「surface process」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

A water repellency imparting process for the semiconductor wafer, for example, a silicon wafer, may includes removing an oxide film from the surface.例文帳に追加

該半導体ウェーハの例としてのシリコンウェーハの撥水化処理は、表面の酸化膜除去を行うことを含んでよい。 - 特許庁

(1) Protruding members (bolts 11) protruded from the surface parts of vertical members (columns P) are provided in a protruding member attaching process.例文帳に追加

（１）鉛直部材（柱Ｐ）の表面部から突出する突出部材（ボルト１１）を設ける突出部材付設工程。 - 特許庁

Then, a smoothing process of smoothing the surface of the wafer W by polishing it into a mirror face by a CMP(chemical mechanical polishing) device 3 is carried out.例文帳に追加

そして、ウエハＷ表面をＣＭＰ装置３で鏡面研磨して平滑化する平滑化工程を実行する。 - 特許庁

In the pre-process, the tool 30 is fed by prescribed cutting amount and feed and a cylindrical surface of the workpiece W is turned.例文帳に追加

前工程では、工具３０を所定の切込量及び送り量で送り、ワークＷの円筒面を旋削加工する。 - 特許庁

In a shot blasting process, shot blasting is executed to the rolled material S, and the surface area of the rolled material S is increased.例文帳に追加

ショットブラスト工程において、圧延材Ｓに対しショットブラストが実施され、圧延材Ｓの表面積が拡大される。 - 特許庁

To provide a silicon wafer suitable for a semiconductor device, which is thinned in a device post process and subjected to polishing of a rear surface.例文帳に追加

デバイス後工程で薄型化され、且つ、裏面研磨される半導体デバイス用として好適なシリコンウェーハを提供する。 - 特許庁

To provide a surface mountable spring pin connector capable of shortening a manufacturing process and enhancing the mounting density.例文帳に追加

製造工程を短縮でき、実装密度を上げることができる表面実装が可能なスプリングピンコネクタを提供する。 - 特許庁

A plasma reinforced chemical vapor deposition process is applied to deposit a thin fluorocarbon layer on a surface of the substrate.例文帳に追加

プラズマ増強化学蒸着プロセスを適用することにより、薄いフルオロカーボン層を基板の表面上に堆積させる。 - 特許庁

First, ferrite powder, thermosetting resin and surface active agent are prepared and these are heated and kneaded (kneading process: S101).例文帳に追加

まず、フェライト粉末と、熱可塑性樹脂及び表面活性剤とを用意して、これらを加熱混練する（混練工程：Ｓ１０１）。 - 特許庁

To provide a process cartridge such that dirt sticking on its surface can easily be removed and an image forming apparatus.例文帳に追加

表面に付着した汚れを容易に除去することができるプロセスカートリッジ及び画像形成装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a substrate treatment apparatus capable of accurately treating a substrate by a wet process and capable of washing even the back surface of the substrate.例文帳に追加

ウェットプロセスによる基板の処理を正確に行ない、基板裏面もむらなく洗浄できる処理装置を提供する。 - 特許庁

A film for semiconductor production process further provided with an adhesive resin layer on the upper surface of the easy-to-adhere layer is also provided.例文帳に追加

また、易接着層の上面に、さらに粘着性樹脂層を設けてなる前記半導体製造工程用フィルム。 - 特許庁

Thus, groups wafers whose differences in the thickness is within the tolerance range are created, and the mirror-surface polishing process is performed for each group.例文帳に追加

以上のようにして、ウェハの厚さの違いが許容範囲内のグループを作成し、グループ毎に鏡面研磨を行う。 - 特許庁

The method includes a process for previously providing a heated glass substrate having a surface on which the coating is to be deposited.例文帳に追加

上記方法には、コーティングが蒸着される表面を有する加熱ガラス基材を供給する過程が含まれる。 - 特許庁

To provide a process for manufacturing an optical film showing excellent optical characteristics such as transparency, surface smoothness.例文帳に追加

