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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > sub-micronの意味・解説 > sub-micronに関連した英語例文

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sub-micronの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 86



例文

EDGE DETECTOR HAVING SUB-MICRON PRECISION例文帳に追加

サブミクロン精度のエッジ検出器 - 特許庁

This edge detector having sub-micron precision is released.例文帳に追加

サブミクロン精度を有するエッジ検出器を開示する。 - 特許庁

The substrate includes a polyimide and a sub-micron filler.例文帳に追加

基板は、ポリイミドおよびサブミクロン充填材を含む。 - 特許庁

To provide a photoresist composition suitable for high performance applications such as high resolution sub-half micron and sub-quarter micron features.例文帳に追加

高解像サブハーフミクロンおよびサブクオーターミクロンフィーチャーなどの高性能用途に適したフォトレジスト組成物の提供。 - 特許庁

例文

SELF-BIASED CASCODE RF POWER AMPLIFIER IN SUB-MICRON例文帳に追加

サブミクロンサイズの自己バイアスカスコードRF電力増幅器 - 特許庁


例文

An oil separating device is provided for separating micron and sub-micron particles of oil from crankcase gases.例文帳に追加

クランクケース・ガスからミクロンおよびサブミクロン・オイル粒子を分離するためのオイル分離装置が提供される。 - 特許庁

CMOS PIXEL USING VERTICAL STRUCTURE AND SUB-MICRON CMOS PROCESS例文帳に追加

垂直構造およびサブミクロンCMOSプロセスを使用したCMOSピクセル - 特許庁

To realize a method of manufacturing a semiconductor integrated circuit of sub-micron design rule.例文帳に追加

サブミクロンのデザインルールの半導体集積回路の製造方法を提供すること。 - 特許庁

PRECLEANING METHOD PRIOR TO METALLIZATION FOR SUB-QUARTER MICRON APPLICATION例文帳に追加

サブクオーターミクロン適用のための、メタライゼーションに先立つ予備洗浄方法 - 特許庁

例文

DEEP SUB-MICRON RAISED SOURCE/DRAIN CMOS STRUCTURE AND METHOD OF MAKING THE SAME例文帳に追加

積み上げソース/ドレインを持つディープサブミクロンCMOS構造およびその製造方法 - 特許庁

例文

To provide a sub-micron size pump which realizes pumping action without electrical signal.例文帳に追加

ミクロン以下のサイズでポンプ作製を可能とし、電気信号を用いないで、ポンピング動作を可能とする。 - 特許庁

HIGH-ACCURACY DETERMINATION METHOD FOR MEAN PARTICLE DIAMETER OF SUB-MICRON PARTICLE AND DEVICE FOR IMPLEMENTING THE METHOD例文帳に追加

サブミクロン粒子の平均粒径の高精度決定方法とこの方法を実施する装置 - 特許庁

To provide a means for detecting an edge position of an object with sub-micron accuracy.例文帳に追加

サブミクロンの精度で物体のエッジ位置を検出することが可能な手段を提供する。 - 特許庁

To provide a grinder which performs fine pulverization forming particles of which particle size is made constant in a sub-micron size or less.例文帳に追加

粒度を一定にしたサブミクロン以下の微粉砕が可能な磨砕機を提供する。 - 特許庁

To provide a particle measuring method and its device suitable for detection of a trace of particles included in a large volume of fluid (medium) and having a size of several micron (μm) to sub-micron (μm) or several nanometer (nm).例文帳に追加

大容量の流体(媒質)中に混在するサイズが数ミクロン(μm)からサブミクロン(μm)あるいは数ナノメートル(nm)の微量の微粒子の検出に好適な微粒子測定方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

Fine metal lines 2a, 2b, 2c and 2d are formed on the nanometer scale element 1, and sub-micron scale metal wires 3a, 3b, 3c and 3d and micron scale metal electrodes 4a, 4b, 4c and 4d are formed and connected sequentially.例文帳に追加

