ処理を行なうことができる半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

FABRICATION PROCESS OF SEMICONDUCTOR DEVICE, WET-ETCHING TREATMENT APPARATUS, AND WET-ETCHING METHOD例文帳に追加

半導体装置の製造方法、ウエットエッチング処理装置及び、ウエットエッチング方法 - 特許庁

PROCESS FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE,INTEGRATED CIRCUIT, ELECTROOPTIC DEVICE AND ELECTRONIC APPARATUS例文帳に追加

半導体装置の製造方法、集積回路、電子光学装置及び電子機器 - 特許庁

DEVICE FOR PREVENTING PLASMA FROM ETCHING WAFER CLAMP IN SEMICONDUCTOR PROCESS例文帳に追加

半導体工程においてプラズマのウエハークランプに対するエッチングを予防する装置 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE IN WHICH ELECTRODE FOR EXTERNAL CONNECTION IS ARRANGED AND ITS MANUFACTURING PROCESS例文帳に追加

外部接続用電極を配置した半導体装置及びその製造方法 - 特許庁

SUBATMOSPHERIC SUPPLY OF FLUORINE TO SEMICONDUCTOR PROCESS CHAMBER例文帳に追加

半導体処理チャンバへのフッ素の大気条件よりも低い条件での供給 - 特許庁

To reduce the number of steps in a fabricating process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置において、製造プロセスにおける工程数を削減可能とする。 - 特許庁

To provide a new manufacturing method of a semiconductor device including a polishing process.例文帳に追加

研磨工程を含む新規な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a semiconductor integrated circuit device with high reliability.例文帳に追加

信頼性の高い半導体集積回路装置の製造プロセスを提供する。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE USING DAMASCENE BIT LINE PROCESS, AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加

ダマシンビットライン工程を利用した半導体メモリー装置及びその製造方法 - 特許庁

This heating element is usable as an industrial heating means in a semiconductor manufacturing process or the like.例文帳に追加

半導体製造工程中などの産業用加熱手段に使用できる。 - 特許庁