透明性及び表面平滑性等光学特性に優れた光学用フィルムの製造方法を提供しようとする。 - 特許庁

Thereafter, width is detected and the surface of tape sliding portion 17 is cylindrically polished and then the magnetic head 11 can be obtained through the slicing process.例文帳に追加

次いで幅出しを行い、テープ摺動部１７の表面を円筒研磨した後、スライスして磁気ヘッド１１を得る。 - 特許庁

SURFACE MODIFIER FOR POWDER, MAGNETIC RECORDING MEDIUM, PRODUCTION PROCESS FOR THE SAME, MAGNETIC COATING MATERIAL, AND NON-MAGNETIC COATING MATERIAL例文帳に追加

粉末用表面改質剤、磁気記録媒体およびその製造方法、ならびに磁性塗料および非磁性塗料 - 特許庁

To provide a process cartridge apparatus in which the surface potential of a photoreceptor can be detected without using a potential sensor.例文帳に追加

電位センサを使用せずに感光体の表面電位を検出できるようにするプロセスカートリッジ装置を提供する。 - 特許庁

The top surface of the process cartridge 50 is provided with two handles 18 and 19 and the directions of these handles are intersected orthogonally with each other.例文帳に追加

プロセスカートリッジ５０の上面に、２つの取っ手１８，１９を設け、かつ、この２つの取っ手の向きを直交させる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an inkjet head, which enables an ink repellent film to be formed on a nozzle surface alone by a simple process.例文帳に追加

簡単な工程により、ノズル面にのみ撥インク膜を形成可能なインクジェットヘッドの製造方法を提案すること。 - 特許庁

To provide a spin processing apparatus which can preferably process the lower surface of a semiconductor wafer.例文帳に追加

この発明は半導体ウエハの下面を良好に処理できるようにしたスピン処理装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To prevent liquid drained from a substrate surface from sticking again to a substrate in a development process, as much as possible.例文帳に追加

いったん基板上から液切りされた液が現像処理中の基板に再付着するのを可及的に防止すること。 - 特許庁

An A-colored coating film surface PA is formed on a body 12 by applying an A-colored coating material in an A-colored area coating process.例文帳に追加

Ａ色エリア塗装工程ではＡ色塗料を塗装してボディ１２にＡ色塗膜面ＰＡを形成する。 - 特許庁

The surface of the solid sample is structure-analyzed by measuring the diffusion process of the ^1H spin as ^13C NMR.例文帳に追加

この^1Hスピンの拡散過程を^13C NMRとして測定することにより、固体試料の表面の構造解析が可能となる。 - 特許庁

After a developing solution is sprayed on the inside surface of the panel 11, a washing process to remove excessive phosphor slurry is carried out.例文帳に追加

そして、パネル11の内面に現像液を吹き付けた後、余分な蛍光体スラリーを除去する洗浄工程を行う。 - 特許庁

To form a concavoconvex pattern full of variety on a surface of a porous panel such as an ALC panel by means of waterjet process.例文帳に追加

ウォータージェット加工により、ＡＬＣパネル等の多孔質パネルの表面に変化に富んだ凹凸模様を形成する。 - 特許庁

To solve a problem that a heater provided in a manifold to heat a liquid and process air makes the lower surface of the manifold very hot.例文帳に追加

液体及びプロセス空気を加熱すべくマニホールドの内部に設けられた加熱器は、マニホールドの下面が高温になる。 - 特許庁

To provide a method for forming a topography extremely reduced on a semiconductor surface formed by a damascene process.例文帳に追加

ダマシーン・プロセスにより形成された半導体表面において、非常に減少されたトポグラフィを得る方法を提供する。 - 特許庁

Then, the second pattern 11 including a desired pattern is formed according to a lithography process on the front surface of the thin film 5.例文帳に追加

その後、薄膜５の表面にリソグラフィ工程により所望のパターンを包含する第２のパターン１１を形成する。 - 特許庁

Alternatively, the texture process applied similarly to the output side disk 3 may also be applied to the circumferential surface 11a of the power roller 11.例文帳に追加