ナノメータースケール素子1に金属細線2a,2b,2c,2dを形成し、さらにサブミクロンスケールの金属配線3a,3b,3c,3dおよびミクロンスケールの金属電極4a,4b,4c,4dを順次形成し接続するようにしている。 - 特許庁

To enable the misalignment of a flip-chip connection to be evaluated to an accuracy of the order of microns to submicrons without using a large and expensive equipment, where the accuracy of the order of micron to sub- micron must be required in the near future.例文帳に追加

本発明は、今後必要とされるミクロンからサブミクロンレベルのアライメントずれ評価を、大掛かりで高価な装置を用いることもなく可能にすることを目的としている。 - 特許庁

The upward moving distance going over the stop position is practically from several tens of microns to sub-micron mark.例文帳に追加

前記の停止位置を越える上動距離は、実用的には数十ミクロンからサブミクロン台の距離である。 - 特許庁

To provide a process for forming void-free interconnections by metallizing apertures in high aspect sub-half micron applications.例文帳に追加

高アスペクト比のサブハーフミクロン応用において、開口を金属化してボイドの無い相互接続を形成するためのプロセスを提供することである。 - 特許庁

To obtain a high sensitivity positive type radiation sensitive composition having such resolution as to attain sub-quarter-micron patterning.例文帳に追加

サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING DEEP SUB-MICRON CMOS SOURCE/ DRAIN BY USING MDD AND SELECTIVE CVD SILICIDE例文帳に追加

MDDおよび選択CVDシリサイドを用いて深いサブミクロンCMOSソース/ドレインを製造する方法 - 特許庁

ENCODING DEVICE AND ENCODING METHOD FOR ADAPTIVE ADDRESS BUS FOR LOW POWER DEEP SUB-MICRON DESIGN例文帳に追加

低電力ディープ・サブミクロン設計向け適応型アドレスバスのエンコーディング装置とエンコーディング方法 - 特許庁

A trench in sub-micron order is appropriately formed while Si, for example, is epitaxially grown.例文帳に追加

たとえば、Siをエピタキシャル成長させる過程において、適宜、サブミクロン単位のトレンチを形成する。 - 特許庁

To obtain a positive type radiation sensitive composition having high sensitivity and such resolution as to attain sub-quarter-micron patterning.例文帳に追加

サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an X-ray image reconstitution device capable of realizing a sub-micron of spatial resolution, and capable of acquiring an image numeral data in a short time.例文帳に追加

サブミクロンの空間分解能を実現でき、また、画像数値データを短時間で取得できるX線画像再構成装置を提供する。 - 特許庁

To prevent the re-scattering in a separator and to collect even sub- micron particles with a particle size of 1 μm or less.例文帳に追加

分離機内での再飛散を防止し、粒子径が1μm以下のサブミクロン粒子までも捕集できるようにする。 - 特許庁

To enable reliable formation of a T-shaped gate electrode of sub- quarter micron with use of polymethyl metaacrylate(PMMA)-based resist.例文帳に追加

PMMA系レジストを用いてサブクォーターミクロンのT型ゲート電極を確実に形成できるようにする。 - 特許庁

To provide a trash-free antistatic dust-removal system using an impulse wave, which removes even sub-micron particles.例文帳に追加

サブミクロン粒子をも除去することができる衝撃波を用いた無発塵除電除塵システムを提供する。 - 特許庁

To provide a distribution measuring method for a deposition film stuck on the inner face of a contact hole having the diameter of deep sub-micron order.例文帳に追加

ディープサブミクロンオーダーの口径のコンタクトホールの内面に付着した蒸着膜の分布測定方法。 - 特許庁

To obtain a positive radiation sensitive composition having such resolution as to enable sub-quarter micron patterning and also having high sensitivity and to provide a method for producing a resist pattern using the composition.例文帳に追加

サブクォーターミクロンのパターン加工が可能な解像度を持ち、高感度なポジ型感放射線性組成物を得る。 - 特許庁

To provide a method for evaluating an evaporated film adhered on the inside of a contact hole having a diameter of deep sub-micron order.例文帳に追加

ディープサブミクロンオーダーの口径のコンタクトホールの内面に付着した蒸着膜の評価方法。 - 特許庁

To solve the problem that available photoresists are suitable for many applications but existing resists may show notable defects particularly in high-performance application, e.g., in the formation of highly resolved sub-half micron and sub-quarter micron features.例文帳に追加

現在利用可能なフォトレジストは、多数の用途に対し好適であるが、現在のレジストは、また、特に高性能の用途、例えば、高度に解像されたサブ−ハーフミクロンおよびサブ−クォーターミクロン(sub−quarter micron)フィーチャーの形成において、顕著な欠点を示し得る。 - 特許庁

To provide new photoresist compositions which are useful in immersion lithography and exhibit no significant shortcomings in high performance applications such as formation of highly resolved sub-quarter micron and even sub-tenth micron features, and also to provide methods of processing the photoresist compositions.例文帳に追加

高解像1/4ミクロン以下さらには1/10ミクロン以下のフィーチャの形成などの高性能用途において有意な欠点を示さない、液浸リソグラフィに有用な新規フォトレジスト組成物及びその処理する方法を提供する。 - 特許庁

A two-layer structure comprising a sub-micron or micron-sized columnar porous layer and a nano-sized silicon particle layer is arranged on a surface of a silicon single crystal substrate by carrying out electrolytic oxidation for anodizing the silicon single crystal substrate in a hydrofluoric acid-based electrolyte having a predetermined concentration.例文帳に追加

サブミクロン〜ミクロンサイズの柱状多孔質層とナノサイズシリコン粒子層からなる2層構造を、所定濃度のフッ酸系電解液中で、シリコン単結晶基板を陽極酸化する電解酸化することによって、シリコン単結晶基板表面に設ける。 - 特許庁

The inkjet recording medium for proofreading is prepared by applying a sub-layer comprising a water-absorbing inorganic pigment, a latex and boric acid or its salt, and a top layer comprising a sub-micron pigment and polyvinyl alcohol on a substrate.例文帳に追加

支持体上に吸水性無機顔料、ラテックス、ホウ酸またはその塩からなる下層と、サブミクロン顔料、ポリビニルアルコールからなる上層を塗工されてなる校正用インクジェット記録媒体。 - 特許庁

The inkjet recording medium is manufactured by coating a substrate with a sub-layer comprising a water-absorbing inorganic pigment, a latex and boric acid or its salt, and a top layer comprising a sub-micron pigment and polyvinyl alcohol, and performing a cast processing.例文帳に追加

基材上に、吸水性無機顔料、ラテックス、ホウ酸またはその塩からなる下層と、サブミクロン顔料、ポリビニルアルコールからなる上層を塗工し、キャスト処理をして製造されてなるインクジェット記録媒体。 - 特許庁

To provide an inexpensive manufacturing method for a chitosan fine particle not requiring a complex stem of the industrially useful chitosan fine particle of a sub-micron size.例文帳に追加

産業的に有用なサブミクロンサイズのキトサン微粒子の安価で煩雑工程を必要としないキトサン微粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To form a single particulate layer uniformly coated with particulates from about sub-nanometer to micron in a range from about μm^2 to cm^2.例文帳に追加

μm^2 からcm^2 程度の領域で一様にサブナノメーターからミクロン程度の粒径の微粒子がコーティングされた単微粒子層を形成する。 - 特許庁

Thereby, diffusion of slime composed of a nickel particle having a nearly sub micron size to the cathode 13 side can be satisfactorily prevented and uniform nickel bumps 26 can be formed.例文帳に追加

これにより、サブミクロン程度の大きさのニッケル粒子からなるスライムが、陰極13側へ拡散することを良好に防止することができ、均一なニッケルバンプ26を形成することができる。 - 特許庁