あるいは、出力側ディスク３と同様のテクスチャ加工がパワーローラ１１の周面１１ａに施されてもよい。 - 特許庁

To provide a manufacturing process of a thermoplastic film having low phase difference and the low non-uniformity of thickness and having good surface smoothness.例文帳に追加

位相差や厚みムラが少なく、平面性の良好な熱可塑性樹脂フィルムの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The surface structure 10 may be manufactured by the simple process step of superposing and joining the bundles of the continuous filaments.例文帳に追加

また連続フィラメントの束を重ねて接合するという簡単な工程で表面構造体１０を製造できる。 - 特許庁

The outer diameter of a pipe portion 14a positioned on the inner peripheral surface of the sleeve 12 is made larger than the outer diameter A owing to the fixedly clamping process.例文帳に追加

スリーブ内周面に位置するパイプ部分１４ａの外径は圧着工程に伴い外径Ａより大きい。 - 特許庁

To provide cleaning equipment in which a circuit pattern on the surface of a substrate can be prevented from corroding in a cleaning process using pure water.例文帳に追加

純水による洗浄工程での基板表面の回路パターンの腐食を防止する洗浄装置を提供する。 - 特許庁

As a result of this process, the unwanted base film adhered to the side and back surface portions of the body for processing, is removed effectively.例文帳に追加

これにより、被処理体の側面部分や裏面部分に付着する不要な下地膜を効率的に除去する。 - 特許庁

The upper part of the inner surface of the windshield 50 is subjected to a heat insulating process using a heat insulating member 70 consisting of a ceramic material.例文帳に追加

フロントガラス５０の内面上部を、セラミックなどを素材とする遮熱部材７０を用いて遮熱処理を施す。 - 特許庁

After the mask member are removed, the metal foil etching process is conducted with the electrolytic plating surface-layer NM as an etching resist.例文帳に追加

マスク材を除去した後に、電解メッキ表面層ＮＭをエッチングレジストとした、金属箔のエッチング処理を行う。 - 特許庁

In the process (c), the film board is jetted with the liquid, while its rear surface is held by a support member 62.例文帳に追加

工程（ｃ）において、フィルム基板は、その背面が支持部材６２により支持された状態で液体が噴射される。 - 特許庁

To provide a simple surface treatment method for magnesium alloy having a simple process and capable of solving a problem of environmental pollution.例文帳に追加

行程が単純で、単純、且つ環境汚染を解決するマグネシウム合金の表面処理方法を提供する。 - 特許庁

Next, in a third process, banking S1 and S2 is formed on the geogrid 5 laid on the excavation surface 8 of the bank body 2.例文帳に追加

次に、第３の工程で、堤体２の掘削面８に敷設されたジオグリッド５上に盛り土Ｓ１（Ｓ２）をする。 - 特許庁

As the above boundary areas, ridge line sections entered to a surface of the magnetic recording medium unavoidably for the process are used.例文帳に追加

上記境界領域として、プロセス上不可避的に磁気記録媒体表面に入る稜線部分を使用する。 - 特許庁

To remarkably improve the surface quality of a saturated norbornene resin film to be produced by a melt film formation process.例文帳に追加

溶融製膜法により製造される飽和ノルボルネン系樹脂フィルムの面質を顕著に改良することができる。 - 特許庁

PROCESS FOR PRODUCING POLYMER MICROSPHERE IN FORM OF SURFACE IMPRINTED CORE-SHELL STRUCTURE FOR SELECTIVELY SEPARATING HEAVY METAL ION例文帳に追加

重金属イオンの選択的分離のための表面刻印入りコア−シェル形態のポリマー微小球体の製造方法 - 特許庁

To prevent alteration of the surface of a protecting film to carbonate or hydroxide in a flat panel display(FPD) fabricating process.例文帳に追加

ＦＰＤ製造工程における保護膜の表面が炭酸塩，水酸化物に変質するのを防止することができる。 - 特許庁

It is preferred that the surface wave plasma process is performed in a gas containing one of or both of hydrogen gas and rare gas.例文帳に追加

表面波プラズマ処理は、水素及び希ガスの一方又は双方を含むガス中で行うことが好ましい。 - 特許庁