If cobalt oxide is used as a starting substance in this manner, particulates of sub-micron order may be adjusted, and all of this is reduced inside the battery to become cobalt metal.例文帳に追加

本発明のように、酸化コバルトを出発物質として用いれば、サブミクロンオーダーの微粒子を調整することも可能となり、これが電池内ですべて還元されてコバルト金属となる。 - 特許庁

These low permittivity thin films include residual carbon, and useful to gap filling layer in the sub-micron element, the premetal dielectric layer, the interlayer dielectric layer, and the shallow trench separating layer.例文帳に追加

これらの低誘電率薄膜は、残留炭素を含んでおり、サブミクロン素子におけるギャップ充填層、プリメタル誘電体層、インターメタル誘電体層および浅いトレンチ分離誘電体層のために有用である。 - 特許庁

To provide technology of forming a gate electrode or a semiconductor film for use in a thin film transistor with precision of a sub-micron order in a simple and inexpensive process.例文帳に追加

本発明は、薄膜トランジスタに用いられるゲート電極や半導体膜を、簡易かつ安価な工程によってサブミクロンオーダーの精度で形成する技術を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for easily producing stable polymer microparticles having wide distribution of particle size including sub-micron in the supercritical carbon dioxide.例文帳に追加

超臨界二酸化炭素中において、安定、かつ、サブミクロンの粒子径を含む広範囲にわたる粒子径を有する高分子微粒子を容易に製造する方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a near-field nanoprobe capable of conducting infrared spectroscopic method, ranging from sub-micron order to several-nanometer order, without being restricted by the opening diameter.例文帳に追加

開口径の制約を受けることなく、サブミクロンから数ナノメートルオーダーの赤外分光法が可能である近接場ナノプローブを提供する。 - 特許庁

Using multiple gate field plates also reduces gate resistance by using multiple connections, thus improving performances of a large peripheral device and/or a sub-micron gate device.例文帳に追加

マルチゲートフィールドプレートを使うと、マルチ接続を使用するので、ゲート抵抗を減らすこともでき、こうして、大周辺デバイスおよび/またはサブミクロンゲートデバイスの性能を向上することができる。 - 特許庁

To improve the accuracy by closely integrating a ball screw with a linear scale to be a load resistant structure and to move a moving object in a sub-micron order.例文帳に追加

ボールねじとリニアスケールを近接一体化して耐荷重構造とし、精度を良くするとともに、移動対象をサブミクロンオーダーで移動することができるようにするものである。 - 特許庁

To provide a powder material of zirconium tungstate or the like having sub-micron or smaller average particle size and a negative thermal expansion property, and to provide a composite material using the above material.例文帳に追加

平均粒径がサブミクロン以下のタングステン酸ジルコニウム等の粉体として負の熱膨張性をもつもの、及びこれを用いた複合材料を得ること。 - 特許庁

To enhance the collection and separation efficiency of fine by particles by preventing re-scattering in a separator and collecting even sub-micron particles with a particle size of an about 1 μm unit.例文帳に追加

分離機内での再飛散を防止し、粒子径が約1μm単位のサブミクロン粒子までも捕集できるようにして微小粒子の捕集と分離効率の向上を図る。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing metal wire pattern for surely forming a metal film of sub-micron order on a transparent substrate, and to provide a backlight system and a liquid crystal display using them.例文帳に追加

サブミクロンオーダーの金属膜を透明基板上に確実に形成することができるメタルワイヤーパタンの製造方法、バックライトシステム及びそれらを用いた液晶ディスプレイを提供する。 - 特許庁

例文

To provide a laser aligner for lithography that makes possible a lithography exposure of sub-micron units such as a pattern line width of 0.3 μm corresponding to a 64-bit DRAM having high integration density.例文帳に追加

高集積密度の高い64ビットDRAMに対応するパターン線巾0.3μmというサブミクロン単位の描画露光が可能となるリソグラフィ用レーザ露光装置を提供する事を目的とする。 - 特許庁

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